バイオテクノロジーや工業用途に最適な小型のワンボックスデザイン。紫外375nm～赤外1550nm 36波長。最大300mW出力。高速変調機能付き。

キャリーケースで運搬のでき、取り扱いの簡単な小型軽量タイプ。粒径5μm～3,900μm。速度同時測定モデル

波長1064nmで70W出力、 532 nmで20W出力。パルス毎にパルスエネルギー変調可能。繰返し周波数 1-400kHz。ショートパルスタイプをご用意。

従来のFT-IRに代わる、次世代の赤外分析技術、QCL-IRを採用した小型のガス・溶液用赤外分析装置です。QCL-IRは最大10HzでIRスペクトルを取得することができ、従来技術に比べはるかに高速で安定しています。その測定速度を活かし、リアルタイムでの濃度モニタリングが可能です。また、輝度が高く、少量サンプルでも分析可能です。Culpeo® QCL-IR液体分析器　バイオプロセス分析・液体クロマトグラフィー・ワクチン関連の分析に最適です。

量子相関と蛍光測定に特化したソフトウェアを提供。FLIM、FLIM-FRET、FCS、FCCS、FLCS、同時計測、蛍光タイムトレース分析等に対応しています。QuCoa、SymPhoTime 64 、EasyTau 2のすべてのデモ機ご用意しております。

従来のFT-IRに代わる、次世代の赤外分析技術、QCL-IRを採用した小型の溶液用赤外分析装置です。QCL-IRは最大10HzでIRスペクトルを取得することができ、従来技術に比べはるかに高速で安定しています。その測定速度を活かし、リアルタイムでの濃度モニタリングが可能です。また、輝度が高く、少量の溶液サンプルでも分析可能です。Culpeo® QCL-IR液体分析器　バイオプロセス分析・液体クロマトグラフィー・ワクチン関連の分析に最適です。

レーザー加工に適した短パルスレーザー。3波長ラインナップ（1064, 532, 355 nm）。最高20W出力。繰返し周波数 1-100kHz。最小パルス幅 20ns

オールインワンデザインの高エネルギー120mJ 波長チューニング出力システム。210～3450nm。繰り返し周波数10 or 20 Hz。パルス幅 5-7ns。

高いナノポジショニング・エンジニアリング力で、複雑な位置決めタスクを解決する最適なナノ位置決めソリューションを提案。

24 bit AFMコントローラー。サポートの終了した Agilent Technology 製 AFM に対応します。シンプルに既存のコントローラーとの置き換えが可能。既存のAFMヘッドへプラグインの上、専用ソフトウェア使用して同様のAFM動作が行えます。

最大６波長、市場で最高クラスの最大1W高出力LED光源。LEDチップのアクティブ温度コントロールと高安定性電流源で高安定性＆高再現性の出力を保証。

高性能短波長赤外カメラ。超低ノイズ&高いダイナミックレンジ。幅広い用途で使用可能なInGaAsセンサベースSWIR。200 fps。液体窒素不要。

高度な要求に応える、特別かつ無二のナノ秒パルス・レーザーソリューション。Premiumlite-YAG YAGレーザー：>75 J ＠1064 nm, >55 J ＠532 nm、繰返し周波数 10 Hz。Premiumlite-Glass ガラスレーザー：>250 J ＠1053 nm, >200 J ＠527 nm, 繰返し周波数 0.1 Hz

NanoWorld社では、代表的なシリーズとして、PointProbe（ポイントプローブ）シリーズ, Arrow（アロー）, Pyrex-nitride（パイレックス・ナイトライド）を取り揃えております。

粒度分布測定に関する受託測定やコンサルティングなど、様々なサービスをご提供いたします。

溶接のアークや炎の光の中を可視化する溶接可視化システム

エアー式ディスペンサでは実現不可能な細線描画、ピエゾ式インクジェットでは不可能な高粘度吐出を可能にする従来の常識を覆した高機能パターニング技術。

流れの可視化光源に適した非常にコンパクトな筐体のレーザー

テラヘルツ実験スタートに最適。高出力モデルTC2000の廉価版。最先端の量子カスケードレーザー（QCL）ベース。2～5THz。パルス（QCW）。シングル/マルチモード。出力0.1mＷ以上 at 3.2THz。窒素冷却

690～950 nm, 1200～2600 nm。繰返し10 or 20Hz (Phocus HR Mini のみ100Hz)。パルス幅5～9 ns。リングキャビティOPOベース 波長可変レーザー

S onixは高スループットな産業向け装置組込み用白色干渉計顕微鏡です。ハイスピードカメラと最適化された光学的・機械設計により、S onixは白色干渉計として最速のシステムとなっています。

最大出力パワー 400W。最大パルスエネルギー 15mJ。OPCPAポンピングや材料加工に好適。

レーザービームを2次元で偏向・集光するXY偏向ユニットです。小～中規模程度の加工エリアで、高速処理が必要なさまざまなアプリケーションに好適です。

世界最高精細の光造形装置。迅速かつ超精密の微細加工を実現。