高出力マイクロチップレーザー装置 ナノ秒mJパルス“HiPoLas”

CTR

最大出力 40 mJ, 最大繰り返し周波数 1kHz, パルス幅 2~10 ns。レーザー点火等 過酷環境下での使用に好適。超コンパクト&高出力

HiPoLasは、レーザー点火など過酷な環境下での使用を見据えて開発された超コンパクトなマイクロチップ高出力(ミリジュール出力)ナノ秒パルスレーザーです
  • 超コンパクト
  • 高出力(mJ)
  • 耐振動、耐環境温度変化

最先端の研究開発成果を世に送り出すCTR社より、革新的なマイクロチップレーザーHiPoLasが製品化されました。独自の完全モノリシック構造で高出力とタフネスを両立。超コンパクトなヘッドにも関わらずレーザーブレークダウンを生じるほど高出力。ヘッド内部に可動光学部品を持たないので振動にも強く、環境の温度変化に左右されません。HiPoLasは産業・フィールドでの使用を可能にする、まったく新しいレーザーです。

  • レーザー点火
  • レーザーブラスト/クリーニング
  • レーザーピーニング/表面改質
  • レーザーマーキング
  • レーザ誘起ブレークダウン/プラズマ分光(LIBS/LIPS)
  • レーザ切断

波長 1064nm (532nmは要相談)
エネルギー Max 40 mJ
パルス幅 Max 2 ~ 10 ns
繰り返し周波数 Max 1kHz
拡がり角 5 mrad
ビーム径 2mm


※上記は参考仕様です。詳しくはカタログをご覧ください。
※HiPoLasシリーズは基本的にカスタム製品となります。 詳しくはお問い合わせください。

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