レーザー・光源 一覧

NKT Photonics社 産業用途ピコ秒/フェムト秒レーザー

NKT Photonics

NKT Photonics社では産業用途向け光源として、パルス幅はピコ秒からフェムト秒、また最大出力パワー 40 W(ピコ秒) までのさまざまなウルトラファーストレーザーを製造しています。繰返し周波数は、可変と固定、またシングルショットパルスやバーストモードを選択でき、アプリケーションに最適な超高速レーザーを提供いたします。
多彩な標準モデルだけでなく、OEMにも対応いたします。 お気軽にお問合せください。

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パルス色素レーザー

Sirah Lasertechnik

あらゆる原子・分子分光に好適なパルス色素レーザー。370~920 nm

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高エネルギーOPOチューナブルレーザー“RADIANTシリーズ”

Opotek

オールインワンデザインの高エネルギー100mJ 波長チューニング出力システム。210~3450nm。繰返し 10 or 20 Hz。パルス幅 5ns。

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800nm帯ターンキー・ダイレクトダイオードレーザー“DIRECTBOND 800”

II-VI DIRECTPHOTONICS

高スループットの産業用途システム。サーマルプロセス用途に最適。波長 808nm、出力パワー 100~400W

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材料プロセス用 ピコ秒DPSSレーザー CEPHEUS

Photon Energy

ピコ秒レーザー加工、OEM組込みに最適なモードロック・ダイオード励起Nd:YVO4レーザー。透明材料を含む多彩な素材の非熱加工や、高繰り返し周波数、ピコ秒パルスによる高速加工、精密加工に最適。SHG, THG可。最大平均出力50W、最大繰返し1MHz、パルス幅15ps、最大パルスエネルギー300 μJ

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超コンパクト半導体励起UVレーザー“FQCW266シリーズ”

CryLaS

266nm, CW(連続波)レーザー, 出力 10~550mW 空冷式。単一縦モード 300kHz

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ピコ秒レーザーモジュール “VisIR-765 STED”&“VisUV”

PicoQuant

STED顕微鏡の失活用光源に最適な 766nm, 300-500ps パルス幅 VisIR-765 STED。
266, 355, 532 nm マルチ波長出力も可能な VisUV。

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半導体ピコ秒レーザー“LDHシリーズ”

PicoQuant

小型, 安定発振, 使いやすさ抜群
紫外から赤外まで多彩な波長ラインナップ。375~1990 nm, 最大20mW出力。最高繰返し周波数80MHz, 最小パルス幅40 ps。CW発振可。

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小型Qスイッチ固体レーザー Q-switchedシリーズ

CrystaLaser

超コンパクト・多彩な波長・高出力・高安定性・高信頼性。CrystaLaser社のベストセラー製品。260-1444nm。最大出力1mJ。100kHz, 5-200nsパルス

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高繰返し&広帯域 フェムト秒OPA Mango

Amplitude Systemes

高繰り返し周波数&広いカバー波長域の、完全自動化オプティカル・パラメトリック・アンプ(OPA)システム。パルス幅:70~300 fs、繰返し周波数:最高 2 MHz、高い変換効率:12%以上 、波長域:210-11000 nm, 325-2500 nm

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PIV 非コヒーレント・マルチ・パルス・レーザー“FireFly300W”

Oxford Lasers

境界層や壁面流、噴霧の可視化 / PIVに適した非コリーレント光特性のレーザーです。鏡面やメタルの反射が低く、金属面などの照明に最適です。
最大50 kHzの繰り返しが出来るパルス発振により、ハイスピードカメラの撮影コマ数に関係なく一定の明るさで撮影が可能です。

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ORIGAMI IRO フェムト秒光パラメトリックアンプ(OPA)システム

NKT Photonics
[新商品]

ORIGAMI IROは、費用対効果の高いフェムト秒レーザーと光パラメトリック増幅器(OPA)で構成され、広い波長可変域をもつチューナブル・フェムト秒レーザーシステムです。空冷式ORIGAMI XPの優れたビームポインティング安定性とコンパクトさ、およびORIGAMI IROの環境安定性の高い完全自動化OPA技術を兼ね備えています。

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UVフェムト秒レーザー Tangor UV

Amplitude Systemes

OLEDディスプレイ加工に最適。出力パワー 15W/30W、パルス幅500fs、波長343nm、パルスエネルギー最大80 μJ。

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サブナノ秒LED “PLSシリーズ”

PicoQuant

小型, 安定発振, 使いやすさ抜群。半導体レーザーでは難しいUV領域をカバー。245~600 nm, 最大80μW出力。最高繰返し周波数40MHz, 最小パルス幅500 ps。

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CW or パルス 小型 高出力 UVレーザー H-Model

DRS Daylight Solutions

小型高出力UVレーザー波長375nmで最大1W,405nm最大4W, バイオケミカル分析、水質浄化、UV硬化、蛍光イメージング、光通信に好適です。

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高出力・高繰返し Qスイッチ半導体励起固体レーザー“CL-210シリーズ”

Canlas

レーザー加工に適した短パルスレーザー。
3波長ラインナップ(1064, 532, 355 nm)。最高20W出力。繰返し 1-100kHz。最小パルス幅 20ns

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小型・高ピークパワー Qスイッチパルスレーザー

CryLaS

1.2MW@1064nmの高ピークパワー!半導体励起小型パルスYAGレーザー。最大エネルギー 2.5mJ、パルス繰返し数 1~80Hz、2 ns。

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パルスファイバレーザー ”redENERGY G4″

SPI Lasers
[オススメ]

高い柔軟性&高速。種々のマーキングやパルス微細加工に最適なナノ秒パルスファイバレーザー

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最大150μJ出力 高機能フェムト秒/ピコ秒レーザー Satsuma

Amplitude Systemes

革新的なファイバアンプ技術によるコンパクト、ハイパワー、高エネルギー、高繰り返しのフェムト秒/ピコ秒ファイバレーザー。パルス幅は最短 350 fs – 10 ps、繰返し周波数 single shot to 40MHz、最大平均出力 50W、最大パルスエネルギー 150 µJ

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OEM向け固体レーザー増幅器“neoVAN”

neoLASE

小型・高い柔軟性・高い安定性のアンプユニット。簡単操作でエネルギー及びパワー増幅。出力パワー 5~100 W。パルスエネルギー 最大 5mJ。CW ~ ピコ秒パルス。利得 最大40dB。

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材料プロセス用 ナノ秒DPSSレーザー

Photon Energy

ナノ秒レーザー加工、OEM組込みに最適。金属、プラスチック、セラミック、ガラスなど多彩な素材に適用できる高い平均出力:最大200W。1064 nm or 532 nm。繰り返し 1-100 kHz, CW

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Qスイッチ半導体励起固体レーザー“CL-200シリーズ”

Canlas

コンパクト・高い安定性・高繰返し。3波長ラインナップ(1064, 532, 355 nm)。最高12W出力。繰返し 1-100kHz。最小パルス幅 20ns

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4~11 μm モードホップフリーチューニング CW中赤外レーザー“CW-MHF”

DRS Daylight Solutions

中赤外領域をモードホップフリーチューニングできる高安定性外部共振型量子カスケードレーザー(QCL)

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オプトジェネティクス用多波長レーザー光源“LightHUB Optogenetics”

Omicron Laserage Laserprodukte

オプトジェネティクス(光遺伝学)用途に特化。473nm、561nm/594nmレーザーをワンパッケージ化。最大出力150mW@561nm。変調機能付き。

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