製品情報
テラワット出力フェムト秒レーザー PULSAR TW
1TW級ピーク出力を実現。信頼性の高い超高強度フェムト秒レーザー。最大6.25J。パルス幅 20fs以下。繰返し周波数 最高10Hz
可変光減衰器
高速減衰速度、低挿入損失、パワーメータ内蔵の MEMS ベースの可変光減衰器。非常にコンパクトで費用対効果の高い可変光減衰器・バリアブルアッテネータです。 高度なパワー安定化機能により、入力パワーが変動しても出力パワーを設定により安定化させ、維持することが可能です。
広帯域 波長可変レーザー 400-1000nm SuperK CHROMATUNE
SuperK CHROMATUNE は超広帯域な波長可変レーザーです。400-1000 nm もの広い波長域をギャップフリーでカバーし、1mW の光パワーを一定に出力します。寿命は数千時間で、信頼性の高い製品です。メンテナンスフリーで、アライメントや調整も不要です。
中赤外 (MIR) ブロードバンド光源 “ASE-2000”
中心波長 1930±20 nm, バンド幅 (-20dB) >170 nm, 平均出力パワー>10 mW。広範な波長域と優れたパワー安定性。光コンポーネントの試験、分光、ガスセンシング、バイオメディカル、OCTなど幅広い用途に応用可
蛍光分光計(コンパクト卓上タイプ・完全自動化計測システム・データ分析ソフトウェア)
日常業務用、教育用のコンパクトな卓上分光計から、数ピコ秒単位で測定可能な高性能の分光計まで多彩な蛍光分光計をラインナップ。サンプルは液体(キュベット)、固体、ウェファーに対応。 ソフトウェアでデータフィッティング、減衰分析に対応。
高エネルギー MIR 中赤外 ナノ秒レーザー“Baobab”
高出力 MIR 中赤外 ナノ秒レーザー。ピークパワー 500kW, 平均出力 2 W。オールインワンで一体型のコンパクトな設計になっています。
超音波減衰式 粒度分布測定装置 OPUS
一般的な光学的手法では測定が困難な高濃度・高粘度の試料を、希釈することなく、インラインまたはオンラインで測定できます。ミリング、結晶化、重合、沈降、乳化などのプロセスを、リアルタイムに管理する用途に最適です。(測定粒子サイズ 1~3000 µm)
5軸ステージ付き白色干渉計 S neox Five Axis
S neox Five Axis 5軸ステージ付き白色干渉計は、高精度回転ステージモジュールと白色干渉計 高速・多機能モデルS neox の高度な検査および解析機能を組み合わせています。これにより、指定された位置・角度で自動的に3D表面形状測定を行い、完全な3D形状計測が可能になります。
ビームアライメント装置一覧
長時間・長距離アライメントも高精度モニタ
ナノ秒 MIR 中赤外レーザー “Ivy”
ナノ秒レーザー Ivyは、ピークパワー >9 kW、 平均出力数ナノ秒のパルス幅を持つ業界初のオールインワンの中赤外レーザーです。
小型 高性能 飛行時間型質量分析計 (TOF-MS/RGA)
Spacetek Technology社の IonTamer™ は飛行時間型の質量分析計 / 残留ガス分析器 (TOF-RGA) です。ガス組成をリアルタイムで、高分解能、高感度にモニターします。世界最高性能のRGAであるIonTamer™は、これまで実験室用装置でしか得られなかった性能を、コンパクトで扱いやすく、組み込み可能にしました。半導体製造、OLEDディスプレイ製造、光学部品、ソーラーパネル製造、真空コーティングプロセス(CVD、PVD、ALD)、真空炉、冶金、超高真空などでの研究、過酷な環境下での用途に対応します。
AFMプローブ SiN 窒化シリコンプローブ
シリコンナイトライドカンチレバー・チップのガラスホルダーチップの両側に2つ配置。用途としてソフトコンタクトモードで使われます。
最大250μJ出力 高機能フェムト秒/ピコ秒レーザー Tangerine
革新的なファイバアンプ技術によるコンパクト、ハイパワー、高エネルギー、高繰り返しのフェムト秒/ピコ秒ファイバレーザー。パルス幅 <350 fs to >10 ps または最短 150 fs まで、繰返し周波数 single shot to 40MHz、最大平均出力 50W、最大パルスエネルギー 250 µJ。
最大40μJ出力 高機能フェムト秒レーザー Satsuma Niji
平均出力パワー 最大20W、4波長同時出力、フルカスタマイズ可能、波長域257nmから最大4000nmまでの範囲で選択可能、繰返し周波数 2 MHz
高エネルギー OPO 波長可変レーザー“RADIANTシリーズ”
オールインワンデザインの高エネルギー120mJ 波長チューニング出力システム。210~3450nm。繰り返し周波数10 or 20 Hz。パルス幅 5-7ns。
フェムト秒レーザー加工装置 Aシリーズ
高性能コンパクトな A シリーズ プラットフォームは、ナノ秒、ピコ秒、またはフェムト秒パルス レーザーを搭載できるレーザー マイクロマシニング設備です。
超小型 高精度 リニアステージ “M3-LSシリーズ”
M3-LSリニアステージは、コントローラを内蔵した超小型高精度リニアステージです。小型のOEM機器にすぐに組込みが可能。外部ボードも不要です。駆動機器もコンパクトな筐体に内蔵され一体化されています。超小型ながら高精度・安定性・使い易さを兼ね備えています。
レーザー加工ヘッド カスタマイズ対応可能 “OPTICEL”
レーザー加工の幅広い要求に柔軟に対応、カスタマイズ性、信頼性、品質に優れたレーザー加工ヘッドです。
ファイバクリーバー
クラッド径80~1000μmの範囲で光ファイバの高精度切断に対応。大量生産環境において安定した結果と高い生産性を提供します。
インプリント・モールド
3Dから高アスぺクト比形状まで対応
Qスイッチ半導体励起固体レーザー“CL200シリーズ”
高い安定性・高繰返し・コンパクト。3波長ラインナップ(1064, 532, 355 nm)。最高22W出力 CW。繰返し周波数 1-100kHz / 20-250kHz。最小パルス幅 6nsのショートパルスタイプをご用意。
高出力マイクロチップレーザー装置 ナノ秒mJパルス“HiPoLas”
最大出力 40 mJ, 最大繰り返し周波数 1kHz, パルス幅 2~10 ns。レーザー点火等 過酷環境下での使用に好適。超コンパクト&高出力
ナノポジショニング・リニアステージ(ピエゾ駆動直進ステージ)
ナノメートル分解能の圧電素子モータベース・直進ステージ。単軸/多軸、一体型/モジュール式、オープンループ/クローズドループを用途に応じて選択可能
光回路スイッチ 光トランシーバーフェイルオーバー
光回路スイッチ。 複数の400G光トランシーバの間でフェイルオーバーシステムの構築が可能。小型の省スペース、1W未満の低電力な省エネタイプでシステムのエネルギーコストを大幅に削減することが可能です。異常検知・自動バックアップ切替機能によりネットワークの信頼性向上を実現させます。幅広いトランシーバー技術をサポートし柔軟な拡張性で多様なネットワークへの導入が容易です。