全てファイバーで構成することで、挿入損失と後方反射を抑えた、偏波スクランブラーです。偏波依存利得(PDG)、偏波感受性の低減やPDL測定等向けに、偏光状態をランダム化することが可能です。

光コネクタの端面を3Dで測定可能な干渉計です。マイケルソン干渉計使用、幅広いタイプのファイバコネクタに対応した高分解能・広範囲で測定が可能。IEC（国際規格）に準拠した研磨品質の確認・コネクタ端面の形状の検査が可能です。

外部・内部量子効率を同時測定できる経済的なソリューションです

1342 nm 671 nm 447 nmでのQスイッチレーザー。平均出力1.5~4W。レーザー微細加工、シリコン加工、ステルスダイシング、ディスプレイ修理などにご利用いただけるレーザーです。

光パワーの保持率98%以上で、ガスまたは粒子の充填が可能。センシング、イメージング、超短パルスアプリケーションに最適。

VisUVでは波長266nm～590nm、最大100mW、レーザービームを3本まで平行出力可能。VisIRでは1064nm 、1530nmで高出力用途に対応。STED顕微鏡用ディプレッション・レーザー (766nm) に最適。オプションで周波数変換も可能。

10¹³もの高いダイナミックレンジを達成3次フェムト秒クロスコリレータ。 特に高磁場物理学で一般に使用される高強度レーザーのパルス特性評価に極めて有用。

単一光子検出共焦点蛍光顕微鏡。最高のデータ品質と使い易さを兼ね備えた蛍光顕微鏡です。自動化により測定時間を短縮を実現。実験室に簡単にインストールいただけます。

PDT(Photodynamic Therapy: 光線力学療法)、PIT(Photoimmunotherapy: 光免疫療法)、PDD(Photodynamic Diagnosis:光力学的診断)などの実験・研究用途向けのマルチチャンネルデスクトップレーザー。最大4チャンネルまでレーザーが搭載可能。波長 375nm～ 1550nmに対応。

高出力（BrixX HP）または縦単一周波数（BrixX NB）モデル。375～2080nmの範囲で多彩な波長ラインナップ、最大出力5W

高密度マルチチャンネルのパルスパターン発生器及びビットエラー検出器です。光トランシーバーや光学電子部品での設計、特性評価、製造用のテストで使用いただけます。

高速＆高精度分析。目的に最適なレーザーアブレーションを最高の性能で提供。

HQ:NSCプローブモデルには、磁気力顕微鏡（MFM)用のコーティングを施した製品もご用意しております。コーティングはチップサイドに膜厚60 nmのコバルト層があり、さらに酸化防止のクロムフィルム膜厚20 nmがカバーしています。トポグラフィーと磁気特性の安定した測定のためにカンチレバーのパラメーターは最適化されています。

SuperK CHROMATUNE は超広帯域な波長可変レーザーです。400-1000 nm もの広い波長域をギャップフリーでカバーし、1mW の光パワーを一定に出力します。寿命は数千時間で、信頼性の高い製品です。メンテナンスフリーで、アライメントや調整も不要です。

窓材に熱歪みがなく、透過光(レーザー)の偏光・歪み・散乱を抑制した高精度測定を実現。加速器関連など高精度透過を必要とする全ての実験・開発用の真空窓に。

クラッド径: 125 – 1200 µm、ファイバコーティング: 250 – 1500 µm、3D画像生成対応モデルのご用意もございます。

卓上型ディスペンシング・ロボットシステム。XYステージ付きシステム。1nL(ナノリットル)以下の滴下、細線描画を実現。オートアライメント・ノズルギャップ自動補正機能を標準搭載 Twin-air®

ナノインプリントにおける樹脂硬化方式/プレス⽅式/加圧方式の組み合わせを選択可能。かつレトロフィットを可能にしたR&D専用装置。ナノインプリント・プロセス応用を伴う研究開発を加速します。

キャリーケースで運搬のでき、取り扱いの簡単な小型軽量タイプ。粒径5μm～3,900μm。速度同時測定モデル

最大3mmまでの光ディレイ範囲に対応するピエゾ駆動のファイバストレッチャです。アナログ信号もしくは12-bit のTTL信号で制御可能です。

最大1000W、mJエネルギー出力。繰返し 最高100MHz。フェムト秒～ピコ秒パルスのコンパクト、堅牢、高安定性なターンキーシステム

生産ライン近くの分析室や分析ラボ向けのスタンドアローンLIBS元素分析装置
スラグ、コンクリート、金属などの迅速分析や元素マッピング分析に最適

広帯域で複雑な変調形式の光信号を発生させる 高性能なコヒーレント光通信の機器をご提供いたします。コヒーレントDSP開発、コヒーレント送信機テスト、カスタム変調フォーマット開発、軍事/航空通信の研究開発など様々な用途でご使用いただけます。

ファイバ出力レーザー製造で培われた高い光ファイバ技術。 400～875 nm。APC or PC。ジャケット選択可。