スペックルパターンのランダム化技術により、マルチモードファイバの出力を均一化

測定用標準基板・テストサンプル・校正構造体：- AFM 校正用構造体 測定用標準基板 HOPG,- AFM 校正用構造体 TGXYZ,- AFM 校正用構造体 TGX,- AFM 校正用構造体 TGF11シリーズ

非接触大型AFM-IR装置 PiFM 半導体向け200㎜ x 200㎜のウエハをそのまま測定可能です。

VisUVでは波長266nm～590nm、最大100mW、レーザービームを3本まで平行出力可能。VisIRでは1064nm 、1530nmで高出力用途に対応。STED顕微鏡用ディプレッション・レーザー (766nm) に最適。オプションで周波数変換も可能。

単一周波数固体レーザーシステムのEXCITEシリーズは、UV領域のアプリケーションに対応します。ウエハ検査、分光器の校正、干渉計のアプリケーションに使用いただけます。理論的なフーリエ限界に近い値である50MHz以下のスペクトル帯域幅を実現しています。

導電性プローブ：- Pt プラチナ、Cr-Au 金 コーティング, – 高分解能導電性 DPERシリーズ, – 低ノイズ導電性 DPEシリーズ

ピコ秒パルスダイオードレーザードライバー。PicoQuantのレーザー、LEDヘッドで繰り返し周波数率とパルスエネルギーを制御可能。 コンピューター制御のシングルチャネル、またはマルチチャネルユニットが利用可能。 独自の5年間限定保証。

高速＆高精度分析。目的に最適なレーザーアブレーションを最高の性能で提供。

バイオ、産業用途に最適なコンパクトなCW LDモジュール。紫外375nm～赤外1550nm。最大300mW出力。

完全インライン向けLIBSシステム。20kHzの超高繰返し測定（カスタムで100kHzまで可）

ピコ秒及びフェムト秒の高速パルスの間引き用に開発

ミニマル規格^※に準拠。コンパクトで可搬型ながら高解像度パターン観察を実現した、測長機能付SEM
（※「ミニマル」は独立行政法人産業技術総合研究所の登録商標です。）

独立6軸（X、Y、Z、ピッチ、ロール、ヨー）動作。複雑なモーションコントロールに高い耐荷重と精度を提供。

ピコ秒パルス､キロワット出力。OPCPAポンピングやレーザー加工に好適です。最大パルスエネルギー20 mJ。最大出力パワー1000 W。

レーザーマーキングシステムへの搭載用レーザーマーカー。独立型＆コンプリートシステムで他のアセンブリラインや特殊マシンへの組み込みにも最適。

フォトディテクタを豊富にラインアップ。高速変調CWレーザー、Q-スイッチレーザー、モードロックレーザーの強度・パルス波形のモニタリングに最適。組込み用途にも幅広い実績。

偏光モード分散（PMD）、偏光依存損失（PDL）、SOP（偏光状態）の計測・評価に

高いチューナビリティ（繰り返し周波数、パルス幅、波長）と複数のオプションで非常に高い柔軟性。
1μm, 1.55μm, SHG, 波長可変可。平均出力 最大30W。パルス幅 30ps to ms。繰り返し周波数 5MHz to 1GHz。

超小型で高分解能（0.5μm）のレンズ位置制御と双方向再現性を実現したフォーカスモジュールです。クローズドループ制御で外部コントローラボードが不要。機器への組込みが容易なモジュールです。組込み用途でご使用いただけます。開発キットもご用意いたしております。

超高速のアナログ・デジタル変調を可能な半導体レーザー　紫外375～赤外1550 nm 範囲　最大出力300 mW

実体顕微鏡下での手作業に最適なマイクロ・ハンドディスペンサ

光子計数検出器としてPMT（光電子増倍管）、HPD（ハイブリット光電子増倍管）、SPAD（単一光子アバランシェダイオード）にてフォトンカウンティングが可能です。紫外から近赤外の範囲をカバー。

中心波長 1930±20 nm, バンド幅 (-20dB) >170 nm, 平均出力パワー>10 mW。広範な波長域と優れたパワー安定性。光コンポーネントの試験、分光、ガスセンシング、バイオメディカル、OCTなど幅広い用途に応用可

ファイバーレーザーに最適。特許技術で戻り光による光学系損傷防止。強固なアーマー外皮。多種なファイバーに対応（HI-1060、20/250、980PMおよびカスタム対応）、0.4～5.0mmまでの出射ビーム径、0.08～0.14NAまで対応、対応出力（伝送光）30～400 W、対応出力（戻り光）5～50 W