ARCO X 10 Hz, 1.1J フェムト秒 Ti:Sapphireレーザーアンプ


メーカー Amplitude Technologies
 
超高速&超高強度チタンサファイアレーザーアンプ。繰返し周波数 10 Hz, 最大パルスエネルギー 1.1J。

仕様

モデルARCO X
繰り返し周波数 ※110 Hz10 Hz10 Hz10 Hz
パルスエネルギー※225 mJ100 mJ500 mJ1.1 J
パルス幅 (FWHM)※3< 100 fs or < 35 fs or < 20 fs
中心波長 ※4800 ± 10 nm800 ± 10 nm800 ± 10 nm800 ± 10 nm
最大出力1.25 TW5 TW25 TW55 TW
ポンプレーザーInlite IIMinilite II
& Surelite III
Inlite II
& Powerlite 2,5 J
Inlite II
& Powerlite 2,5 J
パルス間エネルギー安定性(RMS) ※5< 1.5 %< 1.5 %< 1.5 %< 1 %
パワー安定性(RMS) ※62 %, 8時間以上
ナノ秒コントラスト比 ※7< 5×10-4
ピコ秒コントラスト比 ※8< 5×10-7 @ 300 – 50 ps & < 10-6 @ 50 – 10 ps & < 10-5 @ 1 ps
ビーム品質, M2< 1.5
ポインティング安定性 ※5< 10 μrad RMS
偏光直線, 横偏光
ウォームアップ時間< 1時間

※1 他の繰返し周波数はご相談ください。
※2 他のエネルギー値はご相談ください。
※3 出荷時設定。ご発注時に設定をお申し付け下さい。出荷前に最適化いたします。
※4 パルス幅 100 fs 時 790 nm ±10 nm。他の中心波長値はご相談ください。
※5 連続2,000パルス以上。
※6 安定環境下で8時間以上。
※7 プリパルス, 再生増幅レプリカ。
※8 3次クロスコリレータ (SEQUOIA)で測定。

 

高品質ビームプロファイル(500 mJ)


 

高ピコ秒コントラスト比


 

オプション

  • 真空互換コンプレッサー
  • 最小パルス幅 20 fs
  • 外部同期
  • 使い易いレーザー制御ソフトウェア

高エネルギー用真空コンプレッサ

Genpulse 安全性・タイミング制御ユニット

 

アクセサリー

  • エネルギー減衰器
  • アクティブビームポインティング制御
  • Palitra OPA (波長可変域 230 nm – 17 μm)
  • 実験反射光の隔離
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