近赤外 780nm / 785nm の単一周波数CW DPSSレーザー。スペクトル幅 ≤ 300 kHz、出力ノイズ ≤ 0.3% RMS、ASEノイズ < –80 dB の回折限界TEM00ビームを、増幅器やフィルタなしで出力します。780nmモデル Skylark 780 は内蔵ルビジウム（Rb）リファレンスへの自動ロックに対応（オプション）し、Rb D2線を用いる量子技術やブリルアン顕微鏡に最適です。785nmモデル 785 NX はラマン分光に適しています。

紫外（320 nm または 349 nm）CW DPSSレーザーで、狭線幅（< 500 kHz）、非常に低い強度ノイズ（< 0.3% RMS）、回折限界TEM00ビーム、M2 < 1.2、高いスペクトル純度、フィルタ不要のクリーンビームを実現。 ラマン分光、顕微鏡検査、レーザー干渉リソグラフィ、半導体検査、フォトルミネセンスなど、高精度、高安定性、良好なスペクトル純度が求められる高度な研究アプリケーションにも最適です。

Skylark Lasersの単一周波数UVレーザー（320 nm／349 nm）は、8インチウェハの全面を90秒以内で高解像度スキャン可能な高出力・高安定DPSSレーザーです。微細構造や薄膜の欠陥を非破壊で高精度に検出し、最先端半導体製造やメトロロジー分野で求められる高信頼な光源を提供します。

Skylark Lasers ケーススタディ：Skylark 349 NX UV DPSSレーザーを用いた干渉リソグラフィーによる高度なナノ構造作製。 ドイツのマルティン・ルター大学ハレ＝ヴィッテンベルク校 材料科学学際センター（CMAT）Bodo Fuhrmann博士との共同研究による、2024年12月4日公開のケーススタディです。

Skylark Lasers社の780 nm/785 nm CWレーザーは、ブリルアン顕微鏡法・分光法に最適です。ASEノイズ < –80 dB の非常に低いノイズとフィルタ不要のクリーンビームに加え、狭線幅スペクトルで、弱く複雑なブリルアン散乱を効率的に検出できます。780 nmモデルはRbガスセルの内蔵にも対応しています。

干渉リソグラフィや光格子形成には、Skylark Lasersの高安定性 320nm/349nm CW紫外レーザーが最適です。8インチ以上の表面に、回折格子・導波路などの精細な構造を形成できます。