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OPCPAポンプ用 パルス整形 Nd:YAG/Nd:glassレーザー Intrepid

Amplitude

パルス幅 1 to 18 ns、平均出力 1 to 100 W、パルスエネルギー 5 mJ to 100 J
OPCPAアンプのポンピング用に特別に調整された高エネルギー・パルスレーザーシステムです。レーザーの出力は、空間的および時間的に平坦になるように成形され、波形全体にわたって入力チャープパルスを均一に増幅します。

OPCPAのポンピングのための高エネルギー&均一性の高いチャープパルスを生成

Amplitude の Intrepid は、OPCPAアンプのポンピング用に特別に調整された高エネルギー・パルスレーザーシステムです。レーザーの出力は、空間的および時間的に平坦になるように成形され、波形全体にわたって入力チャープパルスを均一に増幅します。
Intrepid では、パルスに優先的にストレスをかけて、シードパルスの歪みを調整することができます。線形ランプ、t3、マルチパルスといったパルスパターンを生成します。出力エネルギーはミリジュールオーダーから数百ジュールまで、パルス幅は 0.5~18 ns 範囲で提供可能です。
 

Intrepid OPCPAポンプ用 パルス整形 Nd:YAG/Nd:glassレーザーの主な特長

 

  • OPCPA ポンピング用の特別デザイン:標準プラットフォーム上でパルス幅をプログラム可能
  • インテリジェントな制御アーキテクチャ:包括的なシステム管理が可能
  • 直感的なGUI
  • スケーラブルなアーキテクチャで、要求の厳しいアプリケーションにも対応可能
  • OPCPAのポンピング
  • レーザー駆動ダイナミック圧縮
  • レーザー核融合
  • レーザーピーニング
モデルIntrepid 700Intrepid 712Intrepid 721Intrepid 730Intreprid 725Intrepid 750
ビーム径@ 1/e2~3 mm~8.5 mm~19.5 mm~26 mm~22 mm~ 45 mm
パルスエネルギー@1064 nm> 10 mJ> 1.5 J> 5 J> 10 J> 20 J> 100 J
パルス間安定性@1064nm< 1.5% RMS< 1.5% RMS< 1.5% RMS< 1.5% RMS< 1.5% RMS< 1.5% RMS
パルス幅(時間的シェーピング可能)1 – 18 ns1 – 18 ns1 – 18 ns1 – 18 ns1 – 18 ns1 – 18 ns
繰返し周波数Up to 10 HzUp to 10 HzUp to 10 HzUp to 10 HzUp to 0.1 Hz1 shot / min
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