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コンパクト・高エネルギー ナノ秒パルス DPSSレーザー Ablon

新商品

Monocrom

コンパクトなナノ秒パルスDPSSレーザー。高パルスエネルギー、短パルス幅、優れたビーム品質を両立し、科学・産業分野の幅広い用途に対応します。パルスエネルギー最大220 mJ、繰返し周波数最大150 Hz。

Ablon ― 一パルスごとに追求する精度

Ablonは、高パルスエネルギー、短パルス幅、優れたビーム品質をコンパクトかつ堅牢な筐体に集約したナノ秒パルスDPSSレーザーです。高輝度で安定した性能を発揮し、科学研究から産業用途まで、要求の厳しいアプリケーションで信頼性の高い運用を実現します。

主な特徴

  • パルスエネルギー：最大 220 mJ
  • 繰返し周波数：最大 150 Hz（標準 50 Hz または 100 Hz）
  • パルス幅：5 ± 2 ns、光学ジッター：< 0.5 ns
  • 優れたビーム集光性
  • DPSS方式による長寿命（予想寿命 10億ショット）
  • 極めて堅牢・安定な設計
  • 防塵密閉構造の光学チャンバー

優れたビーム品質

Ablonのビームプロファイル（1064 nm近視野、532 nm近視野、1064 nm遠視野）

  • 均一な強度分布により、利用可能なパルスエネルギーを最大化し、ターゲットを均質に照射します。
  • なめらかなビームエッジが回折の影響を抑え、ビーム整形・結像光学系を通過した後も予測しやすいエネルギー分布が得られます。
  • 遠視野ではガウシアンに近い分布となり、優れたビーム品質を保ったまま、小さく対称なスポットに効率よく集光できます。

パルスエネルギーと時間波形の安定性

Ablonの長期パルスエネルギー安定性とパルス時間波形の測定例

  • 優れた長期エネルギー安定性により、プロセスのばらつきを抑え、頻繁な再校正の必要性を低減します。
  • 約5 nsの短パルスと高い時間波形の安定性により、パルスごとに一定のピークパワーが得られます。
  • 低いタイミングジッター（< 0.5 ns）により、外部機器や検出器と高精度に同期できます。

システムへの組み込みが容易な設計

Ablonのレーザー制御ソフトウェア画面

  • 直感的な制御ソフトウェアにより、レーザーの操作が容易です。サービス機能を統合しており、効率的なリモート診断と技術サポートが可能です。
  • チラー内蔵のオールインワン制御ユニット。内部／外部トリガーに対応し、同期信号を出力します。

プラグ&プレイ式の高調波オプション

Ablonの高調波・減衰モジュール構成（ATTN、SH、SH+TH）

独立型の高調波モジュールまたは減衰モジュールを、レーザー光学ヘッドに容易に取り付けられます。

  • ATTN（減衰モジュール）：1064 nm
  • SH（第2高調波）：532 nm、1064 nm
  • SH + TH（第2・第3高調波）：355 nm、532 nm

DPSS方式のメリット

  • 高い電気効率
  • 優れたビーム品質
  • 安定したパルス特性
  • メンテナンスフリー運用
  • 予想寿命 10億ショット

応用例

非線形光学、OPO/OPA励起

  • ピークパワー 50 MW/パルス：効率的な励起
  • 安定したパルス波形：出力パラメーターの安定化
  • 「トップハット」ビームプロファイル：非線形結晶内での均一なエネルギー分布
  • 最大150 Hzの高繰返し：高い平均出力

大気LiDAR

  • 最大200 mJの高パルスエネルギー：より強い後方散乱信号
  • パルス幅 < 6 ns：距離分解能の向上
  • 優れたエネルギー安定性（typ. 0.4 % RMS）：測定精度の向上
  • 優れたポインティング安定性：長時間にわたる安定した信号収集
  • 最大150 Hzの高繰返し：測定時間の短縮

LIBS（レーザー誘起ブレークダウン分光法）による元素分析

  • ピークパワー 50 MW/パルス：効率的なプラズマ生成
  • 安定したパルス波形：予測可能なプラズマ発展
  • 優れたエネルギー安定性（typ. 0.4 % RMS）：S/N比の向上
  • 優れたビーム集光性：より長い作動距離に対応
  • 最大150 Hzの高繰返し：測定時間の短縮

レーザー超音波（LUS）

  • パルス幅 < 6 ns：広帯域の超音波パルス
  • 優れたエネルギー安定性（typ. 0.4 % RMS）：S/N比の向上
  • 安定したパルス：再現性の高い熱弾性励起またはアブレーション励起
  • 「トップハット」ビームプロファイル：均一な応力分布
  • 最大150 Hzの高繰返し：測定時間の短縮

レーザー表面クリーニング（Laser Surface Cleaning）

  • 最大200 mJの高パルスエネルギー：大面積のクリーニング
  • パルス幅 < 6 ns：熱ダメージのリスクを低減
  • 「トップハット」ビームプロファイル：汚染物の均一な除去
  • 最大150 Hzの高繰返し：処理速度の向上
  • セラミックスやガラスなどの脆性材料のクリーニングに最適

その他下記のアプリケーションにも好適

  • 材料アブレーション
  • Ti:Sapphire/色素レーザー励起
  • SLR（人工衛星レーザー測距）
  • パルスレーザー堆積法（Pulsed Laser Deposition）
  • 直接レーザー干渉パターニング（Direct Laser Interference Patterning）
モデルAblon
波長 [nm]1064532355
パルス繰返し周波数 [Hz] ※150 または 100
パルスエネルギー [mJ]> 200> 100> 60
パルスエネルギー安定性（RMS）[%]< 1< 1.5< 2.5
パルス幅 [ns]5 ± 2
光学ジッター [ns]< 0.5
ビーム径 [mm]4.5 ± 0.5
ビーム発散角 [mrad] ※2< 1
偏光直線偏光（垂直）
偏光消光比 [%]> 99
予想寿命10億ショット
レーザーヘッド寸法 [mm]（L × W × H）410 × 190 × 128.5（コネクター部を含む全長 455.5）
制御ユニットチラー内蔵オールインワン型（内部／外部トリガー、同期信号出力）

※1 ご要望に応じて最大150 Hzまで対応可能です。

※2 1/e2レベルで測定した全角。

外形図

Ablonレーザーヘッド外形図（単位：mm）

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