HiEN Pulse 300-YLF ― 熱レンズ効果を抑えた高エネルギー ナノ秒パルスDPSSレーザー
HiEN Pulse 300-YLFは、PH6000励起モジュールを採用したNd:YLF結晶ベースのレーザーです。Nd:YLFはもともと熱レンズ効果が小さい結晶で、優れたビーム品質、高い偏光純度、機械的応力の低減を実現します。高エネルギー動作に最適な選択肢です。
1053 nmで最大300 mJを出力し、526.5 nmと351 nmの高調波にも対応します。繰返し周波数は100 Hz、パルス幅は10 nsです。最大の特長はパルスエネルギーの安定性で、RMS値は全出力で1 %前後です。熱負荷の低減と綿密に設計されたMOPA構成により、長期ドリフトを±1 %未満に抑え、安定した性能を維持します。
スーパーガウシアンのビームプロファイル
なめらかなスーパーガウシアン形状のビームプロファイルにより、均一なエネルギー分布が得られます。非線形分光、OPO、Ti:Sapphire、色素レーザーの励起、材料アブレーションなど、精度と均一性が重要な用途で、より良い結果につながります。
※画像：代表的な出力ビームプロファイル（左：1053 nm、右：351 nm、いずれも近視野）
特許取得のはんだフリー固定技術
特許取得のはんだフリー固定技術（Clamping™）により、LDの寿命を10億ショット以上に延ばし、サービスによる中断を最小限に抑えながら安定した性能を維持します。励起用LDの熱管理も改善され、運用上の安全性がさらに高まります。
モジュール構造、カスタマイズ可能な出力、メンテナンスの手間が非常に少ない運用を兼ね備えたHiEN Pulse 300-YLFは、先端研究や産業用途に適した、長寿命・高エネルギーのナノ秒レーザーです。
主な特徴
- 先進のDPSS励起技術
- 熱レンズの影響を最小限に抑制
- 優れたパルスエネルギー安定性
- 汎用性の高いモジュール型プラットフォーム設計
- カスタマイズ可能な出力パラメーター
- 特許取得のはんだフリー固定技術によるLDの長寿命化
- 高効率なDPSS励起ヘッド
応用例
- 非線形分光
- プラズマ研究
- 精密材料アブレーション
- レーザー超音波イメージング
- OPO、Ti:Sapphire、色素レーザーの励起
- リモートセンシング
- 光学部品のLIDT（レーザー損傷しきい値）試験
| モデル | HiEN Pulse 300-YLF |
|---|---|
| パルスエネルギー [mJ] 1053 nm / 526.5 nm / 351 nm | 300 / 150 / 100 |
| パルス繰返し周波数 [Hz] | 100 |
| パルス幅 [ns] | 10 ± 3 |
| パルスエネルギー安定性（RMS）[%] 1053 nm / 526.5 nm / 351 nm | < 0.8 / < 1.0 / < 1.2 |
| 長期出力ドリフト [%]※5 | < ±1.0 |
| ビームプロファイル | スーパーガウシアン |
| ビーム楕円率 | > 0.9 |
| ビーム径 [mm] | 4.0 ± 0.5 |
| ビーム発散角 [mrad]※6 | < 1.0 |
| 偏光 | 直線偏光、100:1 |
| 光学ジッター [ns] | < 1.5 |
| 冷却方式 | 水冷 |
| レーザーヘッド寸法（L × W × H）[mm] | 900 × 500 × 225 |
| 予想寿命 [shots]※7 | 109 |
| レーザー製品クラス（EN-60825） | Class 4 |
※1 仕様は予告なく変更される場合があります。
※2 そのほかのご要望はお問合せください。
※3 25 °C、寿命初期における仕様です。
※4 特記のない限り、基本波での仕様です。
※5 20分のウォームアップ後、周囲温度変動 ±2 °C未満の条件で8時間測定。
※6 1/e2レベルで測定した全角。
※7 定格動作条件から外れて使用した場合、寿命が短くなります。
外形寸法図
