静電吐出方式高精細ディスペンサ Q-Jet
Q-jet方式(静電吐出方式)
Q-jet方式(静電吐出方式) | 従来の空圧ディスペンサ方式 | |
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静電吐出は着弾まで液材に静電吸引力が働く |
リアルタイム光学観察系
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同軸顕微鏡光学系(Patent pending)、サイド・ビュー・ユニット(オプション)で吐出、描画状態をリアルタイムで観察 |
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- Agナノ・ペースト
- Cuナノペースト
- その他金属ペースト
- フォト・レジスト
- 各種の樹脂接着剤
- UV硬化樹脂etc.
- Agナノペーストの配線パターニング
- フィラー入り液材:蛍光粒子、シリカ粒子、各種ナノ・マイクロ粒子
- フォト・レジスト・パターニング(マスクレス描画)
- 微細、微小部位への各種の液材塗布
- 樹脂材料(含、接着剤):ピンポイント塗布、ライン描画、ベタ塗り
- 電子部品:キャビティ塗潰し、凹部、凸部への液材塗布
- MLA形成、レンズ・アパーチャ形成
- その他、空圧式ディスペンサやIJで困難なアプリ
ライン塗つぶし | ワークの特定部の塗り潰し(マスク処理) | 厚膜塗布(10µm以上) | キャビティ内の塗り込み |
マイクロレンズアレイ形成 | ガラス端面への接着剤塗布やレンズ形成 | レンズ外周部塗り潰し(アパーチャ) | 微小突起への塗布 |
ガラス貼り合せの為の接着剤 細線描画 | 各種微細パターン描画1 | 各種微細パターン描画2 | 各種微細パターン描画3 |
ドット描画
Agナノペースト:40µmφ | グリセリン:8µmφ |
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Ag ナノペースト・パターニング パターン描画
Agナノペースト(15µm幅 | フォト・レジスト(4µm幅) | フォト・レジスト |
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製品ラインナップ
同軸顕微鏡型ノズルヘッド・ユニット | QDX-500E |
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お客様のご要求に応じた各種カスタム装置設計・製造(量産ライン向けシステム、R&D用特注装置等)
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