大型サンプルをそのまま、高空間分解能ケミカルイメージング＆ナノスケールIR分光

Molecular Vista社からウェハやフォトマスクをそのまま分析できる半導体向けのAFM-IR装置が発売されました。
200mm×200mm ステージにより、200mm（8インチ）ウェハや152mmフォトマスクといった大型サンプルを、非破壊でAFM-IR測定できます。空間分解能の高いケミカルイメージングや、ナノスケールIR分光によるナノ異物分析が可能です。
 

産業用途に最適化＆高いAFM性能

• 200mm×200mm サンプルステージ：ウェハ（8インチ、6インチ、4インチ）やフォトマスク対応
• 真の非接触モード計測でサンプルとチップをクリーンな状態に保持
• 迅速な測定＆容易なシステム統合
• スキャナ走査範囲：120µm (xy), 12µm (z)
• チップやサンプルの交換が簡単で、熱によるドリフトを最小化
• 特殊環境が不要な自己完結型システム

卓越した表面解析性能

• AFM-IFでのナノ欠陥IR分析
• IRライブラリ対応
• PiFM化学マッピング：サブ5 nm のIR 空間分解能
• 単一分子レベルの感度を実現する究極の分光ナノスコピーPiFM・PiF -IR