近赤外（780nm または 785nm）CW DPSSレーザーで、狭線幅（< 300 kHz）、非常に低い強度ノイズ（< 0.3% RMS）、回折限界TEM00ビーム、M2 < 1.2、高いスペクトル純度、フィルタ不要のクリーンビームを実現。 780nm モデルは量子技術開発におけるルビジウム遷移（Rb 85, Rb 87）の精密な測定と制御に、785nm モデルは高解像度・高コントラストのラマン分光に最適です。

紫外（320 nm または 349 nm）CW DPSSレーザーで、狭線幅（< 500 kHz）、非常に低い強度ノイズ（< 0.3% RMS）、回折限界TEM00ビーム、M2 < 1.2、高いスペクトル純度、フィルタ不要のクリーンビームを実現。 ラマン分光、顕微鏡検査、レーザー干渉リソグラフィ、半導体検査、フォトルミネセンスなど、高精度、高安定性、良好なスペクトル純度が求められる高度な研究アプリケーションにも最適です。

Skylark Lasers ケーススタディ：Skylark 349 NX UV DPSSレーザーを用いた干渉リソグラフィーによる高度なナノ構造作製。 ドイツのマルティン・ルター大学ハレ＝ヴィッテンベルク校 材料科学学際センター（CMAT）Bodo Fuhrmann博士との共同研究による、2024年12月4日公開のケーススタディです。

Skylark Lasers社の780 nm/785 nm CWレーザーは、ブリルアン顕微鏡法・分光法に最適です。この波長域で比類のない非常に低いASEノイズとフィルター不要のクリーンビームを実現し、さらに狭線幅スペクトルで、弱く複雑なブリルアン散乱を効率的に検出できます。

干渉リソグラフィや光格子形成には、Skylark Lasersの高安定性 320nm/349nm CW紫外レーザーが最適です。8インチ以上の表面に、回折格子・導波路などの精細な構造を形成できます。