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配管据え置き型 インライン濁度計 “TC007”

KEMTRAK

長寿命LEDを搭載した光散乱原理の濁度計。過酷な環境下でもメンテナンスフリーで使用することのできる堅牢なデザインです。

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ペレット・粉体用 異物検査装置 CALPAS

Scigentec

粉体やペレット・サンプル中の異物を検出 (サイズ, 形状分析による)。粒子のサイズ、色、形状を高速に評価。多彩なサンプル搬送ユニット (乾式, 湿式, ステージ 等)。オフライン、オンラインの両方に対応可能。

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高繰返し&広帯域 フェムト秒OPA Mango

Amplitude Systemes

高繰り返し周波数&広いカバー波長域の、完全自動化オプティカル・パラメトリック・アンプ(OPA)システム。パルス幅:70~300 fs、繰返し周波数:最高 2 MHz、高い変換効率:12%以上 、波長域:210-11000 nm, 325-2500 nm

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高エネルギー・フェムト秒 Ti:Sapphireレーザーアンプ ARCO

Amplitude Technologies

超高速チタンサファイア・レーザーベースの超高強度フェムト秒レーザーアンプ。モジュール式、高い柔軟性で、多彩な出力パラメータをカバー。最大25mJ。最大繰返し周波数 1kHz。パルス幅 20~100 fs。

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狭線幅&低ノイズ 単一周波数ファイバレーザー“Koherasシリーズ”

NKT Photonics

狭線幅&低ノイズ。DFBレーザーベースの縦モードシングル 単一周波数レーザー。Koherasの単一周波数レーザーは シングル縦モードであり、位相ノイズと強度ノイズのレベルの極めて低いレーザーです。イッテルビウム、エルビウム、またはツリウムの波長範囲で利用でき、他の多くの帯域への周波数変換も可能。全てのレーザーはファイバーDFB設計により、何千時間もの間、堅牢で信頼性の高い動作が保証します。モデル Koheras HARMONIKは、量子センシング、レーザー冷却&原子トラップに最適です。

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2μm 広帯域チューナブルレーザー “SuperTune-2000”

NPI Lasers

発振波長1900-2050 nm, バンド幅 <1 nm, 平均出力パワー>30 W。2μm コンポーネント試験や産業センシング、分光、イメージングのための汎用光源に好適

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オプトジェネティクス用多波長レーザー光源“LightHUB Optogenetics”

Omicron Laserage Laserprodukte

オプトジェネティクス(光遺伝学)用途に特化。473nm、561nm/594nmレーザーをワンパッケージ化。最大出力150mW@561nm。変調機能付き。

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小型Qスイッチ固体レーザー Q-switchedシリーズ

CrystaLaser

超コンパクト・多彩な波長・高出力・高安定性・高信頼性。CrystaLaser社のベストセラー製品。260-1444nm。最大出力1mJ。100kHz, 5-200nsパルス

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MicroSense 6800 シリーズ 静電容量変位センサ

MicroSense

シリーズ最高分解能・高速応答モデル
高速変位を高精度で測定

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NKT Photonics社 スーパーコンティニューム光源 SuperKシリーズ

NKT Photonics

使い易いスーパーコンティニューム光源。390~2400nm の波長をカバーするシングルモード出力。波長可変レーザーとしても使用可能。可視光から近赤外・中赤外までの広い波長域をカバー。単一周波数光源に匹敵する良質なビーム品質(ガウシアン, シングルモード, M2 < 1.1)。高輝度、非偏光。

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超高安定性・二次元分光干渉計 “GEMINI 2D”

NIREOS

イタリアのNIREOS社のGEMINI-2Dは、過渡吸収分光測定を最先端の2次元分光装置に変換します。
GEMINI 2Dはコンパクトで非常に安定的に使用できる干渉計であり、フェムト秒レーザーパルスの2つの同一線上で位相ロックされたレプリカを生成し、比類なき安定性と堅牢性を備えています。

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プロセスフォトメータ(濁度・SS濃度計)”NBP007″

KEMTRAK

高濃度対応 インラインSS(浮遊物質測定)・濁度 計測
後方光散乱方式採用
過酷な環境下でもメンテフリーで使用可能な堅牢デザイン

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ORIGAMI IRO フェムト秒光パラメトリックアンプ(OPA)システム

NKT Photonics

ORIGAMI IROは、費用対効果の高いフェムト秒レーザーと光パラメトリック増幅器(OPA)で構成され、広い波長可変域をもつチューナブル・フェムト秒レーザーシステムです。空冷式ORIGAMI XPの優れたビームポインティング安定性とコンパクトさ、およびORIGAMI IROの環境安定性の高い完全自動化OPA技術を兼ね備えています。

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厚膜ポジティブ/ネガティブ・トーン・フォトレジスト

micro resist technology

400nm近傍の波長に感度を有する厚膜フォトレジスト。マスクレス・リソグラフィのアプリケーションを拡げます

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UV/熱/複合ナノインプリント装置 RubiQ™

SCIVAX

ナノインプリントにおける樹脂硬化方式/プレス⽅式/加圧方式の組み合わせを選択可能。かつレトロフィットを可能にしたR&D専用装置。ナノインプリント・プロセス応用を伴う研究開発を加速します。

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AFMプローブ 高分解能 Hi’Res-C

MikroMasch

Hi’Res-Cプローブはシリコンプローブよりも汚染が少なく、より多い枚数の高解像度スキャンの実行が可能です。Hi’Res-Cは微小領域 (< 250 nm) の走査や、平坦なサンプル (Ra < 20 nm) の測定で顕著に能力を発揮します。*本プローブは先端の曲率半径が小さいため、先端とサンプルの相互作用力は小さくなります。

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レーザー回折式 粒度分布測定装置 HELOS

Sympatec

乾式測定における試料分散性能と測定再現性に優れており、凝集しやすい試料でも安定して測定できます。世界各国に多数の納入実績があり、製薬、化学、磁性体、食品などの様々な業界で採用されています。(測定範囲: 0.1~3500 µm)

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Nanoview 1000 AFM ローコスト 高イメージング品質

FSM Precision

従来のAFMの半分以下の低価格ながら、高いイメージング品質を発揮します。日本初上陸の高コストパフォーマンスAFMです。

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フォトニック集積回路向け マルチチャンネルソース測定システム SMU

Nicslab

フォトニック集積回路向けマルチチャンネル・ソース測定機器(SMU)です。XPOW は複数の電圧/電流の印加と電圧/電流の測定が可能です。高い汎用性でシンプルな電子回路から複雑なフォトニック集積回路まで、低消費電力の用途にて最適です。また、 XPOWのアップグレード版で、より高速なXDAC はユニポーラ、バイポーラ、ディファレンシャルなど、柔軟なチャンネル出力が可能です。

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ピコ秒パルス&CW発振 ダイオードレーザー“QuixXシリーズ”

Omicron Laserage Laserprodukte

ピコ秒(最小パルス幅50ps, 最高100MHz繰返し)&CWの両発振が可能な高機能エレクトロニクス完全一体型ダイオードレーザーシステム。375~2090 nm範囲の多彩な波長ラインナップ。最大CW出力500mW、ピークパワー 最高2.5W

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ポータブル型 粒度分布測定装置 “VisiSize P15 Portable V” (新画像解析式)

Oxford Lasers

キャリーケースで運搬のでき、取り扱いの簡単な小型軽量タイプ。粒径5μm~3,900μm。速度同時測定モデル

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レーザーアブレーション装置

Elemental Scientific Lasers (ESL)

高速&高精度分析。目的に最適なレーザーアブレーションを最高の性能で提供。

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最大6波長出力 ハイパワーLED光源”LedHUB”

Omicron Laserage Laserprodukte

最大6波長、市場で最高クラスの最大1W高出力LED光源。LEDチップのアクティブ温度コントロールと高安定性電流源で高安定性&高再現性の出力を保証。

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AFMプローブ HQシリーズ

MikroMasch

位相イメージングは、異種材料や特性の不均一性を持つサンプルにおいて、ナノスケールの違いをイメージングするために用いられるAFM技術の一つです。位相コントラストは、チップとサンプル間の相互作用に基づきますが、これらの相互作用は、スキャンパラメーターや、イメージングの測定モード(原子間力の引力領域か斥力領域で捜査しているかなど)に依存します。O’DeaとBurratoは、位相イメージングを使用して、Nafion膜のプロトン伝導ドメインをマッピングしました。彼らは、先端とサンプルの間の特定の相互作用力がプロトン伝導ドメインの分解能に大きく影響することを発見しました。斥力レジームでのイメージングにより、ドメインの面積が大きめに表示され、ドメインの数が少なめに表示されました。引力領域でのイメージングにより、水やフルオロカーボンのドメインが最も正確に測定できました。AFMのフィードバックループが最適化されていない場合、またはカンチレバーが共振周波数を超えて駆動していた時、位相イメージングは組成の違いではなく、形状の変化に対応するイメージになりました。

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