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製品情報
超短光パルス抽出用レーザースイッチングシステム
ピコ秒及びフェムト秒の高速パルスの間引き用に開発
動的画像式 粒度・形状分布測定装置 QICPIC
パルスレーザーによる高速撮像によって多数の粒子を測定するため、個々の粒子を測定しながらも、統計的に信頼性の高い解析が可能です。全ての粒子画像が生データとして保存されるため、形状も定量的に解析できます。乾式・湿式を問わず多様な試料に対応します。（測定範囲 0.55～34000µm）
可変光減衰器
高速減衰速度、低挿入損失、パワーメータ内蔵の MEMS ベースの可変光減衰器。非常にコンパクトで費用対効果の高い可変光減衰器・バリアブルアッテネータです。 高度なパワー安定化機能により、入力パワーが変動しても出力パワーを設定により安定化させ、維持することが可能です。
動的光散乱法 粒度分布測定装置 NANOPHOX
一般的な動的光散乱法とは異なり、光源とセンサを2つずつ用いる「クロスコリレーション法」を採用しています。そのため、高濃度な試料でも多重散乱の影響を排除した正確な測定が可能です。（測定範囲 0.5 nm～10 μm）
中赤外パルス用 レーザー･スペクトラム･アナライザ（LSA) ”772B-MIR”
>50Hzのパルスレーザーが測定可能。QCLに最適。高い波長精度：±0.08 nm @ 8μm､高い光除去比：20 dB、1〜12μmの波長域。CWレーザーも測定可能。
超高真空窓TF型
窓材に熱歪みがなく、透過光(レーザー)の偏光・歪み・散乱を抑制した高精度測定を実現。加速器関連など高精度透過を必要とする全ての実験・開発用の真空窓に。
1000W出力 ピコ秒レーザー Amphos5000シリーズ
ピコ秒パルス､キロワット出力。OPCPAポンピングやレーザー加工に好適です。最大パルスエネルギー20 mJ。最大出力パワー1000 W。
スタンドアローン型OPOモジュール”Magic PRISM”
355 nm, 532nm, 420～1700nm, 繰り返し周波数 10, 20 Hz。様々なナノ秒Nd：YAGポンプレーザーと組み合わせ可能。OPOTEK社独自のコンパクトなスタンドアローン型OPOモジュール。
小型Qスイッチ固体レーザー Q-switchedシリーズ
超コンパクト・多彩な波長・高出力・高安定性・高信頼性。CrystaLaser社のベストセラー製品。260-1444nm。最大出力1mJ。100kHz, 5-200nsパルス
顕微鏡用 高性能＆高安定性 CWレーザー LaserNest シリーズ
高安定CW発振の高性能CWレーザーです。375nmと1550nmの間の30以上の異なる波長から選択可能。最大出力500mW。アナログ変調3MHz超。デジタル変調250MHz超。SM / PMファイバー、MMファイバー、リキッドライトガイドを使用したファイバーカップリング出力が可能。共焦点顕微鏡、広視野顕微鏡、ライトシート顕微鏡(SPIM)、オプトジェネティクスに好適。
ビーム位置測定装置一覧
シンプル・高速・低コスト。お手持ちのPCでレーザービームをリアルタイム制御
1342 nm 671 nm 447 nm LD励起固体 Qスイッチ レーザー“IDOLシリーズ”
1342 nm 671 nm 447 nmでのQスイッチレーザー。平均出力1.5~4W。レーザー微細加工、シリコン加工、ステルスダイシング、ディスプレイ修理などにご利用いただけるレーザーです。
コンパクト偏波ディテクタ “PDD-003”
2つの直行した偏光成分の光パワーを同時に計測します。
小さなボディーに偏光スプリッタとフォトディテクタを内蔵しています。
超小型 高分解能 ロータリーステージ “M3-RS”
小型ロータリー位置決めステージ。高分解能 0.022 °を超える精度で位置決めが可能です。クローズドループ制御で帯域幅100Hzまで対応。駆動部や位置センサなど一体型のモジュールで外部コントローラが不要。UART, SPI, I2C ,アナログサーボのインターフェイスで制御が可能です。組込み用途でご使用いただけます。また開発キットもご用意いたしております。
OEMレーザーマーカー
レーザーマーキングシステムへの搭載用レーザーマーカー。独立型＆コンプリートシステムで他のアセンブリラインや特殊マシンへの組み込みにも最適。
コンパクト モジュール式の蛍光寿命分光計 FluoTime 250
蛍光寿命分光計。コンパクトモジュール方式 TCSPC,MCS（マルチチャンネルスケーリング）の双方データ取得可能。測定可能蛍光寿命約10psから数百ms。スペクトル範囲：255〜1550nm。完全自動化されたハードウェア制御。アプリケーションウィザード・スクリプト言語により多彩な機器に対応可能
ペレット・粉体用 異物検査装置 CALPAS
粉体やペレット・サンプル中の異物を検出 (サイズ, 形状分析による)。粒子のサイズ、色、形状を高速に評価。多彩なサンプル搬送ユニット (乾式, 湿式, ステージ 等)。オフライン、オンラインの両方に対応可能。
マイクロドリリングシステム“ProbeDrill 355”
高速・微細な多穴加工（円および四角形状）
レーザーアブレーション装置
高速＆高精度分析。目的に最適なレーザーアブレーションを最高の性能で提供。
超短パルス フェムト秒ファイバレーザー”Neolit”
増幅器のシード光源向けに設計された、コンパクトなワンボックスタイプの超短パルスファイバレーザーです。波長：1020-1070nm、繰り返し周波数：15-30MHz、平均出力パワー：1-50mW、SESAMフリー
非球面放物面鏡
テレスコープ・ビームエキスパンダー・コリメータなどに最適な高い面精度
LMS レーザー加工用ソフトウェア
レーザー加工システム制御用のオールインワン・ソリューション。パラメータを入力してクリックするだけの、特別なスキルがいらない簡易操作ソフトウェア。
装置組込み用白色干渉計・共焦点顕微鏡 シリーズ一覧
非接触・非破壊で表面の微細形状、面粗度、粗さ、薄膜計測などの3D形状を測定することができる装置組込み用の顕微鏡ユニット 。白色干渉計および3Dレーザー顕微鏡に代表される共焦点顕微鏡技術を搭載。
EO光偏向器
高速・高分解能・高精度な偏向器
深紫外、紫外、可視から近赤外域まで対応
