高いナノポジショニング・エンジニアリング力で、複雑な位置決めタスクを解決する最適なナノ位置決めソリューションを提案。

PMD-1000は、フレキシブルなデジタルPMDソースです。１次の偏波モード分散を 180ps まで、２次の偏波モード分散を 8100ps まで精密に生成します。
疑似連続オペレーションモードにより、独立した１次と波長に依存しない２次の偏波モード分散の生成を可能にします。
PMD-1000は３つの高速光磁クリスタルを用いてPMDを生成します。
PMDの切り替え時間はわずか1ミリ秒程度で、市販されているどのPMD生成器よりも高速です。

高出力（最大10W）で狭線幅（sub-kHz）の単一周波数レーザー。周波数変換により波長ラインナップが増えました。位相と強度の両ノイズを抑制。TEC搭載。ルビジウム、ストロンチウム、バリウム、イッテルビウムの波長に正確に対応でき、最先端の量子アプリケーションに最適です。

Vliteシリーズは、デュアルパルス Qスイッチタイプのナノ秒レーザーです。高出力 10mJ – 500 mJ @ 532 nm, 高い繰り返し周波数 0.2 – 15 kHzで、PIVアプリケーションに最適です。

超安定、長寿命、コンパクトなCO2、COレーザーです。堅牢で信頼性の高いレーザーシステムを設計、開発、製造を行っています。

オフィール社の豊富なセンサに対応するディスプレイまたはコンピュータインターフェース。業界最高の校正精度、高性能、優れた操作性。使い勝手抜群のユーザーフレンドリーなレーザパワー/エネルギ測定用ソフトウェア。サンプルコマンド公開により、COMオブジェクトやLabVIEWなどユーザーが自由かつ容易にプログラミング可能。

単一周波数固体レーザーシステムのEXCITEシリーズは、UV領域のアプリケーションに対応します。ウエハ検査、分光器の校正、干渉計のアプリケーションに使用いただけます。理論的なフーリエ限界に近い値である50MHz以下のスペクトル帯域幅を実現しています。

355 nm, 532nm, 420～1700nm, 繰り返し周波数 10, 20 Hz。様々なナノ秒Nd：YAGポンプレーザーと組み合わせ可能。OPOTEK社独自のコンパクトなスタンドアローン型OPOモジュール。

ピコ秒/サブピコ秒パルスレーザーシステムのパルス幅を大幅に短縮するモジュール。最高のスループット効率、良好なビーム品質、高い安定性。入力パルス幅 < 150 fs to 1 psを数サイクルパルスまで短縮可能。対応波長 1030nm, 515nm

高性能コンパクトな A シリーズ プラットフォームは、ナノ秒、ピコ秒、またはフェムト秒パルス レーザーを搭載できるレーザー マイクロマシニング設備です。

平均出力18W、1342nmの高出力LD励起固体レーザー。24時間365日の連続稼働の産業用途に最適

光パワーの保持率98%以上で、ガスまたは粒子の充填が可能。センシング、イメージング、超短パルスアプリケーションに最適。

高速減衰速度、低挿入損失、パワーメータ内蔵の MEMS ベースの可変光減衰器。非常にコンパクトで費用対効果の高い可変光減衰器・バリアブルアッテネータです。 高度なパワー安定化機能により、入力パワーが変動しても出力パワーを設定により安定化させ、維持することが可能です。

Daylight Solutions社のパルス、CW＆パルス、CW-MHF 中赤外レーザー用の多機能コントローラ。業界トップクラスのノイズ性能を達成。

PicoQuant社のピコ秒パルス半導体レーザー/LEDは、コンパクトで信頼性の高いターンキー・ソリューションです。ピコ秒パルス、変調、または高速スイッチ（nsec～µsec）モードで動作します。代表体なレーザーシステムは、共通のドライバユニットと交換可能なヘッドで構成されます。特殊な用途向けのスタンドアローンユニットもラインナップしています。

PicoQuant社製 TCSPC製品による蛍光分光計制御 及び データ分析ソフトウェア。定常的な励起・発光スペクトル、蛍光・燐光の寿命、異方性測定など、幅広い蛍光分光アプリケーションに対応。スクリプトによる自動化・拡張かが可能。デモ機をご用意しております。

最大出力パワー 400W。最大パルスエネルギー 15mJ。OPCPAポンピングや材料加工に好適。

レーザーを使った非破壊検査システム。計測・測定ソリューションOCT、LIDAR、共焦点イメージング、フォトルミネッセンス分光測定、3Dマッピング、深度計測が可能。レーザー診断、高精度大型製品向け検査、リベット検査（航空宇宙）、自動車など様々で活用されています。

波長244～4500nmで光強度＆位相を変調。高安定性・低電圧・高速

従来のAFMの半分以下の低価格ながら、高いイメージング品質を発揮します。日本初上陸の高コストパフォーマンスAFMです。

シンプル・高速・低コスト。お手持ちのPCでレーザービームをリアルタイム制御

UV～ミリ波。CW、パルスの両レーザー光に対応。高精度で信頼性の高いレーザビーム計測機器

最大3mmまでの光ディレイ範囲に対応するピエゾ駆動のファイバストレッチャです。アナログ信号もしくは12-bit のTTL信号で制御可能です。

位相イメージングは、異種材料や特性の不均一性を持つサンプルにおいて、ナノスケールの違いをイメージングするために用いられるAFM技術の一つです。位相コントラストは、チップとサンプル間の相互作用に基づきますが、これらの相互作用は、スキャンパラメーターや、イメージングの測定モード（原子間力の引力領域か斥力領域で捜査しているかなど）に依存します。O’DeaとBurratoは、位相イメージングを使用して、Nafion膜のプロトン伝導ドメインをマッピングしました。彼らは、先端とサンプルの間の特定の相互作用力がプロトン伝導ドメインの分解能に大きく影響することを発見しました。斥力レジームでのイメージングにより、ドメインの面積が大きめに表示され、ドメインの数が少なめに表示されました。引力領域でのイメージングにより、水やフルオロカーボンのドメインが最も正確に測定できました。AFMのフィードバックループが最適化されていない場合、またはカンチレバーが共振周波数を超えて駆動していた時、位相イメージングは組成の違いではなく、形状の変化に対応するイメージになりました。