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351 nm UV マルチモード Nd:YLFナノ秒パルスレーザー
新商品
DM UVシリーズ ナノ秒レーザーは、シンプルで堅牢な筐体において、最大 60 mJ の高パルスエネルギーを実現します。
ロングパルス幅（～100 ns）と高繰返し周波数（0 ～ 5 kHz）を兼ね備え、半導体製造をはじめ、高パルスエネルギーを必要とする幅広い用途に最適なソリューションを提供します。
DMシリーズ｜351 nm UV マルチモード Nd:YLFナノ秒パルスレーザー
DMシリーズは、特許技術に基づき、コンパクトで堅牢なデザインを採用しています。351 nmにおいて 最大60 mJ @ 1 kHz、< 100 W @ 3 kHz を実現します。半導体アニーリング、レーザーリフトオフ、ウェハダイシング、UVレーザーアブレーション、エキシマレーザーの代替用途に最適で、高エネルギーと高効率を省スペース設計で両立しています。
- 半導体アニーリング
- OLEDディスプレイ用レーザーリフトオフ
- 切断、穴あけ、溶接、マーキング、パターニング
- レーザー誘起蛍光（LIF）
- 半導体リソグラフィ
- 表面クリーニングおよびアブレーション
- ウェハプロセシング
- レーザー誘起ブレークダウン分光法（LIBS）
