測定装置
超音波減衰式 粒度分布測定装置 OPUS
一般的な光学的手法では測定が困難な高濃度・高粘度の試料を、希釈することなく、インラインまたはオンラインで測定できます。ミリング、結晶化、重合、沈降、乳化などのプロセスを、リアルタイムに管理する用途に最適です。(測定粒子サイズ 1~3000 µm)
コンパクト モジュール式の蛍光寿命分光計 FluoTime 250
蛍光寿命分光計。コンパクトモジュール方式 TCSPC,MCS(マルチチャンネルスケーリング)の双方データ取得可能。測定可能蛍光寿命約10psから数百ms。スペクトル範囲:255〜1550nm。完全自動化されたハードウェア制御。アプリケーションウィザード・スクリプト言語により多彩な機器に対応可能
AFMコントローラー “Galaxy Dual”
24 bit AFMコントローラー。サポートの終了した Agilent Technology 製 AFM に対応します。シンプルに既存のコントローラーとの置き換えが可能。既存のAFMヘッドへプラグインの上、専用ソフトウェア使用して同様のAFM動作が行えます。
AFMプローブ 磁気力顕微鏡 Co-Cr コーテイング コバルトクロム
HQ:NSCプローブモデルには、磁気力顕微鏡(MFM)用のコーティングを施した製品もご用意しております。コーティングはチップサイドに膜厚60 nmのコバルト層があり、さらに酸化防止のクロムフィルム膜厚20 nmがカバーしています。トポグラフィーと磁気特性の安定した測定のためにカンチレバーのパラメーターは最適化されています。
受託粒度分布測定・各種サービス
粒度分布測定に関する受託測定やコンサルティングなど、様々なサービスをご提供いたします。
LIBSシステム(超高速インライン向け)
完全インライン向けLIBSシステム。20kHzの超高繰返し測定(カスタムで100kHzまで可)
AFMプローブ SiN 窒化シリコンプローブ
シリコンナイトライドカンチレバー・チップのガラスホルダーチップの両側に2つ配置。用途としてソフトコンタクトモードで使われます。
PIV 非コヒーレント・マルチ・パルス・レーザー“FireFly300W”
境界層や壁面流、噴霧の可視化 / PIVに適した非コヒーレント光特性のレーザーです。鏡面やメタルの反射が低く、金属面などの照明に最適です。最大50 kHzの繰り返しが出来るパルス発振により、ハイスピードカメラの撮影コマ数に関係なく一定の明るさで撮影が可能です。
光ドップラー速度計測 ( PDV )
フォトニックドップラー速度計測(PDV)は、数10km/sまでの高速度事象の計測に用いられる確立された技術です。ヘテロダイン速度計とも呼ばれ、VISAR(Velocity Interferometer System for Any Reflector)の補助ツールまたは代替ツールとして使用することが出来ます。
ポータブル型 粒度分布測定装置 “VisiSize P15 Portable V” (新画像解析式)
キャリーケースで運搬のでき、取り扱いの簡単な小型軽量タイプ。粒径5μm~3,900μm。速度同時測定モデル
小型 高性能 飛行時間型質量分析計 (TOF-MS/RGA)
Spacetek Technology社の IonTamer™ は飛行時間型の質量分析計 / 残留ガス分析器 (TOF-RGA) です。ガス組成をリアルタイムで、高分解能、高感度にモニターします。世界最高性能のRGAであるIonTamer™は、これまで実験室用装置でしか得られなかった性能を、コンパクトで扱いやすく、組み込み可能にしました。半導体製造、OLEDディスプレイ製造、光学部品、ソーラーパネル製造、真空コーティングプロセス(CVD、PVD、ALD)、真空炉、冶金、超高真空などでの研究、過酷な環境下での用途に対応します。
白色干渉計 高速・多機能モデル ”S neox”
S neox は、性能、機能、効率、デザインの全ての面で既存の光学3Dプロファイリング顕微鏡を凌駕する、クラス最高の面形状計測システムです。
非接触型厚さ測定装置 “VarioMetric”
レーザー干渉を利用した厚さ測定装置。厚膜(1~500μm)測定用。小型・高速・高精度
レーザー回折式 粒度分布測定装置 HELOS
乾式測定における試料分散性能と測定再現性に優れており、凝集しやすい試料でも安定して測定できます。世界各国に多数の納入実績があり、製薬、化学、磁性体、食品などの様々な業界で採用されています。(測定範囲: 0.1~3500 µm)
フォトンカウンティング 光子計数とタイミング (蛍光測定・量子相関)
PicoQuantのフォトンカウンティング(光子計数)向けの幅広い製品には、時間相関シングルフォトンカウンティング(TCSPC)とイベントタイミング用の高性能モジュール、シングルフォトンセンシティブ検出器、および(時間分解)蛍光測定と量子相関の評価用の専用分析ソフトウェアが含まれます。
AFMプローブ HQシリーズ
位相イメージングは、異種材料や特性の不均一性を持つサンプルにおいて、ナノスケールの違いをイメージングするために用いられるAFM技術の一つです。位相コントラストは、チップとサンプル間の相互作用に基づきますが、これらの相互作用は、スキャンパラメーターや、イメージングの測定モード(原子間力の引力領域か斥力領域で捜査しているかなど)に依存します。O’DeaとBurratoは、位相イメージングを使用して、Nafion膜のプロトン伝導ドメインをマッピングしました。彼らは、先端とサンプルの間の特定の相互作用力がプロトン伝導ドメインの分解能に大きく影響することを発見しました。斥力レジームでのイメージングにより、ドメインの面積が大きめに表示され、ドメインの数が少なめに表示されました。引力領域でのイメージングにより、水やフルオロカーボンのドメインが最も正確に測定できました。AFMのフィードバックループが最適化されていない場合、またはカンチレバーが共振周波数を超えて駆動していた時、位相イメージングは組成の違いではなく、形状の変化に対応するイメージになりました。
テラヘルツ分光解析装置“T-COGNITION”
テラヘルツ分光により、封書や小包の中に隠された有害物質を正確に、わずか数秒以内で同定
AFMプローブ 高分解能 Hi’Res-C
Hi’Res-Cプローブはシリコンプローブよりも汚染が少なく、より多い枚数の高解像度スキャンの実行が可能です。Hi’Res-Cは微小領域 (< 250 nm) の走査や、平坦なサンプル (Ra < 20 nm) の測定で顕著に能力を発揮します。*本プローブは先端の曲率半径が小さいため、先端とサンプルの相互作用力は小さくなります。
装置組込み用白色干渉計・共焦点顕微鏡 シリーズ一覧
非接触・非破壊で表面の微細形状、面粗度、粗さ、薄膜計測などの3D形状を測定することができる装置組込み用の顕微鏡ユニット 。白色干渉計および3Dレーザー顕微鏡に代表される共焦点顕微鏡技術を搭載。
PXIプラットフォーム (コントローラ・通信用レーザー・パワーメータ・可変減衰器・コンバータ等)
PXI(PCI Extensions for Instrumentation)に対応。通信用レーザー・パワーメータ・コンバータ・減衰器・光/電気コンバータ等を1つのプラットフォームに一体化することが可能です。高い拡張性から計測モジュールの交換が可能。用途に合わせて複数のレーザーやパワーメータなど組み合わせカスタマイズが出来ます。使い易いソフトウェアでプラットフォームの全ての機能にアクセス頂けます。
同期システム Sync&Amplock
Sync&Amplockは、Amplitude Systemes社の超高速レーザーと互換性がありアドオンできる最先端の同期ユニットです。 様々な用途において、無線周波数や光学リファレンスと最高の精度でシステム同期できます。
導電性プローブ
導電性プローブ:- Pt プラチナ、Cr-Au 金 コーティング, – 高分解能導電性 DPERシリーズ, – 低ノイズ導電性 DPEシリーズ
基板用 高速レーザー欠陥スキャナー ATシリーズ
Lumina Instruments社のATシリーズは、ガラス基板、半導体基板、ディスプレイ基板などの基板の欠陥を可視化する欠陥検査イメージング装置です。高速での測定とnm単位の高いPSLパーティクル感度を実現。
レーザー光源内蔵 ラマン分光計 “YOA-8401シリーズ”
狭線幅レーザーを内蔵したラマン分光計 励起波長が785nmと532nmのタイプをラインナップ。4000cm-1までの広いスペクトル範囲と8cm-1以上の高い分解能で、物質分析・同定が可能です。