世界最高精細の光造形装置。迅速かつ超精密の微細加工を実現。

平均出力1.3W 超コンパクトなフェムト秒レーザーオシレータ。空冷のターンキーシステム。出力パルスエネルギー 24nJ、パルス幅 250fs、繰返し周波数 54MHz

1342 nm 671 nm 447 nmでのQスイッチレーザー。平均出力1.5~4W。レーザー微細加工、シリコン加工、ステルスダイシング、ディスプレイ修理などにご利用いただけるレーザーです。

完全自動プロセスでアクリルコーティングを除去。ファイバの強度と完全性を維持したまま残渣を除去するストリッピングおよびファイバプリパレーションシステム。

独自の1342nmの繰返し率固体ダイオード励起Qスイッチレーザー。365日24時間稼働の産業用途に適した製品です。米国CDRH規制への準拠

様々な光学システムに対応した計測・特性評価サービスを提供、カスタム設計も対応。お客様の光学システム全体の性能評価を行い最適化をご提案が可能です。特定の光学特性評価や計測目的で最先端かつカスタムの装置やベンチを構築も可能です。

超安定、長寿命、コンパクトなCO2、COレーザーです。堅牢で信頼性の高いレーザーシステムを設計、開発、製造を行っています。

強力な64ビットTTTRデータ取得と分析を行うソフトウェアです。時間分解共焦点顕微鏡MicroTime 200､MicroTime 200､LSMアップグレードキット、またはTCSPC機器でのデータ取得及び、分析のためのソリューションを提供。スクリプト言語「STUPSLANG」により、新しい分析手順を自由に追加、既存の分析手順をカスタマイズ可能。デモ機をご用意しております。

高出力（BrixX HP）または縦単一周波数（BrixX NB）モデル。375～2080nmの範囲で多彩な波長ラインナップ、最大出力5W

革新的なファイバアンプ技術によるコンパクト、ハイパワー、高エネルギー、高繰り返しのフェムト秒/ピコ秒ファイバレーザー。パルス幅 最短 500 fs – 10 ps、繰返し周波数 single shot to 40MHz、最大平均出力 100W、最大パルスエネルギー 500 µJ。

日本レーザーでは用途に応じて様々なAFM（原子間力顕微鏡）を取り揃えております。

非接触・非破壊で表面の微細な3D形状、および粗さを測定・解析することができる形状計測装置です。装置組込み用顕微鏡ヘッドモデル、テーブルトップモデル、大型ステージ付きモデルまで、用途に応じた幅広いラインナップを提供。

テラヘルツ分光により、封書や小包の中に隠された有害物質を正確に、わずか数秒以内で同定

最大出力 40 mJ, 最大繰り返し周波数 1kHz, パルス幅 2～10 ns。レーザー点火等 過酷環境下での使用に好適。超コンパクト＆高出力

355 nm, 532nm, 420～1700nm, 繰り返し周波数 10, 20 Hz。様々なナノ秒Nd：YAGポンプレーザーと組み合わせ可能。OPOTEK社独自のコンパクトなスタンドアローン型OPOモジュール。

高解像度、高分解能、高精度のサーマルイメージを得ることができる高性能サーモグラフィ

高ビーム品質（M²<1.2）のピコ秒レーザー。高精細・高品質の加工に最適。独自ハイブリッド方式で軽量かつ低価格。

S neox は、性能、機能、効率、デザインの全ての面で既存の光学3Dプロファイリング顕微鏡を凌駕する、クラス最高の面形状計測システムです。

外部・内部量子効率を同時測定できる経済的なソリューションです

偏光スプリッタとフォトディテクタ、回路をコンパクトなボディに組み込んだ偏光フォトディテクタです。高い消光比と信頼性を備えたモデルです。

発振波長1900-2100 nm よりご指定可能。スペクトル線幅はMHｚレベルの狭線幅。平均出力100 mW /１W。狭線幅＆高安定性で幅広い用途で使用いただけます。

光パラメトリック発振器（OPO）での 波長可変CWレーザー光源。可視光から近赤外の波長領域と広範囲で調整可能。コンピュータでの制御で自動波長調整。
【NEW！】可視域での波長可変域をさらに拡大したC-WAVE GTR発売（2021年5月）

光パワーの保持率98%以上で、ガスまたは粒子の充填が可能。センシング、イメージング、超短パルスアプリケーションに最適。

堅牢で信頼性の高い汎用なソリューション。時間とコストの節約に。