ARCO X 10 Hz, 1.1J フェムト秒 Ti:Sapphireレーザーアンプ
仕様
モデル | ARCO X | |||
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繰り返し周波数 ※1 | 10 Hz | 10 Hz | 10 Hz | 10 Hz |
パルスエネルギー※2 | 25 mJ | 100 mJ | 500 mJ | 1.1 J |
パルス幅 (FWHM)※3 | < 100 fs or < 35 fs or < 20 fs | |||
中心波長 ※4 | 800 ± 10 nm | 800 ± 10 nm | 800 ± 10 nm | 800 ± 10 nm |
最大出力 | 1.25 TW | 5 TW | 25 TW | 55 TW |
ポンプレーザー | Inlite II | Minilite II & Surelite III | Inlite II & Powerlite 2,5 J | Inlite II & Powerlite 2,5 J |
パルス間エネルギー安定性(RMS) ※5 | < 1.5 % | < 1.5 % | < 1.5 % | < 1 % |
パワー安定性(RMS) ※6 | 2 %, 8時間以上 | |||
ナノ秒コントラスト比 ※7 | < 5×10-4 | |||
ピコ秒コントラスト比 ※8 | < 5×10-7 @ 300 – 50 ps & < 10-6 @ 50 – 10 ps & < 10-5 @ 1 ps | |||
ビーム品質, M2 | < 1.5 | |||
ポインティング安定性 ※5 | < 10 μrad RMS | |||
偏光 | 直線, 横偏光 | |||
ウォームアップ時間 | < 1時間 |
※1 他の繰返し周波数はご相談ください。
※2 他のエネルギー値はご相談ください。
※3 出荷時設定。ご発注時に設定をお申し付け下さい。出荷前に最適化いたします。
※4 パルス幅 100 fs 時 790 nm ±10 nm。他の中心波長値はご相談ください。
※5 連続2,000パルス以上。
※6 安定環境下で8時間以上。
※7 プリパルス, 再生増幅レプリカ。
※8 3次クロスコリレータ (SEQUOIA)で測定。
高品質ビームプロファイル(500 mJ)
高ピコ秒コントラスト比
オプション
アクセサリー
- エネルギー減衰器
- アクティブビームポインティング制御
- Palitra OPA (波長可変域 230 nm – 17 μm)
- 実験反射光の隔離
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