アプリケーション 一覧

真空対応 高精度位置センサ

MicroSense

高真空・超高真空対応プローブ
低アウトガス・高安定性・非磁性対応可能

Detail

R&D用多用途 高精細3D光造形装置 Photonic Professional GT2

Nanoscribe

世界最高精細の光造形装置。迅速かつ超精密の微細加工を実現。

Detail

フェムト秒ファイバー伝送モジュール Fiber

Amplitude Systemes

中空コアファイバー技術で、分散と非線形の影響を抑えた超短パルスレーザー。ファイバー長 1,2,5m(要相談)、波長 1030nm。

Detail

スタンドアローン型OPOモジュール”Magic PRISM”

Opotek

355 nm, 532nm, 420~1700nm, 繰り返し周波数 10, 20 Hz。様々なナノ秒Nd:YAGポンプレーザーと組み合わせ可能。OPOTEK社独自のコンパクトなスタンドアローン型OPOモジュール。

Detail

ACCESS チップビュー・SPMプローブ

AppNano

シャープなシリコンプローブでAFM探針の試料表面接触時に直接視覚化可能。高い再現性、堅牢性、シャープさをもつナノ加工 高ドープ単結晶シリコンで高解像度イメージングを実現

Detail

ORIGAMI IRO フェムト秒光パラメトリックアンプ(OPA)システム

NKT Photonics
[新商品]

ORIGAMI IROは、費用対効果の高いフェムト秒レーザーと光パラメトリック増幅器(OPA)で構成され、広い波長可変域をもつチューナブル・フェムト秒レーザーシステムです。空冷式ORIGAMI XPの優れたビームポインティング安定性とコンパクトさ、およびORIGAMI IROの環境安定性の高い完全自動化OPA技術を兼ね備えています。

Detail

ビームプロファイラ

Ophir

UV~ミリ波。CW、パルスの両レーザー光に対応。高精度で信頼性の高いレーザビーム計測機器

Detail

2μm 広帯域チューナブルレーザー “SuperTune-2000”

NPI Lasers

発振波長1900-2050 nm, バンド幅 <1 nm, 平均出力パワー>30 W。2μm コンポーネント試験や産業センシング、分光、イメージングのための汎用光源に好適

Detail

厚膜ポジティブ/ネガティブ・トーン・フォトレジスト

micro resist technology
[新商品]

400nm近傍の波長に感度を有する厚膜フォトレジスト。マスクレス・リソグラフィのアプリケーションを拡げます

Detail

金属単結晶・酸化物単結晶・合金単結晶

Surface Preparation Laboratory (SPL)

金属単結晶・酸化物単結晶・合金単結晶試料の高品質品を高精度加工

Detail

材料プロセス用 ナノ秒DPSSレーザー

Photon Energy

ナノ秒レーザー加工、OEM組込みに最適。金属、プラスチック、セラミック、ガラスなど多彩な素材に適用できる高い平均出力:最大200W。1064 nm or 532 nm。繰り返し 1-100 kHz, CW

Detail

超分解能 時間分解型共焦点 蛍光顕微鏡 MicroTime 200 STED

PicoQuant

超分解能を持つ時間分解共焦点顕微鏡。誘導放出抑制(STED)顕微鏡法を使用。光学分解能50nm未満(STED)、励起640nm(オプション:595nmおよび660nm)、SPADおよびHybrid-PMTを使用した最大6検出チャンネル、ゲート付きSTED(gSTED)とgSTED-FCSをサポート 

Detail

超高安定性・二次元分光干渉計 “GEMINI 2D”

NIREOS
[新商品]

イタリアのNIREOS社のGEMINI-2Dは、過渡吸収分光測定を最先端の2次元分光装置に変換します。
GEMINI 2Dはコンパクトで非常に安定的に使用できる干渉計であり、フェムト秒レーザーパルスの2つの同一線上で位相ロックされたレプリカを生成し、比類なき安定性と堅牢性を備えています。

Detail

レーザー回折式 粒度分布測定装置 HELOS

Sympatec

乾式測定における試料分散性能と測定再現性に優れており、凝集しやすい試料でも安定して測定できます。世界各国に多数の納入実績があり、製薬、化学、磁性体、食品などの様々な業界で採用されています。(測定範囲: 0.1~3500 µm)

Detail

材料プロセス用 ピコ秒レーザー CEPHEUS

Photon Energy

ピコ秒レーザー加工、OEM組込みに最適なモードロック・ダイオード励起Nd:YVO4レーザー。透明材料を含む多彩な素材の非熱加工や、高繰り返し周波数、ピコ秒パルスによる高速加工、精密加工に最適。SHG, THG可。最大平均出力50W、最大繰返し1MHz、パルス幅15ps、最大パルスエネルギー300 μJ

Detail

TCSPC(時間相関単一光子検出)と 時間タグ付け電子機器

PicoQuant

時間相関単一光子計数 (TCSPC)、一致相関、マルチチャネルでのスケーリング 、イベント・タイミング(ピコ秒~ミリ秒の時間分解能)用のモジュールです。シングルチャンネルおよびマルチチャンネル。USBまたはPCIeインターフェイスを装備 HydraHarp 400 MultiHarp150 デモ機あり。

Detail

最大150μJ出力 高機能フェムト秒/ピコ秒レーザー Satsuma

Amplitude Systemes

革新的なファイバアンプ技術によるコンパクト、ハイパワー、高エネルギー、高繰り返しのフェムト秒/ピコ秒ファイバレーザー。パルス幅は最短 350 fs – 10 ps、繰返し周波数 single shot to 40MHz、最大平均出力 50W、最大パルスエネルギー 150 µJ

Detail

構造ヘルスモニタリング 【NBG】

NBG

アプリケーションの専門家やシステムインテグレータ向けの光ファイバモニタリングソリューション。ポイントセンシング/分布型センシング。光ファイバのエキスパートによるサポート。独自の製造設備と外部サプライヤ。社内にR&Dとテスト設備

Detail

レーザークリーニング装置

[オススメ]

100W程度の中出力タイプから最大1600Wの高出力まで、複数のモデルをラインナップ。目的に応じて最適なソリューションをご提案します。

Detail

溶液用 QCL-IR 赤外分析装置 Culpeo

DRS Daylight Solutions

従来のFT-IRに代わる、次世代の赤外分析技術、QCL-IRを採用した小型の溶液用赤外分析装置です。QCL-IRは最大10HzでIRスペクトルを取得することができ、従来技術に比べはるかに高速で安定しています。その測定速度を活かし、リアルタイムでの濃度モニタリングが可能です。また、輝度が高く、少量の溶液サンプルでも分析可能です。Culpeo® QCL-IR液体分析器 バイオプロセス分析・液体クロマトグラフィー・ワクチン関連の分析に最適です。

Detail

パワーセンサ、エネルギーセンサ

Ophir

測定パワーμW~数十kW、エネルギーpJ~数十J、対応波長UV~IR、CW&パルス等様々な光源に対応

Detail

最大500μJ出力 高機能フェムト秒/ピコ秒レーザー Tangor

Amplitude Systemes

革新的なファイバアンプ技術によるコンパクト、ハイパワー、高エネルギー、高繰り返しのフェムト秒/ピコ秒ファイバレーザー。パルス幅 最短 500 fs – 10 ps、繰返し周波数 single shot to 40MHz、最大平均出力 100W、最大パルスエネルギー 500 µJ。

Detail

高精細マイクロ・ハンドディスペンサ

エンジニアリング・ラボ

実体顕微鏡下での手作業に最適なマイクロ・ハンドディスペンサ

Detail

レジスコープ “ResiscopeII”

CSInstruments

AFM 超高感度電流増幅器

Detail
TOPに戻る