レーザー・光源

レーザー・光源 一覧

小型CWレーザー“Directシリーズ&Crystalシリーズ”

CrystaLaser

非常に多彩な波長ラインナップ・単一周波数モデル・低ノイズモデルなど幅広いタイプの半導体レーザー&DPSSレーザー。375~1444nm。最大出力2500mW。

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レーザーダイオードモジュール“LDM-XT laserシリーズ”

LASOS

375~830nm の多彩な波長ラインナップと高品質ビーム。ファイバ出力または空間ビーム出力。最大出力300mW(空間)。スペクトル幅 <3nm (0.1pmまで可)

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高出力ファイバーレーザー“redPOWER QUBE”

SPI Lasers
[オススメ]

高い出力とコントロール性で、最適なレーザー切断/溶接を実現

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透明樹脂のレーザー溶着 2μm ファイバーレーザー “PowerWave2000シリーズ” 【NPI Lasers】

NPI Lasers

特殊な材料や前処理を必要とせずに、透明な樹脂のレーザー溶着を可能にします。コンパクト、低コストな産業向けファイバーレーザーです。
材料の特性に合わせて、1900nm – 2100nm から波長を指定できます。

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最大500μJ出力 高機能フェムト秒/ピコ秒レーザー Tangor

Amplitude Systemes

革新的なファイバアンプ技術によるコンパクト、ハイパワー、高エネルギー、高繰り返しのフェムト秒/ピコ秒ファイバレーザー。パルス幅 最短 500 fs – 10 ps、繰返し周波数 single shot to 40MHz、最大平均出力 100W、最大パルスエネルギー 500 µJ。

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チューナブル半導体レーザー

New Focus (Newport Brand)

New Focus (Newport Brand) の波長可変レーザーは、狭線幅、シングルモード出力、完全モードホップフリー・チューニングです。

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1064nm 20W出力ファイバレーザー“KKFL-20”

金門光波

空冷の 1064nm 20W出力 CWレーザー。低ノイズ、狭線幅、高安定性の「ザ・プレミアム」ファイバレーザー。

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中赤外 2μm ツリウムドープ・ファイバアンプ“TDFA-2000 & TDFA-2000-HP” 【NPI Lasers】

NPI Lasers

ゲイン波長範囲 1880-2000 / 1900-2050 nm, 小信号利得 >19 dB or >27 dB, 飽和パワー 200 mW or >3 W。高い平均出力パワー&ブロードバンド・ゲイン。

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900nm帯ターンキー・ダイレクトダイオードレーザー“DIRECTLIGHT 900”

II-VI DIRECTPHOTONICS

薄板金属の切断・溶接、半田付け、プラスティック溶接などの微細溶接。915/976nm, 140~300W

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チューナブル OPOレーザー“C-WAVE”

HÜBNER

広いスペクトル可変幅と簡単な波長選択機能。CW 450-650 nm (他波長も可能), 最大200mW (C-WAVE basic, 5W ポンプ時) or 100mW (C-WAVE advanced, 5W ポンプ時)

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高機能ピコ秒ファイバレーザー“MANNYシリーズ”

Irisiome Solutions

高いチューナビリティ(繰り返し周波数、パルス幅、波長)と複数のオプションで非常に高い柔軟性。
1μm, 1.55μm, SHG, 波長可変可。平均出力 最大30W。パルス幅 30ps to ms。繰り返し周波数 5MHz to 1GHz。

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コンパクト&高出力微細加工用ピコ秒レーザー“PicoBlade 2”

LUMENTUM (旧Time-Bandwidth Products)

従来モデルをさらにコンパクトに。あらゆる素材に対して高精度・高信頼性の加工を実現。1064, 532, 355 nm。最大 200μJ, 50W。最大繰返し周波数 8MHz。パルス幅 10ps。

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ORIGAMI IRO フェムト秒光パラメトリックアンプ(OPA)システム

NKT Photonics
[新商品]

ORIGAMI IROは、費用対効果の高いフェムト秒レーザーと光パラメトリック増幅器(OPA)で構成され、広い波長可変域をもつチューナブル・フェムト秒レーザーシステムです。空冷式ORIGAMI XPの優れたビームポインティング安定性とコンパクトさ、およびORIGAMI IROの環境安定性の高い完全自動化OPA技術を兼ね備えています。

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スペックル低減 最大5波長 高出力レーザーコンバイナ“BrixXHUB”

Omicron Laserage Laserprodukte

最大5波長のDPSS / LDレーザーモジュール(375~808 nm)をコンパクトパッケージに格納。1波長当り最大2500mW

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532nm/671nm Qスイッチ LD励起レーザー“INCA”

Xiton Photonics

532nm 3.0W 300kHz または 671nm 1.5mW 200kHz。最大エネルギー 140 μJ@532nm

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材料プロセス用 ピコ秒DPSSレーザー CEPHEUS

Photon Energy

ピコ秒レーザー加工、OEM組込みに最適なモードロック・ダイオード励起Nd:YVO4レーザー。透明材料を含む多彩な素材の非熱加工や、高繰り返し周波数、ピコ秒パルスによる高速加工、精密加工に最適。SHG, THG可。最大平均出力50W、最大繰返し1MHz、パルス幅15ps、最大パルスエネルギー300 μJ

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材料加工用高出力ダイレクトダイオードレーザー“DIRECTPROCESS 900”

II-VI DIRECTPHOTONICS

高輝度&高出力で、切断・溶接など幅広い材料プロセスに応用可能。波長 900~990nm, 出力パワー 最大 600W

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高速スキャン CW&パルス チューナブル中赤外レーザー“Hedgehog”

DRS Daylight Solutions

最大 400cm-1 のチューニング幅を >30,000 cm-1/s で高速スキャン。中心波長< 4 から > 13 μmの量子カスケードレーザー(QCL)ベース 中赤外 (mid-IR) 波長可変レーザー。

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ピコ秒白色光源 “SOLEA”

PicoQuant

480~900nmものブロードバンドをピコ秒パルスで実現。
最大750mW出力。最高繰返し周波数40MHz, 最小パルス幅90 ps。

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3~12 μm モードホップフリーチューニング CW中赤外レーザー“CW-MHF”

DRS Daylight Solutions

中赤外領域をモードホップフリーチューニングできる高安定性外部共振型量子カスケードレーザー(QCL)

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高出力200mJ ピコ秒/フェムト秒レーザー Magma

Amplitude Systemes

最大200 mJもの高パルスエネルギーと最大 400GWの高いピークパワーを併せ持つ世界初の工業用グレード・ピコ秒/フェムト秒レーザー。モジュール式プラットフォームでアプリケーションの要件に合わせてカスタマイズ可能。パルス幅 < 500 fs

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高出力LED光源“LEDMOD V2”

Omicron Laserage Laserprodukte

多彩な波長ラインナップ 255~950 nm。最大出力800mW(近赤外)。温度調節機能付き

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最大250μJ出力 高機能フェムト秒/ピコ秒レーザー Tangerine

Amplitude Systemes

革新的なファイバアンプ技術によるコンパクト、ハイパワー、高エネルギー、高繰り返しのフェムト秒/ピコ秒ファイバレーザー。パルス幅 <350 fs to >10 ps または最短 150 fs まで、繰返し周波数 single shot to 40MHz、最大平均出力 50W、最大パルスエネルギー 250 µJ。

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高出力・高繰返し Qスイッチ半導体励起固体レーザー“CL-210シリーズ”

Canlas

レーザー加工に適した短パルスレーザー。
3波長ラインナップ(1064, 532, 355 nm)。最高20W出力。繰返し 1-100kHz。最小パルス幅 20ns

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