アプリケーション
AFMプローブ 磁気力顕微鏡 Co-Cr コーテイング コバルトクロム
HQ:NSCプローブモデルには、磁気力顕微鏡(MFM)用のコーティングを施した製品もご用意しております。コーティングはチップサイドに膜厚60 nmのコバルト層があり、さらに酸化防止のクロムフィルム膜厚20 nmがカバーしています。トポグラフィーと磁気特性の安定した測定のためにカンチレバーのパラメーターは最適化されています。
特注ナノ位置決めステージ
高いナノポジショニング・エンジニアリング力で、複雑な位置決めタスクを解決する最適なナノ位置決めソリューションを提案。
attocube ナノ位置決めステージ概要
高精度ピエゾ駆動モータおよび位置決め製品。超高真空・非磁性対応。ナノオーダーの高精度アライメント用途など産業分野での高精度マシニングから、要件の厳しい最先端の研究アプリケーションにも好適。
レーザパワーメータ, エネルギーメータ(ディスプレイ)
オフィール社の豊富なセンサに対応するディスプレイまたはコンピュータインターフェース。業界最高の校正精度、高性能、優れた操作性。使い勝手抜群のユーザーフレンドリーなレーザパワー/エネルギ測定用ソフトウェア。サンプルコマンド公開により、COMオブジェクトやLabVIEWなどユーザーが自由かつ容易にプログラミング可能。
ブルーレーザー 金属加工向け BLシリーズ / ファイバ伝送型 BL-Fシリーズ
ブルーレーザーは金属への高い吸収率から金属加工にとって理想的なレーザーです。波長~444nm。BLシリーズ(125W, 250W)とBL-Fシリーズ(125W, 250W, 500W, 1000W)をご用意しています。汎用的なガルバノスキャナとの一体化が可能。はんだ付け、ワイヤなど、薄い銅またはアルミニウム板の接合・溶接に最適です。赤外線レーザーやグリーンレーザーよりも優れた効率で金属加工を行うこと可能です。
高繰り返しパルス Ti:Sapphireレーザー
広いチューニングレンジ、高いパルスエネルギー、狭線幅のコンパクト・ナノ秒パルス・チタンサファイアレーザー。波長域690~1010 nm、最大出力パワー2.5 W or 6.8 W (モデル依存。ピーク波長)、線幅30~50 ns、繰返し周波数1~3 kHz または 1~10 kHz。
70W出力 Qスイッチ半導体励起固体レーザー“CL240シリーズ”
波長1064nmで70W出力、 532 nmで20W出力。パルス毎にパルスエネルギー変調可能。繰返し周波数 1-400kHz。ショートパルスタイプをご用意。
コンパクト Nd:YAG レザー MWピーク出力 “CP410シリーズ & CP420シリーズ”
固体ダイオード励起Qスイッチレーザー。短パルス、コンパクトで微細レーザー加工に最適。ピーク出力はMW。1064 nm 532 nm 355 nmに対応
高出力・高繰返し Qスイッチ半導体励起固体レーザー“CL210シリーズ”
レーザー加工に適した短パルスレーザー。3波長ラインナップ(1064, 532, 355 nm)。最高20W出力。繰返し周波数 1-100kHz。最小パルス幅 20ns
パルスファイバレーザー “TruPulse”
高い柔軟性&高速。種々のマーキングやパルス微細加工に最適なナノ秒パルスファイバレーザー
UVフェムト秒レーザー Tangor UV
出力パワー 15W/30W、パルス幅500fs、波長343nm、パルスエネルギー最大80 μJ。OLEDディスプレイ加工にも好適なレーザーです。
金属単結晶・酸化物単結晶・合金単結晶
金属単結晶・酸化物単結晶・合金単結晶試料の高品質品を高精度加工
ガス・溶液用 QCL-IR 赤外分析装置 ChemDetect
従来のFT-IRに代わる、次世代の赤外分析技術、QCL-IRを採用した小型のガス・溶液用赤外分析装置です。QCL-IRは最大10HzでIRスペクトルを取得することができ、従来技術に比べはるかに高速で安定しています。その測定速度を活かし、リアルタイムでの濃度モニタリングが可能です。また、輝度が高く、少量サンプルでも分析可能です。Culpeo® QCL-IR液体分析器 バイオプロセス分析・液体クロマトグラフィー・ワクチン関連の分析に最適です。
AFM-IR装置 Vista One, IR-PiFM / PiF-IR
ナノスケールIR化学分析用のオリジナルPiFM用AFM。 Vista One は、FTIR やナノ FTIR よりも詳細なナノスケールのケミカルマッピングと点スペクトルを取得します。
最大150μJ出力 高機能フェムト秒/ピコ秒レーザー Satsuma
革新的なファイバアンプ技術によるコンパクト、ハイパワー、高エネルギー、高繰り返しのフェムト秒/ピコ秒ファイバレーザー。パルス幅は最短 350 fs – 10 ps、繰返し周波数 single shot to 40MHz、最大平均出力 50W、最大パルスエネルギー 150 µJ
フォトニック集積回路向け マルチチャンネルソース測定システム SMU
フォトニック集積回路向けマルチチャンネル・ソース測定機器(SMU)です。XPOW は複数の電圧/電流の印加と電圧/電流の測定が可能です。高い汎用性でシンプルな電子回路から複雑なフォトニック集積回路まで、低消費電力の用途にて最適です。また、 XPOWのアップグレード版で、より高速なXDAC はユニポーラ、バイポーラ、ディファレンシャルなど、柔軟なチャンネル出力が可能です。
同期システム Sync&Amplock
Sync&Amplockは、Amplitude Systemes社の超高速レーザーと互換性がありアドオンできる最先端の同期ユニットです。 様々な用途において、無線周波数や光学リファレンスと最高の精度でシステム同期できます。
小型CWレーザー“Directシリーズ&Crystalシリーズ”
非常に多彩な波長ラインナップ・単一周波数モデル・低ノイズモデルなど幅広いタイプの半導体レーザー&DPSSレーザー。375~1444nm。最大出力2500mW。
小型Qスイッチ固体レーザー Q-switchedシリーズ
超コンパクト・多彩な波長・高出力・高安定性・高信頼性。CrystaLaser社のベストセラー製品。260-1444nm。最大出力1mJ。100kHz, 5-200nsパルス
ピコ秒レーザーマーキングシステム
レーザーマーキング・コンプリートシステム。光源、光学系、機械系コンポーネント、ソフトウェア含む。比類のない高い柔軟性と直感的な操作性。独立型デバイスでも組込み用にも提供可能。
バイオフォトニクス向け フェムト秒ファイバーレーザー Biolit
クリーンなショートパルスを発振するフェムト秒レーザーです。パルス幅: typ 60fs。平均出力2W以上、堅牢かつ安定性が高く、非線形光学用途・多光子顕微鏡に最適です。
レーザーアブレーション装置
高速&高精度分析。目的に最適なレーザーアブレーションを最高の性能で提供。
長寿命プローブ
長寿命プローブ:- AFMプローブ HARDシリーズ,- AFMプローブ 導電性ダイヤモンドコーティング DMD-XSC11
MicroSense 5800 シリーズ 静電容量変位センサ
高分解能・高速応答。動的変位測定のスタンダードモデル。