レーザー干渉リソグラフィのための低ノイズ CW UVレーザー

高精細リソグラフィに最適な、320nm・349nm DPSSレーザー

Skylark Lasers社の320nm/349nm 紫外レーザーは、高い出力、スペクトル純度、安定性を併せ持つDPSSレーザーです。従来のガスイオンレーザーと比較して、より長いコヒーレンス長とライフタイム、および大幅に低い所有コストを提供します。
8インチを超える広範囲の表面に、ばらつきを最小化した高精細な構造を形成できます。

レーザー干渉リソグラフィとは

レーザー干渉リソグラフィ（LIL, Laser Interference Lithography）は、マイクロおよびナノスケールのデバイス用に非常に微細なパターンを作成するための技術です。光感応材料上に精密な干渉パターンを生成し、ナノスケールの周期構造を形成します。回折格子、導波路、フォトニック結晶の製造に広く活用されており、露光時のビーム安定性やスペクトル純度がパターン品質に直結します。
単一周波数DPSSレーザーは、レーザー干渉リソグラフィにおいて、精密な干渉パターン生成に必要な安定性とコヒーレンスを提供します。単一周波数 DPSSレーザーの波長安定性が、干渉パターンの制御、変動の低減、および広範囲の表面におけるパターンの一貫性向上に寄与します。これにより、サブミクロンおよびナノスケールレベルでの正確なパターニングと、ひいては高度なマイクロ／ナノスケール構造の製造を実現できます。
 

DPSSレーザーが貢献する干渉露光技術

高い安定性ビーム品質に優れたDPSSレーザーは、さまざまな干渉リソグラフィ用途において、一貫した高品質な成果を保証します。

• 高解像度周期構造のナノファブリケーション
• 走査電子顕微鏡（SEM）統合（SEM画像化）
• 回折格子（透過型、ブレーズド、正弦波型、ライン型、クロス型、2D格子）の製造
• 回折光学素子（DOE）の製造
• 光導波路（ウェーブガイド）の製造
• ホログラフィック光学素子（HOE）の製造
• 光学フィルタの製造
• ナノフォトニクス応用


 

なぜ干渉リソグラフィにSkylark Lasers社のUVレーザーなのか？

Skylark Lasersの320nm／349nm CWレーザーは、低ノイズ（<0.1% RMS）、狭線幅（<0.5MHz）であると同時に、紫外領域（320nm／349nm）で最大400mWを出力します。Skylark LasersのUV DPSSレーザーをリソグラフィプロセスに導入することで、生産効率の向上、エラーや欠陥の最小化、最先端技術に必要な高解像度を実現できます。  

優れたコヒーレンス性

鮮明で明確な干渉縞を生成し、ナノスケールでの正確なパターニングが可能です。

高安定性

周波数と強度はいずれも非常に安定性が高く、24時間以内の周波数ドリフト 100fm未満で、高アスペクト比を実現します。

高出力

高出力により、露光効率を向上させ、広い面積での高速処理とフォトレジストの深部浸透を可能にします。

均一な露光

M² < 1.2の均一な空間モードにより、パターン構造の変動を最小限に抑えられます。



 
Martin-Luther大学 Bodo Fuhrmann博士のコメントです：「Skylark 349 NXレーザーで、レーザー干渉リソグラフィ（LIL）を用いた高解像度の周期パターンを生成することができました。ロイド干渉計構成を採用し、クロムとポジ型フォトレジストの組み合わせにより、100 nm未満の微細構造を実現しました。」
ケーススタディの詳細は、Skylark Lasersのホームページ内記事「Advanced nanostructure fabrication using the Skylark 349 NX ultraviolet DPSS laser for interference lithography」（英語）をご参照ください。