ARCO W 10 kHz フェムト秒 Ti:Sapphireレーザーアンプ

ARCO W　10 kHz フェムト秒 Ti:Sapphireレーザーアンプ

メーカー　Amplitude Technologies

超高速＆高強度チタンサファイアレーザーアンプ。繰返し周波数 10 kHz, 最大パルスエネルギー 3mJ。

仕様

モデル	ARCO W
繰り返し周波数 ※1	10 kHz	10 kHz	10 kHz
パルスエネルギー ※2,3	0.8 mJ @ 10 kHz	1.8 mJ @ 10 kHz	3 mJ @ 10 kHz
パルス幅 (FWHM) ※4	< 100 fs or < 35 fs or < 20 fs
中心波長 ※5	800 ± 10 nm	800 ± 10 nm	800 ± 10 nm
平均出力	8 W	18 W	30 W
ポンプレーザー	Mesa	Mesa Duo	Mesa & Mesa Duo
パルス間エネルギー安定性(RMS) ※6	1 %	1 %	0.7 %
パワー安定性(RMS) ※7	1 %
ナノ秒コントラスト比 ※8	< 5×10^-4
ピコ秒コントラスト比 ※9	<5×10^-6 @ 300 – 50 ps　&　< 10^-6 @ 50 – 10 ps　&　< 10^-5 @ 1 ps
ビーム品質 M²	< 1.3
ポインティング安定性	< 10 μrad RMS
偏光	直線, 横偏光
ウォームアップ時間	< 1時間

※1 他の繰返し周波数はご相談ください。
※2 パルス幅 25 fs 未満時 0.6mJ /1.6mJ /2.8mJ @10 kHz。
※3 他のエネルギー値はご相談ください。
※4 出荷時設定。ご発注時に設定をお申し付け下さい。出荷前に最適化いたします。
※5 パルス幅 100 fs 時 790 nm ±10 nm。他の中心波長値はご相談ください。
※6 2,000パルス以上。
※7 安定環境下で8時間以上。
※8 プリパルス, 再生増幅レプリカ。
※9 3次クロスコリレータ (SEQUOIA)で測定。

オプション

キャリアエンベロープ位相(CEP)
最小パルス幅 17 fs
外部同期
使い易いレーザー制御ソフトウェア

アクセサリー

エネルギー減衰器
アクティブビームポインティング制御
Palitra OPA (波長可変域 230 nm – 17 μm)
SHG, THG, FHG

発光スペクトル例

ポンプレーザー Mazzler, <20 fs パルス幅, 波長可変幅 100 nm 以上

お問合せ