チップレスシリーズは、チップの片側に異なるばね定数と共振周波数を持つ3つのチップレスカンチレバーを備えています。 本シリーズは以前の12シリーズに代わるものです。
チップレスカンチレバーは材料特性と相互作用の測定に使用できます。 ガラス球やポリスチレン粒子などをチップレスカンチレバーに取り付け、AFMのような実験に適用することができます。

溶接のアークや炎の光の中を可視化する溶接可視化システム

AFM 超高感度電流増幅器

10¹³もの高いダイナミックレンジを達成3次フェムト秒クロスコリレータ。 特に高磁場物理学で一般に使用される高強度レーザーのパルス特性評価に極めて有用。

ORIGAMI IROは、費用対効果の高いフェムト秒レーザーと光パラメトリック増幅器（OPA）で構成され、広い波長可変域をもつチューナブル・フェムト秒レーザーシステムです。空冷式ORIGAMI XPの優れたビームポインティング安定性とコンパクトさ、およびORIGAMI IROの環境安定性の高い完全自動化OPA技術を兼ね備えています。

レーザービームを2次元で偏向・集光するXY偏向ユニットです。小～中規模程度の加工エリアで、高速処理が必要なさまざまなアプリケーションに好適です。

高い柔軟性＆高速。種々のマーキングやパルス微細加工に最適なナノ秒パルスファイバレーザー

パルスレーザーによる高速撮像によって多数の粒子を測定するため、個々の粒子を測定しながらも、統計的に信頼性の高い解析が可能です。全ての粒子画像が生データとして保存されるため、形状も定量的に解析できます。乾式・湿式を問わず多様な試料に対応します。（測定範囲 0.55～34000µm）

Sync＆Amplockは、Amplitude Systemes社の超高速レーザーと互換性がありアドオンできる最先端の同期ユニットです。 様々な用途において、無線周波数や光学リファレンスと最高の精度でシステム同期できます。

NanoWorld社では、代表的なシリーズとして、PointProbe（ポイントプローブ）シリーズ, Arrow（アロー）, Pyrex-nitride（パイレックス・ナイトライド）を取り揃えております。

2次元のXY偏向ユニットにZ軸を追加し、3次元加工に対応した3D偏向ユニットです。小スポット径で最大2,000 mm x 2,000 mmもの広いスキャンエリアを処理できます。

医療・産業分野の厳しい要件を満たす高品質・超小型フェムト秒レーザ。パルス幅 <150 fs、繰返し周波数 最高40MHz、平均出力 >5W、最大パルスエネルギー >500nJ。

信頼性が高く、コンパクトで多用途、費用対効果の高いパッケージの高エネルギー超短パルスレーザーです。 IR, Green, UV波長出力可能。

Fura-2カルシウムイメージング用に特化したLED光源。ランプ光源で実現できない高出力、高安定性、素早い波長切替を実現します。

超高速のアナログ・デジタル変調を可能な半導体レーザー　紫外375～赤外1550 nm 範囲　最大出力300 mW

優れた直線性と温度特性。静的な変位測定のスタンダードモデル。

ナノ秒レーザー加工、OEM組込みに最適。金属、プラスチック、セラミック、ガラスなど多彩な素材に適用できる高い平均出力：最大200W。1064 nm or 532 nm。繰り返し 1-100 kHz, CW

高出力（最大10W）で狭線幅（sub-kHz）の単一周波数レーザー。周波数変換により波長ラインナップが増えました。位相と強度の両ノイズを抑制。TEC搭載。ルビジウム、ストロンチウム、バリウム、イッテルビウムの波長に正確に対応でき、最先端の量子アプリケーションに最適です。

実体顕微鏡下での手作業に最適なマイクロ・ハンドディスペンサ

高速＆高精度分析。目的に最適なレーザーアブレーションを最高の性能で提供。

高繰返し 最大4000Hz。3波長ラインナップ（1064, 532, 355 nm）。最大出力 4W＠4kHz。パルス幅 8-10ns

最大1000W、mJエネルギー出力。繰返し 最高100MHz。フェムト秒～ピコ秒パルスのコンパクト、堅牢、高安定性なターンキーシステム

従来のFT-IRに代わる、次世代の赤外分析技術、QCL-IRを採用した小型のガス・溶液用赤外分析装置です。QCL-IRは最大10HzでIRスペクトルを取得することができ、従来技術に比べはるかに高速で安定しています。その測定速度を活かし、リアルタイムでの濃度モニタリングが可能です。また、輝度が高く、少量サンプルでも分析可能です。Culpeo® QCL-IR液体分析器　バイオプロセス分析・液体クロマトグラフィー・ワクチン関連の分析に最適です。

出力パワー 15W/30W、パルス幅500fs、波長343nm、パルスエネルギー最大80 μJ。OLEDディスプレイ加工にも好適なレーザーです。