DM UVシリーズ ナノ秒レーザーは、シンプルで堅牢な筐体において、最大 60 mJ の高パルスエネルギーを実現します。 ロングパルス幅（～100 ns）と高繰返し周波数（0 ～ 5 kHz）を兼ね備え、半導体製造をはじめ、高パルスエネルギーを必要とする幅広い用途に最適なソリューションを提供します。

高繰り返し・波長可変OPOレーザーと、狭線幅・高精度なTi:Sapphireレーザーをラインアップ。医用イメージング、分光、原子物理、LIDARなど、最先端の光応用研究と産業用途に対応する高性能レーザーソリューションを提供します。

DX & DCシリーズは、高信頼・高効率のコンパクトなレーザーです。高ビーム品質（M2 <1.2）、優れたビーム位置安定性、パルス間の高い安定性を誇り、切断、スクライビング、レーザーマーキングなどのレーザー微細加工に最適な高性能レーザーソリューションを提供します。

DXGシリーズは、産業用・精密加工向けに最適な空冷式ナノ秒Nd:YAGレーザです。DUV（266nm）からUV（355nm）、グリーン（532nm）までラインナップし、最大4mJの高エネルギーパルスを実現しています。コンパクトなオールインワン設計ながら高繰り返し・高安定性を兼ね備え、OEM統合にも最適なモデルもご用意しています。レーザー加工・微細マーキング・半導体・医療・ディスプレイ製造における生産性と精度を革新します。

DPシリーズは、最大1kHzの高繰り返し周波数と高効率を実現し、空冷システムにおける熱管理を簡素化します。最大50mJ@100Hz、20mJ@1kHzのパルスエネルギー（パルス幅6〜12ns）を提供し、IR（1064nm/1030nm）および波長変換（緑、紫外、深紫外）にも対応。冷却方式も複数選択可能で、さまざまな用途に柔軟に対応します。

RXシリーズは、半導体加工、医療機器製造、マイクロマシニングなどにおいて、高速かつ超高精度な性能を提供します。超短パルス、高エネルギー、卓越したビーム安定性を備え、薄膜除去、透明材料加工、太陽電池製造において優れた性能を発揮し、最先端のアプリケーションにおいても信頼性を確保します。

SNシリーズレーザーは、超高速パルス制御と、高いパルスエネルギーを兼ね備え、スクライビング、ガラスカット、医療用微細加工などにおいて卓越した精度を実現します。パルス幅は400 ps～ 5 ns までラインナップしています。材料加工、時間分解分光、イメージング用途に最適です。信頼性と柔軟性を重視して設計されたSNシリーズは、最先端の産業および科学分野において、高速かつ高精度な成果を提供します。

オールファイバの高出力フェムト秒ファイバレーザーです。ポリマ切断、レーザー微細加工、表面構造化、集積フォトニクス機器、ディスプレイ製造、民生用電子向けのアプリケーションに最適です。SESAMフリー発振器で40Gの振動でも動作可能。

高出力のフェムト秒ファイバレーザー。ステントおよび医療機器製造、ガラス切断、半導体・OLED製造、太陽電池製造も最適。最大出力10W、20W、30W、60W、をラインナップ。長期安定性とハンズフリーオペレーションを実現。SESAMフリー技術により堅牢に優れたレーザーです。過酷な環境下でも使用いただけます。

レーザースペックル低減とビームの均一化が可能.。可動式のディフューザー（拡散版）によるレーザースペックルリダクター。過酷な環境でも使用可能な堅牢設計。高q-factorで低消費電力。振幅範囲 800μm。

反射モード（2Dミラー）、透過モード（チューナブルプリズム）で使用可能な、革新的な2次元ビームステアリングミラーです。ビームシフト無。システム組込みに対応。LiDAR、アダプティブヘッドライト、OCT、マシンビジョン、3Dプリンティング、セキュリティなど多彩なアプリケーションで活用いただけます。

固体ダイオード励起Qスイッチレーザー。短パルス、コンパクトで微細レーザー加工に最適。ピーク出力はＭＷ。1064 nm 532 nm 355 nmに対応

電動チューナブルレンズ、手動チューナブルレンズ、ELM（電気式レンズモジュール）の3つの製品ランナップ。高速応答、堅牢性、高信頼性を備えレーザー加工から研究分野、3Dプリント等まで幅広いアプリケーションでご使用いただけます。

QスイッチDPSSレーザー　ナノ秒の短パルス　5ns でパルスエネルギーはmJ。24時間365日運用可能な高信頼性のレーザー。空冷コンパクトで超微細レーザー加工、精密なレーザー加工に最適です。

Optotuneでは革新的な光制御コンポーネントを提供しています：フォーカスチューナブルレンズ（焦点可変レンズ）、高速ステアリングミラー、レーザースペックルリデューサー＆ビームホモジナイザ、ビームシフトデバイス。

パルス幅 500 fs to 10 ps、平均出力 150 W to > 300 W、パルスエネルギー 200 µJ to 3 mJ 高いパルスエネルギーと高い平均出力パワーを兼ね備えた、多用途・多機能のフェムト秒レーザーです。生産プロセスの加速と、科学研究の促進の両方に貢献します。

Quantum X shapeは、2光子重合（2PP）をベースに独自のプリンティングテクノロジーを組み合わせた、多用途での活用が可能な3Dプリンタです。あらゆる2.5D/3D形状での、サブミクロン精度と高い正確性でのラピッドプロトタイピング可能。またウェハースケールのバッチ生産に最適なツールとなっています。

デモ機有微細加工向けフェムト秒ファイバレーザー。きわめて高い堅牢性と優れた安定性。クリーンな超短パルスにより非熱加工を実現。波長1030nm/ 515nm、平均パワー10W / 20W 、可変パルス幅　400 fs – 4 ps /400 fs – 2 ps、

ナノインプリントにおける樹脂硬化方式/プレス⽅式/加圧方式の組み合わせを選択可能。かつレトロフィットを可能にしたR&D専用装置。ナノインプリント・プロセス応用を伴う研究開発を加速します。

高い出力とコントロール性で、最適なレーザー切断／溶接を実現