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Nd:YAG 400 mJ 高エネルギー ナノ秒パルス DPSSレーザー HiEN Pulse 400-YAG

Monocrom

Nd:YAG結晶を用いた高エネルギーのナノ秒パルスDPSSレーザー。1064 nmで400 mJ、繰返し周波数150 Hz、パルス幅10 ns。532 nm、355 nmの高調波出力にも対応し、全波長でRMS約1 %の優れたパルスエネルギー安定性を備えています。

HiEN Pulse 400-YAG ― 長寿命・高エネルギー ナノ秒パルスDPSSレーザー

HiEN Pulse 400-YAGは、実績あるNd:YAG結晶を採用した高エネルギーのナノ秒パルスDPSSレーザーです。Nd:YAGは熱伝導率と機械的強度が高く、エネルギーを効率よく取り出せる結晶です。等方性のため偏光に起因するひずみがなく、ビーム品質が安定し、アライメントも容易です。熱応力への耐性と長期耐久性にも優れ、要求の厳しいレーザー用途を支える信頼性の高いプラットフォームです。

1064 nmで400 mJを出力し、波長変換により532 nmと355 nmにも対応します。繰返し周波数は150 Hz、パルス幅は10 nsです。最大の特長はパルスエネルギーの安定性で、RMS変動は全波長で約1 %に抑えられています。効率的な熱管理と精密に設計されたMOPA構成により、ドリフトを±1 %以内に保ち、安定した性能を発揮します。

スーパーガウシアンのビームプロファイル

HiEN Pulse 400-YAG 代表的な出力ビームプロファイル(1064 nm、近視野)

なめらかなスーパーガウシアン形状のビームプロファイルにより、均一なエネルギー分布が得られます。非線形分光、OPOやTi:Sapphireの励起、精密アブレーションなど、均一性が重要な用途で大きな利点となります。

※画像:代表的な出力ビームプロファイル(1064 nm、近視野)

特許取得のはんだフリー固定技術

特許取得のはんだフリー固定技術(Clamping™)により、LDの寿命を10億ショット以上に延ばし、サービスによる中断を最小限に抑えながら安定した性能を維持します。励起用LDの熱管理も改善され、運用上の安全性がさらに高まります。

モジュール構造、カスタマイズ可能な出力、メンテナンスの手間が非常に少ない運用を兼ね備えたHiEN Pulse 400-YAGは、先端研究や産業用途に適した、長寿命・高エネルギーのナノ秒レーザーです。

主な特徴

  • 先進のDPSS励起技術
  • 高繰返し時でも均一なビームプロファイル
  • 優れたパルスエネルギー安定性
  • 汎用性の高いモジュール型プラットフォーム設計
  • カスタマイズ可能な出力パラメーター
  • 特許取得のはんだフリー固定技術によるLDの長寿命化
  • 高効率なDPSS励起ヘッド

応用例

  • 非線形分光
  • プラズマ研究
  • 精密材料アブレーション
  • レーザー超音波イメージング
  • OPO、Ti:Sapphire、色素レーザーの励起
  • リモートセンシング
  • 光学部品のLIDT(レーザー損傷しきい値)試験
モデルHiEN Pulse 400-YAG
パルスエネルギー [mJ]
1064 nm / 532 nm / 355 nm
400 / 200 / 120
パルス繰返し周波数 [Hz]150
パルス幅 [ns]10 ± 3
パルスエネルギー安定性(RMS)[%]
1064 nm / 532 nm / 355 nm
< 1.0 / < 1.5 / < 2.0
長期出力ドリフト [%]※5< ±1.0
ビームプロファイルスーパーガウシアン
ビーム楕円率> 0.9
ビーム径 [mm]4.0 ± 0.5
ビーム発散角 [mrad]※6< 1.0
偏光直線偏光、100:1
光学ジッター [ns]< 1.5
冷却方式水冷
レーザーヘッド寸法(L × W × H)[mm]900 × 500 × 225
予想寿命 [shots]※7109
レーザー製品クラス(EN-60825)Class 4

※1 仕様は予告なく変更される場合があります。

※2 そのほかのご要望はお問合せください。

※3 25 °C、寿命初期における仕様です。

※4 特記のない限り、基本波での仕様です。

※5 20分のウォームアップ後、周囲温度変動 ±2 °C未満の条件で8時間測定。

※6 1/e2レベルで測定した全角。

※7 定格動作条件から外れて使用した場合、寿命が短くなります。

外形寸法図

HiEN Pulse 400-YAG 外形寸法図

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