レーザー・光源

レーザー・光源 一覧

CO2レーザー COレーザー IR-CO2 IRCO-CO

Infrared Instruments

超安定、長寿命、コンパクトなCO2、COレーザーです。堅牢で信頼性の高いレーザーシステムを設計、開発、製造を行っています。

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チューナブル・光音響イメージング光源“PHOCUSシリーズ”

Opotek

690~950 nm, 1200~2600 nm。繰返し10 or 20Hz (Phocus HR Mini のみ100Hz)。パルス幅5~9 ns。リングキャビティOPOベース 波長可変レーザー

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レーザーダイオードモジュール“LDM-XT laserシリーズ”

LASOS

375~830nm の多彩な波長ラインナップと高品質ビーム。ファイバ出力または空間ビーム出力。最大出力300mW(空間)。スペクトル幅 <3nm (0.1pmまで可)

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ピコ秒パルスレーザー光源(波長 255nm~1,990nm)

PicoQuant

ピコ秒パルスレーザー光源はレーザーダイオードベースまたはLEDベースのデバイスです。繰返し周波数は最大100MHzまでユーザーせ調整が可能です。 255nmから1990nmまでの離散波長をカバー。 最短パルス幅40ps。RGB3色ピコ秒レーザーをリリース(2021年11月)

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レーザー光源内蔵 ラマン分光計 “YOA-8401シリーズ”

Yixi Intelligent Technology
[新商品]

狭線幅レーザーを内蔵したラマン分光計 励起波長が785nmと532nmのタイプをラインナップ。4000cm-1までの広いスペクトル範囲と8cm-1以上の高い分解能で、物質分析・同定が可能です。

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最先端 フラッシュランプ励起 ナノ秒 YAGレーザー&ガラスレーザー

Amplitude Technologies

高度な要求に応える、特別かつ無二のナノ秒パルス・レーザーソリューション。Premiumlite-YAG YAGレーザー:>75 J @1064 nm, >55 J @532 nm、繰返し周波数 10 Hz。Premiumlite-Glass ガラスレーザー:>250 J @1053 nm, >200 J @527 nm, 繰返し周波数 0.1 Hz

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チューナブル OPOレーザー“C-WAVE シリーズ”

HÜBNER

光パラメトリック発振器(OPO)での 波長可変CWレーザー光源。可視光から近赤外の波長領域と広範囲で調整可能。コンピュータでの制御で自動波長調整。
【NEW!】可視域での波長可変域をさらに拡大したC-WAVE GTR発売(2021年5月)

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高出力・高繰返し Qスイッチ半導体励起固体レーザー“CL210シリーズ”

Canlas

レーザー加工に適した短パルスレーザー。3波長ラインナップ(1064, 532, 355 nm)。最高20W出力。繰返し周波数 1-100kHz。最小パルス幅 20ns

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超高出力LEDモジュール LEDMOD HP シリーズ

Omicron Laserage Laserprodukte

365nm~660nmの波長+白色のLEDモジュール。LEDチップのTEC温度制御による高い波長および出力安定性。マルチモードファイバーとリキッドライトガイドのカップリング対応可能。アナログ/デジタル変調最大500kH、スイッチング時間<2μs、プログマブルPWM周波数(最大200kHz)発生器を内蔵。SYNC出力。

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高出力ハイブリッドピコ秒レーザー

スペクトロニクス

ハイパワー国産ピコ秒ハイブリッドレーザー。高出力グリーンレーザー、UVレーザーでの高速加工が可能。材料の切断や穴あけに最適。特にセラミクス(アルミナなど)材料の加工に定評があります。

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ナノ秒 MIR 中赤外レーザー “Ivy”

Glucoloop
[新商品]

ナノ秒レーザー Ivyは、ピークパワー >9 kW、 平均出力数ナノ秒のパルス幅を持つ業界初のオールインワンの中赤外レーザーです。

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400W出力 ピコ秒レーザー Amphos3000シリーズ

AMPHOS

最大出力パワー 400W。最大パルスエネルギー 15mJ。OPCPAポンピングや材料加工に好適。

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最大 50 J 高エネルギー Nd:YAGレーザー

Beamtech Optronics

最大パルスエネルギー 50 J @ 1064 nm, 最大繰り返し周波数 50 Hz, パルス幅 8 – 20 ns(オプション)の高エネルギー Nd:YAGレーザー。科学研究や、OEM産業用途向けアプリケーションなどに最適です。

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2μm ナノ秒パルス ファイバーレーザー “PowerWave2000-ns”

NPI Lasers

中赤外スーパーコンティニューム光源の励起に最適。中心波長 1900~2000 nm、繰り返し周波数 kHz~MHz、パルスエネルギー10 μJにて最大出力10 W

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材料プロセス用 ピコ秒レーザー CEPHEUS

Photon Energy

ピコ秒レーザー加工、OEM組込みに最適なモードロック・ダイオード励起Nd:YVO4レーザー。透明材料を含む多彩な素材の非熱加工や、高繰り返し周波数、ピコ秒パルスによる高速加工、精密加工に最適。SHG, THG可。最大平均出力50W、最大繰返し1MHz、パルス幅15ps、最大パルスエネルギー300 μJ

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高繰返し&広帯域 フェムト秒OPA Mango

Amplitude Systemes

高繰り返し周波数&広いカバー波長域の、完全自動化オプティカル・パラメトリック・アンプ(OPA)システム。パルス幅:70~300 fs、繰返し周波数:最高 2 MHz、高い変換効率:12%以上 、波長域:210-11000 nm, 325-2500 nm

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200mW出力 ピコ秒レーザー Amphos1000シリーズ

AMPHOS

出力パワー200 mW。最大パルスエネルギー 2μJ。ナノ秒~ピコ秒パルスを出力。Yb:YAGのシード光や顕微鏡用途に好適。

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高ピークパワー Qスイッチ半導体励起固体レーザー“CP600シリーズ”

Canlas

高ピークパワー 750μJ @10kHz(1064nm)、300μJ @10kHz(532nm)。パルス幅 約4ns

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中赤外 広帯域チューナブルレーザー OPPO MIR

NPI Lasers

中赤外 MIR 2.8~4.2umの波長範囲で調整可能、ピコ秒パルスレーザー。最大出力1W以上。ガスセンシング・リモートセンシング・バイオメディカルで好適

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最大40μJ出力 高機能フェムト秒レーザー Satsuma Niji

Amplitude Systemes

平均出力パワー 最大20W、4波長同時出力、フルカスタマイズ可能、波長域257nmから最大4000nmまでの範囲で選択可能、繰返し周波数 2 MHz

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高エネルギー・フェムト秒 Ti:Sapphireレーザーアンプ ARCO

Amplitude Technologies

超高速チタンサファイア・レーザーベースの超高強度フェムト秒レーザーアンプ。モジュール式、高い柔軟性で、多彩な出力パラメータをカバー。最大25mJ。最大繰返し周波数 1kHz。パルス幅 20~100 fs。

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最大 2000mJ コンパクト ナノ秒パルスレーザー

Beamtech Optronics

新製品 Nimma-Lシリーズ をリリース(2022年7月) 最大 2000mJ @ 1064nm, 繰り返し周波数 1 – 100Hz, パルス幅 5 – 10 ns。コンパクトなナノ秒パルスレーザーで、LIBSやLIDAR等のアプリケーションに最適です。

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NKT Photonics社 スーパーコンティニューム光源 SuperKシリーズ

NKT Photonics

使い易いスーパーコンティニューム光源。390~2400nm の波長をカバーするシングルモード出力。波長可変レーザーとしても使用可能。可視光から近赤外・中赤外までの広い波長域をカバー。単一周波数光源に匹敵する良質なビーム品質(ガウシアン, シングルモード, M2 < 1.1)。高輝度、非偏光。

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UVフェムト秒レーザー Tangor UV

Amplitude Systemes

出力パワー 15W/30W、パルス幅500fs、波長343nm、パルスエネルギー最大80 μJ。OLEDディスプレイ加工にも好適なレーザーです。

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