ARCO W 10 kHz フェムト秒 Ti:Sapphireレーザーアンプ


メーカー Amplitude Technologies
 
超高速&高強度チタンサファイアレーザーアンプ。繰返し周波数 10 kHz, 最大パルスエネルギー 3mJ。

仕様

モデルARCO W
繰り返し周波数 ※110 kHz10 kHz10 kHz
パルスエネルギー ※2,30.8 mJ @ 10 kHz1.8 mJ @ 10 kHz3 mJ @ 10 kHz
パルス幅 (FWHM) ※4< 100 fs or < 35 fs or < 20 fs
中心波長 ※5800 ± 10 nm800 ± 10 nm800 ± 10 nm
平均出力8 W18 W30 W
ポンプレーザーMesaMesa DuoMesa & Mesa Duo
パルス間エネルギー安定性(RMS) ※61 %1 %0.7 %
パワー安定性(RMS) ※71 %
ナノ秒コントラスト比 ※8< 5×10-4
ピコ秒コントラスト比 ※9<5×10-6 @ 300 – 50 ps & < 10-6 @ 50 – 10 ps & < 10-5 @ 1 ps
ビーム品質 M2< 1.3
ポインティング安定性< 10 μrad RMS
偏光直線, 横偏光
ウォームアップ時間< 1時間

※1 他の繰返し周波数はご相談ください。
※2 パルス幅 25 fs 未満時 0.6mJ /1.6mJ /2.8mJ @10 kHz。
※3 他のエネルギー値はご相談ください。
※4 出荷時設定。ご発注時に設定をお申し付け下さい。出荷前に最適化いたします。
※5 パルス幅 100 fs 時 790 nm ±10 nm。他の中心波長値はご相談ください。
※6 2,000パルス以上。
※7 安定環境下で8時間以上。
※8 プリパルス, 再生増幅レプリカ。
※9 3次クロスコリレータ (SEQUOIA)で測定。

 

オプション

  • キャリアエンベロープ位相(CEP)
  • 最小パルス幅 17 fs
  • 外部同期
  • 使い易いレーザー制御ソフトウェア

アクセサリー

  • エネルギー減衰器
  • アクティブビームポインティング制御
  • Palitra OPA (波長可変域 230 nm – 17 μm)
  • SHG, THG, FHG

発光スペクトル例


ポンプレーザー Mazzler, <20 fs パルス幅, 波長可変幅 100 nm 以上

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