24 bit AFMコントローラー。サポートの終了した Agilent Technology 製 AFM に対応します。シンプルに既存のコントローラーとの置き換えが可能。既存のAFMヘッドへプラグインの上、専用ソフトウェア使用して同様のAFM動作が行えます。

従来のFT-IRに代わる、次世代の赤外分析技術、QCL-IRを採用した小型の溶液用赤外分析装置です。QCL-IRは最大10HzでIRスペクトルを取得することができ、従来技術に比べはるかに高速で安定しています。その測定速度を活かし、リアルタイムでの濃度モニタリングが可能です。また、輝度が高く、少量の溶液サンプルでも分析可能です。Culpeo® QCL-IR液体分析器　バイオプロセス分析・液体クロマトグラフィー・ワクチン関連の分析に最適です。

高出力（最大10W）で狭線幅（sub-kHz）の単一周波数レーザー。周波数変換により波長ラインナップが増えました。位相と強度の両ノイズを抑制。TEC搭載。ルビジウム、ストロンチウム、バリウム、イッテルビウムの波長に正確に対応でき、最先端の量子アプリケーションに最適です。

日本レーザーでは用途に応じて様々なAFM（原子間力顕微鏡）を取り揃えております。

非接触大型AFM-IR装置 PiFM 半導体向け200㎜ x 200㎜のウエハをそのまま測定可能です。

シンクロトロン放射によるイメージング用のカスタム対物レンズ。トモグラフィー対応。実用性を高める光学リレー。対物レンズ0.5倍、0.8倍、150㎜　400㎜に対応。経験と知識から光学設計、エンジニアリング、製造、テストと一貫したサービスをご提供します。

CWレーザー測定対応。波長精度 最高±0.0001nm。1台で波長測定＆スペクトル分析が可能。可視光(VIS)から中赤外(MIR)領域まで (375nm to 12μm) の波長域をカバー。マイケルソン干渉計ベース。パルスレーザー(>50kHz)の測定が可能。

粒度分布測定に関する受託測定やコンサルティングなど、様々なサービスをご提供いたします。

最大7波長のDPSS / LDレーザーモジュール（375～1550 nm）をコンパクトパッケージに格納。1波長当り最大300mW

ナノインプリントにおける樹脂硬化方式/プレス⽅式/加圧方式の組み合わせを選択可能。かつレトロフィットを可能にしたR&D専用装置。ナノインプリント・プロセス応用を伴う研究開発を加速します。

PDT(Photodynamic Therapy: 光線力学療法)、PIT(Photoimmunotherapy: 光免疫療法)、PDD(Photodynamic Diagnosis:光力学的診断)などの実験・研究用途向けのマルチチャンネルデスクトップレーザー。最大4チャンネルまでレーザーが搭載可能。波長 375nm～ 1550nmに対応。

S mart 2は、白色干渉計とエリア共焦点（コンフォーカル）の技術による３D表面形状測定が可能な装置組込み用顕微鏡ユニットです。3Dレーザー顕微鏡と同等の分解能と精度、再現性による表面形状・粗さ測定を実現可能です。

世界初、マスクレス微細加工のための2光子グレースケール・リソグラフィシステム。屈折型、回折型マイクロ光学素子製造のための最先端装置。

最高の耐摩耗性と電気的性能を提供する高導電性ダイヤモンドプローブ（ダイヤモンドAFMカンチレバー）

NANOSENSORS製AFMカンチレバー。10本、20本、50本、ウエハ（365または370または380）の入り数でご注文可能。製品一覧表からお探しのモデルをすぐに見つけられます。ご相談もお気兼ねなくお問合せください。

一般的な動的光散乱法とは異なり、光源とセンサを2つずつ用いる「クロスコリレーション法」を採用しています。そのため、高濃度な試料でも多重散乱の影響を排除した正確な測定が可能です。（測定範囲 0.5 nm～10 μm）

発振波長1900-2100 nm よりご指定可能。スペクトル線幅はMHｚレベルの狭線幅。平均出力100 mW /１W。狭線幅＆高安定性で幅広い用途で使用いただけます。

ピコ秒/サブピコ秒パルスレーザーシステムのパルス幅を大幅に短縮するモジュール。最高のスループット効率、良好なビーム品質、高い安定性。入力パルス幅 < 150 fs to 1 psを数サイクルパルスまで短縮可能。対応波長 1030nm, 515nm

ブルーレーザーは金属への高い吸収率から金属加工にとって理想的なレーザーです。波長～444nm。BLシリーズ（125W, 250W）とBL-Fシリーズ（125W, 250W, 500W, 1000W）をご用意しています。汎用的なガルバノスキャナとの一体化が可能。はんだ付け、ワイヤなど、薄い銅またはアルミニウム板の接合・溶接に最適です。赤外線レーザーやグリーンレーザーよりも優れた効率で金属加工を行うこと可能です。

高いスキャナー性能を持つハイエンドAFMです。老舗AFMメーカのハイエンド品並みの測定品質ながらリーズナブルな価格に抑え、非常にコストパフォーマンスの高いAFMになっています。通常のAFMとしての機能のほか、電気特性測定（KFM、C-AFM)などに強みがあります。

355 nm, 532nm, 420～1700nm, 繰り返し周波数 10, 20 Hz。様々なナノ秒Nd：YAGポンプレーザーと組み合わせ可能。OPOTEK社独自のコンパクトなスタンドアローン型OPOモジュール。

数百TW (テラワット) からPW (ペタワット) 級の大出力チタンサファイアレーザーの励起に理想的な小型高エネルギー Nd:YAGレーザー。最大12J＠532nm。繰返し5Hz。パルス幅 12ns。

出力パワー 15W/30W、パルス幅500fs、波長343nm、パルスエネルギー最大80 μJ。OLEDディスプレイ加工にも好適なレーザーです。

狭線幅レーザーを内蔵したラマン分光計　励起波長が785nmと532nmのタイプをラインナップ。4000cm-1までの広いスペクトル範囲と8cm-1以上の高い分解能で、物質分析・同定が可能です。