高度なチューニングメカニズムとDPSSレーザーにより、100Hzの高い繰返し周波数と深紫外から近赤外までの広範な波長可変域を実現しました。最大波長域は210～2400nmです。堅牢でコンパクトな密閉型モジュールで、輸送や移設も容易です。単一ポート出力で、波長調整はコンピュータ制御です。

高繰り返し・波長可変OPOレーザーと、狭線幅・高精度なTi:Sapphireレーザーをラインアップ。医用イメージング、分光、原子物理、LIDARなど、最先端の光応用研究と産業用途に対応する高性能レーザーソリューションを提供します。

DX & DCシリーズは、高信頼・高効率のコンパクトなレーザーです。高ビーム品質（M2 <1.2）、優れたビーム位置安定性、パルス間の高い安定性を誇り、切断、スクライビング、レーザーマーキングなどのレーザー微細加工に最適な高性能レーザーソリューションを提供します。

DXGシリーズは、産業用・精密加工向けに最適な空冷式ナノ秒Nd:YAGレーザです。DUV（266nm）からUV（355nm）、グリーン（532nm）までラインナップし、最大4mJの高エネルギーパルスを実現しています。コンパクトなオールインワン設計ながら高繰り返し・高安定性を兼ね備え、OEM統合にも最適なモデルもご用意しています。レーザー加工・微細マーキング・半導体・医療・ディスプレイ製造における生産性と精度を革新します。

DMシリーズは、Nd:YLFおよびNd:YAGベースのマルチモード高性能レーザーで、最大200mJの高パルスエネルギーおよび400Wの高出力を提供します。コンパクトな筐体で、高信頼性・高効率を兼ね備えています。PIV（粒子画像流速測定）、熱処理、アニール処理などの研究・産業用途において、効率的にかつ省スペースで優れた性能を発揮します。

DPシリーズは、最大1kHzの高繰り返し周波数と高効率を実現し、空冷システムにおける熱管理を簡素化します。最大50mJ@100Hz、20mJ@1kHzのパルスエネルギー（パルス幅6〜12ns）を提供し、IR（1064nm/1030nm）および波長変換（緑、紫外、深紫外）にも対応。冷却方式も複数選択可能で、さまざまな用途に柔軟に対応します。

RXシリーズは、半導体加工、医療機器製造、マイクロマシニングなどにおいて、高速かつ超高精度な性能を提供します。超短パルス、高エネルギー、卓越したビーム安定性を備え、薄膜除去、透明材料加工、太陽電池製造において優れた性能を発揮し、最先端のアプリケーションにおいても信頼性を確保します。

SNシリーズレーザーは、超高速パルス制御と、高いパルスエネルギーを兼ね備え、スクライビング、ガラスカット、医療用微細加工などにおいて卓越した精度を実現します。パルス幅は400 ps～ 5 ns までラインナップしています。材料加工、時間分解分光、イメージング用途に最適です。信頼性と柔軟性を重視して設計されたSNシリーズは、最先端の産業および科学分野において、高速かつ高精度な成果を提供します。

パルス幅 12 or 25 ns、平均出力 1.75 to 2.3 W、パルスエネルギー Up to 140 J at 1053 nm 低繰返し周波数の TW（テラワット） および PW（ペタワット） レーザーポンプ用の新しいフラッシュランプ励起ナノ秒レーザーです。優れたビーム均一性により、チタンサファイアなどレーザー媒質結晶を損傷するリスクを回避できます。

パルス幅 20 +/- 5 ns、平均出力 7.5 to 26 W、パルスエネルギー Up to 260 J PAMDAM（Pseudo Active Mirror Disk Amplifier Module）を搭載することで、繰返し周波数 0.1 Hz で最大 250 J を超える単一ビーム、単一パルスを実現した、フラッシュランプ励起 Nd:glassレーザーです。

パルス幅 50 ns to 8 µs、平均出力 6.5 to 400 W、パルスエネルギー 0.65 to 40 J 出力パルス幅を選択可能な高エネルギー Nd:YAGパルスレーザーです。直感的なグラフィカルユーザーインターフェイス（GUI）備えた革新的な分散型インテリジェンス制御システムで、パルス形状をプログラム可能です。

パルス幅 1 to 18 ns、平均出力 1 to 100 W、パルスエネルギー 5 mJ to 100 J OPCPAアンプのポンピング用に特別に調整された高エネルギー・パルスレーザーシステムです。レーザーの出力は、空間的および時間的に平坦になるように成形され、波形全体にわたって入力チャープパルスを均一に増幅します。

パルス幅 < 350 fs to 10 ps、平均出力 >0.5W to 6W、パルスエネルギー 最大 40 µJ 1台で最大4波長（1050, 515, 343, 2587 nm）を出力できる、非常に小型の空冷式フェムト秒レーザーです。

パルス幅 <500 fs to 10 ps、平均出力 28 to 50 W、パルスエネルギー 最大 500 µJ 最大50W、500μJ。パワフルで多用途なウルトラファースト・ファイバレーザーで、産業用途から科学研究までのあらゆるニーズに応えます。オールインワンの堅牢なフェムト秒レーザーです。

オールファイバの高出力フェムト秒ファイバレーザーです。ポリマ切断、レーザー微細加工、表面構造化、集積フォトニクス機器、ディスプレイ製造、民生用電子向けのアプリケーションに最適です。SESAMフリー発振器で40Gの振動でも動作可能。

高出力のフェムト秒ファイバレーザー。ステントおよび医療機器製造、ガラス切断、半導体・OLED製造、太陽電池製造も最適。最大出力10W、20W、30W、60W、をラインナップ。長期安定性とハンズフリーオペレーションを実現。SESAMフリー技術により堅牢に優れたレーザーです。過酷な環境下でも使用いただけます。

コンパクトなフェムト秒レーザー。超高速微細加工、フェムト秒アブレーション、二光子重合に最適。平均出力最大7W。OEM組込みも可能なオールファイバのレーザーです。メンテナンスに手間がかからず、費用対効果に優れたレーザーです。

単色ピコ秒利得スイッチングレーザー。光ファイバー結合効率40％の高効率を実現（450nm、488 nm、515 nm､640 nm)。ピコ秒、ナノ秒、CW、高速スイッチングCWに対応。完全コンピュータ制御でコンパクトかつお手頃な価格のレーザーです。

近赤外から紫外まで（NIR-UV）対応 のDPSSレーザー。最大出力300µJ @ 1064nm、LiDAR、MALDI-TOF質量分析、LIBS（レーザー誘起ブレークダウン分光法）に最適なレーザーです。またコンパクト設計でOEM組込み用途にも最適です。

移動可能な一体型のナノ秒の波長可変レーザー。光音響イメージング、レーザー分光法、LiDAR、バイオメディカルへの使用が最適。レーザー光源、OPOモジュール、冷却システムなど含め可動式キャビネットに一体化されてあり、お客様のご要望に合わせてフレキシブルご使用いただけます。