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真空対応 高精度位置センサ

MicroSense

高真空・超高真空対応プローブ
低アウトガス・高安定性・非磁性対応可能

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R&D用多用途 高精細3D光造形装置 Photonic Professional GT2

Nanoscribe

世界最高精細の光造形装置。迅速かつ超精密の微細加工を実現。

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AFMプローブ HQシリーズ

MikroMasch

位相イメージングは、異種材料や特性の不均一性を持つサンプルにおいて、ナノスケールの違いをイメージングするために用いられるAFM技術の一つです。位相コントラストは、チップとサンプル間の相互作用に基づきますが、これらの相互作用は、スキャンパラメーターや、イメージングの測定モード(原子間力の引力領域か斥力領域で捜査しているかなど)に依存します。O’DeaとBurratoは、位相イメージングを使用して、Nafion膜のプロトン伝導ドメインをマッピングしました。彼らは、先端とサンプルの間の特定の相互作用力がプロトン伝導ドメインの分解能に大きく影響することを発見しました。斥力レジームでのイメージングにより、ドメインの面積が大きめに表示され、ドメインの数が少なめに表示されました。引力領域でのイメージングにより、水やフルオロカーボンのドメインが最も正確に測定できました。AFMのフィードバックループが最適化されていない場合、またはカンチレバーが共振周波数を超えて駆動していた時、位相イメージングは組成の違いではなく、形状の変化に対応するイメージになりました。

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ACCESS チップビュー・SPMプローブ

AppNano

シャープなシリコンプローブでAFM探針の試料表面接触時に直接視覚化可能。高い再現性、堅牢性、シャープさをもつナノ加工 高ドープ単結晶シリコンで高解像度イメージングを実現

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ORIGAMI IRO フェムト秒光パラメトリックアンプ(OPA)システム

NKT Photonics
[新商品]

ORIGAMI IROは、費用対効果の高いフェムト秒レーザーと光パラメトリック増幅器(OPA)で構成され、広い波長可変域をもつチューナブル・フェムト秒レーザーシステムです。空冷式ORIGAMI XPの優れたビームポインティング安定性とコンパクトさ、およびORIGAMI IROの環境安定性の高い完全自動化OPA技術を兼ね備えています。

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ビームプロファイラ

Ophir

UV~ミリ波。CW、パルスの両レーザー光に対応。高精度で信頼性の高いレーザビーム計測機器

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2μm 広帯域チューナブルレーザー “SuperTune-2000”

NPI Lasers

発振波長1900-2050 nm, バンド幅 <1 nm, 平均出力パワー>30 W。2μm コンポーネント試験や産業センシング、分光、イメージングのための汎用光源に好適

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厚膜ポジティブ/ネガティブ・トーン・フォトレジスト

micro resist technology
[新商品]

400nm近傍の波長に感度を有する厚膜フォトレジスト。マスクレス・リソグラフィのアプリケーションを拡げます

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金属単結晶・酸化物単結晶・合金単結晶

Surface Preparation Laboratory (SPL)

金属単結晶・酸化物単結晶・合金単結晶試料の高品質品を高精度加工

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材料プロセス用 ナノ秒DPSSレーザー

Photon Energy

ナノ秒レーザー加工、OEM組込みに最適。金属、プラスチック、セラミック、ガラスなど多彩な素材に適用できる高い平均出力:最大200W。1064 nm or 532 nm。繰り返し 1-100 kHz, CW

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超高安定性・二次元分光干渉計 “GEMINI 2D”

NIREOS
[新商品]

イタリアのNIREOS社のGEMINI-2Dは、過渡吸収分光測定を最先端の2次元分光装置に変換します。
GEMINI 2Dはコンパクトで非常に安定的に使用できる干渉計であり、フェムト秒レーザーパルスの2つの同一線上で位相ロックされたレプリカを生成し、比類なき安定性と堅牢性を備えています。

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高出力 ファイバーレーザー “TruFiber “( redPOWER® QUBE )

TRUMPF (旧SPI Lasers)

高い出力とコントロール性で、最適なレーザー切断/溶接を実現

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レーザー回折式 粒度分布測定装置 HELOS

Sympatec

乾式測定における試料分散性能と測定再現性に優れており、凝集しやすい試料でも安定して測定できます。世界各国に多数の納入実績があり、製薬、化学、磁性体、食品などの様々な業界で採用されています。(測定範囲: 0.1~3500 µm)

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短波長赤外カメラ SIRIS

Lytid

高性能短波長赤外カメラ。超低ノイズ&高いダイナミックレンジ。幅広い用途で使用可能なSWIR。200 fps。液体窒素不要。

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材料プロセス用 ピコ秒レーザー CEPHEUS

Photon Energy

ピコ秒レーザー加工、OEM組込みに最適なモードロック・ダイオード励起Nd:YVO4レーザー。透明材料を含む多彩な素材の非熱加工や、高繰り返し周波数、ピコ秒パルスによる高速加工、精密加工に最適。SHG, THG可。最大平均出力50W、最大繰返し1MHz、パルス幅15ps、最大パルスエネルギー300 μJ

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最大150μJ出力 高機能フェムト秒/ピコ秒レーザー Satsuma

Amplitude Systemes

革新的なファイバアンプ技術によるコンパクト、ハイパワー、高エネルギー、高繰り返しのフェムト秒/ピコ秒ファイバレーザー。パルス幅は最短 350 fs – 10 ps、繰返し周波数 single shot to 40MHz、最大平均出力 50W、最大パルスエネルギー 150 µJ

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レーザークリーニング装置

[オススメ]

100W程度の中出力タイプから最大1600Wの高出力まで、複数のモデルをラインナップ。目的に応じて最適なソリューションをご提案します。

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測定用標準基板・テストサンプル・校正構造体

MikroMasch

測定用標準基板・テストサンプル・校正構造体
 
– AFM 校正用構造体 測定用標準基板 HOPG
– AFM 校正用構造体 TGXYZ
– AFM 校正用構造体 TGX
– AFM 校正用構造体 TGF11シリーズ

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UV/熱/複合ナノインプリント装置 RubiQ™

SCIVAX

ナノインプリントにおける樹脂硬化方式/プレス⽅式/加圧方式の組み合わせを選択可能。かつレトロフィットを可能にしたR&D専用装置。ナノインプリント・プロセス応用を伴う研究開発を加速します。

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バイオフォトニクス向け フェムト秒ファイバーレーザー Biolit

litilit

クリーンなショートパルスを発振するフェムト秒レーザーです。パルス幅: typ 60fs。平均出力2W以上、堅牢かつ安定性が高く、非線形光学用途・多光子顕微鏡に最適です。

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パワーセンサ、エネルギーセンサ

Ophir

測定パワーμW~数十kW、エネルギーpJ~数十J、対応波長UV~IR、CW&パルス等様々な光源に対応

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溶液用 QCL-IR 赤外分析装置 Culpeo

DRS Daylight Solutions

従来のFT-IRに代わる、次世代の赤外分析技術、QCL-IRを採用した小型の溶液用赤外分析装置です。QCL-IRは最大10HzでIRスペクトルを取得することができ、従来技術に比べはるかに高速で安定しています。その測定速度を活かし、リアルタイムでの濃度モニタリングが可能です。また、輝度が高く、少量の溶液サンプルでも分析可能です。Culpeo® QCL-IR液体分析器 バイオプロセス分析・液体クロマトグラフィー・ワクチン関連の分析に最適です。

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最大500μJ出力 高機能フェムト秒/ピコ秒レーザー Tangor

Amplitude Systemes

革新的なファイバアンプ技術によるコンパクト、ハイパワー、高エネルギー、高繰り返しのフェムト秒/ピコ秒ファイバレーザー。パルス幅 最短 500 fs – 10 ps、繰返し周波数 single shot to 40MHz、最大平均出力 100W、最大パルスエネルギー 500 µJ。

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超分解能 時間分解型共焦点 蛍光顕微鏡 MicroTime 200 STED

PicoQuant

超分解能を持つ時間分解共焦点顕微鏡。誘導放出抑制(STED)顕微鏡法を使用。光学分解能50nm未満(STED)、励起640nm(オプション:595nmおよび660nm)、SPADおよびHybrid-PMTを使用した最大6検出チャンネル、ゲート付きSTED(gSTED)とgSTED-FCSをサポート 

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