アプリケーション
ピコ秒レーザーマーキングシステム
レーザーマーキング・コンプリートシステム。光源、光学系、機械系コンポーネント、ソフトウェア含む。比類のない高い柔軟性と直感的な操作性。独立型デバイスでも組込み用にも提供可能。
attocube ナノ位置決めステージ概要
高精度ピエゾ駆動モータおよび位置決め製品。超高真空・非磁性対応。ナノオーダーの高精度アライメント用途など産業分野での高精度マシニングから、要件の厳しい最先端の研究アプリケーションにも好適。
プロセスフォトメータ(濃度・色モニタ)”DCP007″
インライン用の吸光光度計。プロセスの濃度・色測定に最適。
過酷な環境下でもメンテナンスフリーで使用することのできる堅牢なデザイン。
ビームプロファイラ ( カメラ式 & スリット式 )
UV~ミリ波。CW、パルスの両レーザー光に対応。高精度で信頼性の高いレーザビーム計測機器
OEMレーザーマーカー
レーザーマーキングシステムへの搭載用レーザーマーカー。独立型&コンプリートシステムで他のアセンブリラインや特殊マシンへの組み込みにも最適。
短波長赤外カメラ SIRIS
高性能短波長赤外カメラ。超低ノイズ&高いダイナミックレンジ。幅広い用途で使用可能なInGaAsセンサベースSWIR。200 fps。液体窒素不要。
非接触型厚さ測定装置 “VarioMetric”
レーザー干渉を利用した厚さ測定装置。厚膜(1~500μm)測定用。小型・高速・高精度
フェムト秒レーザー加工装置 Aシリーズ
高性能コンパクトな A シリーズ プラットフォームは、ナノ秒、ピコ秒、またはフェムト秒パルス レーザーを搭載できるレーザー マイクロマシニング設備です。
AMPHOS 高出力ピコ秒レーザーシステム 一覧
最大1000W、mJエネルギー出力。繰返し 最高100MHz。フェムト秒~ピコ秒パルスのコンパクト、堅牢、高安定性なターンキーシステム
Fura-2 カルシウムイメージング用 LED光源”LedHUB Fura-2”
Fura-2カルシウムイメージング用に特化したLED光源。ランプ光源で実現できない高出力、高安定性、素早い波長切替を実現します。
パルス色素レーザー
あらゆる原子・分子分光に好適なパルス色素レーザー。370~920 nm
テラワット出力フェムト秒レーザー PULSAR TW
1TW級ピーク出力を実現。信頼性の高い超高強度フェムト秒レーザー。最大6.25J。パルス幅 20fs以下。繰返し周波数 最高10Hz
単一光子検出共焦点蛍光顕微鏡 Luminosa
単一光子検出共焦点蛍光顕微鏡。最高のデータ品質と使い易さを兼ね備えた蛍光顕微鏡です。自動化により測定時間を短縮を実現。実験室に簡単にインストールいただけます。
PIV カメラ
感度と解像度、撮影速度に特徴のあるラインナップをご用意。計測対象に合わせて多彩なPIVカメラから選択可能
バイオフォトニクス向け フェムト秒ファイバーレーザー Biolit
クリーンなショートパルスを発振するフェムト秒レーザーです。パルス幅: typ 60fs。平均出力2W以上、堅牢かつ安定性が高く、非線形光学用途・多光子顕微鏡に最適です。
400W出力 ピコ秒レーザー Amphos3000シリーズ
最大出力パワー 400W。最大パルスエネルギー 15mJ。OPCPAポンピングや材料加工に好適。
ピコ秒パルス&CW発振 ダイオードレーザー“QuixXシリーズ”
ピコ秒(最小パルス幅50ps, 最高100MHz繰返し)&CWの両発振が可能な高機能エレクトロニクス完全一体型ダイオードレーザーシステム。375~2090 nm範囲の多彩な波長ラインナップ。最大CW出力500mW、ピークパワー 最高2.5W
LIBS元素分析システム(ラボ向けモデル)
生産ライン近くの分析室や分析ラボ向けのスタンドアローンLIBS元素分析装置
スラグ、コンクリート、金属などの迅速分析や元素マッピング分析に最適
廉価版テラヘルツ量子カスケードレーザー(THz-QCL)TeraCascade100
テラヘルツ実験スタートに最適。高出力モデルTC2000の廉価版。最先端の量子カスケードレーザー(QCL)ベース。2~5THz。パルス(QCW)。シングル/マルチモード。出力0.1mW以上 at 3.2THz。窒素冷却
ファイバ・マルチチャンネル分光器
超小型ファイバ分光器。手のひらサイズで低価格・高コストパフォーマンス。高性能、高感度の新シリーズ発売(YSM-8103シリーズ / YSM-8104シリーズ / YSM-8105シリーズ)
レーザー光源内蔵 ラマン分光計 “YOA-8401シリーズ”
狭線幅レーザーを内蔵したラマン分光計 励起波長が785nmと532nmのタイプをラインナップ。4000cm-1までの広いスペクトル範囲と8cm-1以上の高い分解能で、物質分析・同定が可能です。
AFMプローブ HQシリーズ
位相イメージングは、異種材料や特性の不均一性を持つサンプルにおいて、ナノスケールの違いをイメージングするために用いられるAFM技術の一つです。位相コントラストは、チップとサンプル間の相互作用に基づきますが、これらの相互作用は、スキャンパラメーターや、イメージングの測定モード(原子間力の引力領域か斥力領域で捜査しているかなど)に依存します。O’DeaとBurratoは、位相イメージングを使用して、Nafion膜のプロトン伝導ドメインをマッピングしました。彼らは、先端とサンプルの間の特定の相互作用力がプロトン伝導ドメインの分解能に大きく影響することを発見しました。斥力レジームでのイメージングにより、ドメインの面積が大きめに表示され、ドメインの数が少なめに表示されました。引力領域でのイメージングにより、水やフルオロカーボンのドメインが最も正確に測定できました。AFMのフィードバックループが最適化されていない場合、またはカンチレバーが共振周波数を超えて駆動していた時、位相イメージングは組成の違いではなく、形状の変化に対応するイメージになりました。
溶接の可視化装置 VisiWeld
溶接のアークや炎の光の中を可視化する溶接可視化システム
高出力・高繰返し Qスイッチ半導体励起固体レーザー“CL210シリーズ”
レーザー加工に適した短パルスレーザー。3波長ラインナップ(1064, 532, 355 nm)。最高20W出力。繰返し周波数 1-100kHz。最小パルス幅 20ns