ENGLISH
日本語
製品情報
測定用標準基板・テストサンプル・校正構造体
測定用標準基板・テストサンプル・校正構造体：- AFM 校正用構造体 測定用標準基板 HOPG,- AFM 校正用構造体 TGXYZ,- AFM 校正用構造体 TGX,- AFM 校正用構造体 TGF11シリーズ
高ピークパワー Qスイッチ半導体励起固体レーザー“CP600シリーズ”
高ピークパワー 750μJ @10kHz(1064nm)、300μJ @10kHz(532nm)。パルス幅 約4ns
PXIプラットフォーム （コントローラ・通信用レーザー・パワーメータ・可変減衰器・コンバータ等）
PXI（PCI Extensions for Instrumentation）に対応。通信用レーザー・パワーメータ・コンバータ・減衰器・光／電気コンバータ等を１つのプラットフォームに一体化することが可能です。高い拡張性から計測モジュールの交換が可能。用途に合わせて複数のレーザーやパワーメータなど組み合わせカスタマイズが出来ます。使い易いソフトウェアでプラットフォームの全ての機能にアクセス頂けます。
動的光散乱法 粒度分布測定装置 NANOPHOX
一般的な動的光散乱法とは異なり、光源とセンサを2つずつ用いる「クロスコリレーション法」を採用しています。そのため、高濃度な試料でも多重散乱の影響を排除した正確な測定が可能です。（測定範囲 0.5 nm～10 μm）
AFM-IR 装置 Vista 75, IR-PiFM / PiF-IR
光誘起力を使った次世代のPiFM ・ PiF -IR 機器 半導体、ナノフォトニクス、ポリマー、無機物などに向けた様々な用途で使用いただけるAFM-IR装置です。
フェムト秒レーザー加工装置 Aシリーズ
高性能コンパクトな A シリーズ プラットフォームは、ナノ秒、ピコ秒、またはフェムト秒パルス レーザーを搭載できるレーザー マイクロマシニング設備です。
広帯域波長可変 C-WAVE GTR OPOレーザー
高出力波長可変CWレーザー光源。可視光から近赤外の広範囲な波長領域で波長可変可能な光パラメトリック発振器（ OPO ）
AFM-IR装置 Vista One, IR-PiFM / PiF-IR
ナノスケールIR化学分析用のオリジナルPiFM用AFM。 Vista One は、FTIR やナノ FTIR よりも詳細なナノスケールのケミカルマッピングと点スペクトルを取得します。
クラス最速・最高精度 3Dプリンタ 光造形装置 Quantum X Shape
Quantum X shapeは、2光子重合（2PP）をベースに独自のプリンティングテクノロジーを組み合わせた、多用途での活用が可能な3Dプリンタです。あらゆる2.5D/3D形状での、サブミクロン精度と高い正確性でのラピッドプロトタイピング可能。またウェハースケールのバッチ生産に最適なツールとなっています。
高ビーム品質 ハイブリッドピコ秒レーザー 電光シリーズ
高ビーム品質（M²<1.2）のピコ秒レーザー。高精細・高品質の加工に最適。独自ハイブリッド方式で軽量かつ低価格。
ファイバ端面検査装置
クラッド径: 125 – 1200 µm、ファイバコーティング: 250 – 1500 µm、3D画像生成対応モデルのご用意もございます。
チューナブル半導体レーザー
New Focus (Newport Brand) の波長可変レーザーは、狭線幅、シングルモード出力、完全モードホップフリー・チューニングです。
4～11 μm ハイパワー CW or パルス中赤外レーザー”H-Model”
4～11 μmのほぼ全域をカバーする多彩な波長ラインナップ。省スペースで高出力のCW or パルス中赤外量子カスケードレーザー（QCL）
三次元粗さ解析走査電子顕微鏡 “ERA-600シリーズ”
世界で唯一、4本のSED検出器による高コントラスト観察画像とナノレベル立体形状の取得が可能。高分解能SEM観察と試料表面の形状測定、表面形状のパラメータ算出も一台で完結。精密工学会技術賞を受賞しました。
画像解析式 粒度/速度分布 測定ソフトウエアー“VisiSizer SOLO”
実際の粒子映像を使用して、粒子サイズや速度とその分布を正確に自動測定
レーザーアブレーション装置
高速＆高精度分析。目的に最適なレーザーアブレーションを最高の性能で提供。
フォトンカウンティング 光子計数とタイミング （蛍光測定・量子相関）
PicoQuantのフォトンカウンティング(光子計数)向けの幅広い製品には、時間相関シングルフォトンカウンティング（TCSPC）とイベントタイミング用の高性能モジュール、シングルフォトンセンシティブ検出器、および（時間分解）蛍光測定と量子相関の評価用の専用分析ソフトウェアが含まれます。
UV/熱/複合ナノインプリント装置 RubiＱ™
ナノインプリントにおける樹脂硬化方式/プレス⽅式/加圧方式の組み合わせを選択可能。かつレトロフィットを可能にしたR&D専用装置。ナノインプリント・プロセス応用を伴う研究開発を加速します。
光学特性評価サービス
様々な光学システムに対応した計測・特性評価サービスを提供、カスタム設計も対応。お客様の光学システム全体の性能評価を行い最適化をご提案が可能です。特定の光学特性評価や計測目的で最先端かつカスタムの装置やベンチを構築も可能です。
NanoX 高速ポジショナ
最大10kgもの大荷重でも、高精度な高速ダイナミック・ナノ/マイクロポジショニングを実現。複数のポジショナを組み合わせることも可能。
同期システム Sync&Amplock
Sync＆Amplockは、Amplitude Systemes社の超高速レーザーと互換性がありアドオンできる最先端の同期ユニットです。 様々な用途において、無線周波数や光学リファレンスと最高の精度でシステム同期できます。
マイクロレンズアレイ・DOE試作用 3D光造形装置 Quantum X
世界初、マスクレス微細加工のための2光子グレースケール・リソグラフィシステム。屈折型、回折型マイクロ光学素子製造のための最先端装置。
偏波の制御 シンセサイザ / アナライザ / スタビライザ / スクランブラ / コントローラ
偏波状態の各種制御・変調で、システム・装置の偏波依存特性を最適化
パルスコンプレッサモジュール COMPRESS
ピコ秒/サブピコ秒パルスレーザーシステムのパルス幅を大幅に短縮するモジュール。最高のスループット効率、良好なビーム品質、高い安定性。入力パルス幅 < 150 fs to 1 psを数サイクルパルスまで短縮可能。対応波長 1030nm, 515nm
