製品情報

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AFM-IR装置 Vista One, IR-PiFM / PiF-IR 

Molecular Vista
[新商品]

ナノスケールIR化学分析用のオリジナルPiFM用AFM。 Vista One は、FTIR やナノ FTIR よりも詳細なナノスケールのケミカルマッピングと点スペクトルを取得します。

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527nm ナノ秒DPSSレーザー

Beamtech Optronics

527nm ナノ秒DPSSレーザー.Beamtech Optronics. Tolarシリーズは、DPSS EO-Qスイッチナノ秒DPSSレーザーです。 最大エネルギー 50 mJ @ 1kHz, パルス幅 < 160 ns。

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レーザー光用遮光カーテン

山本光学

高い表面精度と可視光透過率で優れた視認性

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材料プロセス用 ナノ秒DPSSレーザー

Photon Energy

ナノ秒レーザー加工、OEM組込みに最適。金属、プラスチック、セラミック、ガラスなど多彩な素材に適用できる高い平均出力:最大200W。1064 nm or 532 nm。繰り返し 1-100 kHz, CW

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超高真空窓TF型

藤アイデック

窓材に熱歪みがなく、透過光(レーザー)の偏光・歪み・散乱を抑制した高精度測定を実現。加速器関連など高精度透過を必要とする全ての実験・開発用の真空窓に。

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小型Qスイッチ・ナノ秒パルスDPSSレーザー

CryLaS

3つのモデルからアプリケーションのニーズに合わせてお選びいただけます。波長213nm/266nm/355nm/532nm/1064nmより選択可能。最大パルスエネルギー 650μJ, 最大平均パワー 2W, 繰返し周波数 1kHz。

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静電吐出方式高精細ディスペンサ Q-Jet

浜松ナノテクノロジー

エアー式ディスペンサでは実現不可能な細線描画、ピエゾ式インクジェットでは不可能な高粘度吐出を可能にする従来の常識を覆した高機能パターニング技術。

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UV/熱/複合ナノインプリント装置 RubiQ™

SCIVAX

ナノインプリントにおける樹脂硬化方式/プレス⽅式/加圧方式の組み合わせを選択可能。かつレトロフィットを可能にしたR&D専用装置。ナノインプリント・プロセス応用を伴う研究開発を加速します。

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LIBSオンライン元素分析システム

SECOPTA

オンライン・インラインLIBS元素分析システム。製造ラインにおけるリアルタイム元素分析。代表的応用例は異材混入の防止(鉄鋼製造)PMI、製造プロセスにおけるオンライン元素モニター、ベルトコンベヤ上の各種原材料(石炭、鉱石、焼結体、塩、スラグなど)のオンライン分析等が可能です。

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キセノン/ハロゲン・イルミネータ“APEX 2”

Oriel (Newport Brand)

簡単操作、アライメント不要、小型、ターンキー操作の完全一体型システム

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偏波スクランブラ “PCD-104”

General Photonics

全てファイバーで構成することで、挿入損失と後方反射を抑えた、偏波スクランブラーです。偏波依存利得(PDG)、偏波感受性の低減やPDL測定等向けに、偏光状態をランダム化することが可能です。

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三次元粗さ解析走査電子顕微鏡 “ERA-600シリーズ”

エリオニクス

世界で唯一、4本のSED検出器による高コントラスト観察画像とナノレベル立体形状の取得が可能。高分解能SEM観察と試料表面の形状測定、表面形状のパラメータ算出も一台で完結。精密工学会技術賞を受賞しました。

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装置組込み用白色干渉計・共焦点顕微鏡 シリーズ一覧

SENSOFAR Metrology

非接触・非破壊で表面の微細形状、面粗度、粗さ、薄膜計測などの3D形状を測定することができる装置組込み用の顕微鏡ユニット 。白色干渉計および3Dレーザー顕微鏡に代表される共焦点顕微鏡技術を搭載。

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ナノポジショニング・リニアステージ(ピエゾ駆動直進ステージ)

Newport

ナノメートル分解能の圧電素子モータベース・直進ステージ。単軸/多軸、一体型/モジュール式、オープンループ/クローズドループを用途に応じて選択可能

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プロセスフォトメータ(濁度・SS濃度計)”NBP007″

KEMTRAK

高濃度対応 インラインSS(浮遊物質測定)・濁度 計測
後方光散乱方式採用
過酷な環境下でもメンテフリーで使用可能な堅牢デザイン

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中空コア フォトニックバンドギャップファイバ

NKT Photonics

光パワーの保持率98%以上で、ガスまたは粒子の充填が可能。センシング、イメージング、超短パルスアプリケーションに最適。

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266nm CW, 超小型UV DPSSレーザー“FQCW266シリーズ”

CryLaS

266nm, CW(連続波)レーザー, 出力 10~550mW 空冷式。縦モードシングル 300kHz

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フォトニック集積回路向け マルチチャンネルソース測定システム SMU

Nicslab

フォトニック集積回路向けマルチチャンネル・ソース測定機器(SMU)です。XPOW は複数の電圧/電流の印加と電圧/電流の測定が可能です。高い汎用性でシンプルな電子回路から複雑なフォトニック集積回路まで、低消費電力の用途にて最適です。また、 XPOWのアップグレード版で、より高速なXDAC はユニポーラ、バイポーラ、ディファレンシャルなど、柔軟なチャンネル出力が可能です。

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100μJ出力 高機能フェムト秒レーザー Yuja

Amplitude Systemes

多機能で超コンパクトな 100μJ, 10W 出力のフェムト秒レーザー。繰返し周波数 single shot to 40MHz。

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電動回転ステージ(自動回転ステージ)

Newport

直接駆動の直読式高速回転型から、多用途・低価格タイプまで、100モデル以上を展開

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レーザー加工ヘッド カスタマイズ対応可能 “OPTICEL”

レーザックス

レーザー加工の幅広い要求に柔軟に対応、カスタマイズ性、信頼性、品質に優れたレーザー加工ヘッドです。

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Optical Measurement製品

Newport

ニューポートの光測定機器は、連続光やパルス光のパワーおよびエネルギーや波長などビーム特性測定をに好適な機器です。
ニューポート社製 Optical Measurement製品の詳細は、専用サイトをご参照下さい。

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最大150μJ出力 高機能フェムト秒/ピコ秒レーザー Satsuma

Amplitude Systemes

革新的なファイバアンプ技術によるコンパクト、ハイパワー、高エネルギー、高繰り返しのフェムト秒/ピコ秒ファイバレーザー。パルス幅は最短 350 fs – 10 ps、繰返し周波数 single shot to 40MHz、最大平均出力 50W、最大パルスエネルギー 150 µJ

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COMPACT CO2レーザービーム伝送システム

ULO Optics

CO2レーザーを効率的・高品質にビーム伝送。リーズナブルなコンプリート・システム

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