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製品情報
LMS レーザー加工用ソフトウェア
レーザー加工システム制御用のオールインワン・ソリューション。パラメータを入力してクリックするだけの、特別なスキルがいらない簡易操作ソフトウェア。
高繰り返しパルス Ti:Sapphireレーザー
広いチューニングレンジ、高いパルスエネルギー、狭線幅のコンパクト・ナノ秒パルス・チタンサファイアレーザー。波長域690～1010 nm、最大出力パワー2.5 W or 6.8 W (モデル依存。ピーク波長)、線幅30～50 ns、繰返し周波数１～3 kHz または １～10 kHz｡
INCA 多重分光近接ビーコン
VIS、NIR、SWIR、MWIR、LWIRバンド対応、長距離で検出可能な高輝度マルチスペクトル光信号を提供します。
半導体レーザー(LD)用コントローラ
ILX Lightwave (Newport Brand) は革新的で精度の高い装置、テストシステム、アクセサリを、充実のラインナップで提供しています。
多機能 偏波コントローラ “MPC-201 & MPC-202”
独自の偏光コントロール・アルゴリズムを搭載した高性能偏光コントローラで多彩なコントロール機能を獲得。種々のSOPスクランブリングやSOP変調が可能。コヒーレント・レシーバ性能評価に最適。
波長可変レーザー UV 可視光 近赤外 中赤外 Opolette UX シリーズ
世界最小クラスの波長可変レーザー。UV、 可視光 、近赤外 、中赤外の波長域に対応。堅牢な設計。お客様で設置可能なレーザーです。
最大 2000mJ コンパクト ナノ秒パルスレーザー
新製品 Nimma-Lシリーズ をリリース（2022年7月） 最大 2000mJ @ 1064nm, 繰り返し周波数 1 – 100Hz, パルス幅 5 – 10 ns。コンパクトなナノ秒パルスレーザーで、LIBSやLIDAR等のアプリケーションに最適です。
CO2レーザー COレーザー IR-CO2 IRCO-CO
超安定、長寿命、コンパクトなCO2、COレーザーです。堅牢で信頼性の高いレーザーシステムを設計、開発、製造を行っています。
200mW出力 ピコ秒レーザー Amphos1000シリーズ
出力パワー200 mW。最大パルスエネルギー 2μJ。ナノ秒～ピコ秒パルスを出力。Yb:YAGのシード光や顕微鏡用途に好適。
超短光パルス抽出用レーザースイッチングシステム
ピコ秒及びフェムト秒の高速パルスの間引き用に開発
LEDソーラーシミュレーター“VERASOL”
LED光源を用いたクラスAAAの長寿命ソーラーシミュレータ
ピコ秒パルスレーザー光源（波長 255nm～1,990nm）
ピコ秒パルスレーザー光源はレーザーダイオードベースまたはLEDベースのデバイスです。繰返し周波数は最大100MHzまでユーザーせ調整が可能です。 255nmから1990nmまでの離散波長をカバー。 最短パルス幅40ps。RGB3色ピコ秒レーザーをリリース（2021年11月）
AFMプローブ 高分解能 Hi’Res-C
Hi’Res-Cプローブはシリコンプローブよりも汚染が少なく、より多い枚数の高解像度スキャンの実行が可能です。Hi’Res-Cは微小領域 (< 250 nm) の走査や、平坦なサンプル (Ra < 20 nm) の測定で顕著に能力を発揮します。*本プローブは先端の曲率半径が小さいため、先端とサンプルの相互作用力は小さくなります。
ブルーレーザー 金属加工向け BLシリーズ / ファイバ伝送型 BL-Fシリーズ
ブルーレーザーは金属への高い吸収率から金属加工にとって理想的なレーザーです。波長～444nm。BLシリーズ（125W, 250W）とBL-Fシリーズ（125W, 250W, 500W, 1000W）をご用意しています。汎用的なガルバノスキャナとの一体化が可能。はんだ付け、ワイヤなど、薄い銅またはアルミニウム板の接合・溶接に最適です。赤外線レーザーやグリーンレーザーよりも優れた効率で金属加工を行うこと可能です。
AFMプローブ 磁気力顕微鏡 Co-Cr コーテイング コバルトクロム
HQ:NSCプローブモデルには、磁気力顕微鏡（MFM)用のコーティングを施した製品もご用意しております。コーティングはチップサイドに膜厚60 nmのコバルト層があり、さらに酸化防止のクロムフィルム膜厚20 nmがカバーしています。トポグラフィーと磁気特性の安定した測定のためにカンチレバーのパラメーターは最適化されています。
70W出力 Qスイッチ半導体励起固体レーザー“CL240シリーズ”
波長1064nmで70W出力、 532 nmで20W出力。パルス毎にパルスエネルギー変調可能。繰返し周波数 1-400kHz。ショートパルスタイプをご用意。
レーザークリーニング装置
100Wと200Wモデルがございます。200Wモデルは錆取りや塗装膜除去に最適なレーザーを搭載しております。
Fura-2 カルシウムイメージング用 LED光源”LedHUB Fura-2”
Fura-2カルシウムイメージング用に特化したLED光源。ランプ光源で実現できない高出力、高安定性、素早い波長切替を実現します。
噴霧解析システム (画像解析式) “Envision Patternate”
噴霧映像をから広がり角度や拡散パターンを解析
透明樹脂のレーザー溶着向け 2μm ファイバーレーザー “PowerWave2000シリーズ”
特殊な材料や前処理を必要とせずに、透明な樹脂のレーザー溶着を可能にします。コンパクト、低コストな産業向けファイバーレーザーです。材料の特性に合わせて、1900 nm – 2000 nm から波長を指定できます。
溶液用 QCL-IR 赤外分析装置 Culpeo
従来のFT-IRに代わる、次世代の赤外分析技術、QCL-IRを採用した小型の溶液用赤外分析装置です。QCL-IRは最大10HzでIRスペクトルを取得することができ、従来技術に比べはるかに高速で安定しています。その測定速度を活かし、リアルタイムでの濃度モニタリングが可能です。また、輝度が高く、少量の溶液サンプルでも分析可能です。Culpeo® QCL-IR液体分析器 バイオプロセス分析・液体クロマトグラフィー・ワクチン関連の分析に最適です。
ファイバ端面検査装置
クラッド径: 125 – 1200 µm、ファイバコーティング: 250 – 1500 µm、3D画像生成対応モデルのご用意もございます。
1342 nm 671 nm 447 nm LD励起固体 Qスイッチ レーザー“IDOLシリーズ”
1342 nm 671 nm 447 nmでのQスイッチレーザー。平均出力1.5~4W。レーザー微細加工、シリコン加工、ステルスダイシング、ディスプレイ修理などにご利用いただけるレーザーです。
NanoX 高速ポジショナ
最大10kgもの大荷重でも、高精度な高速ダイナミック・ナノ/マイクロポジショニングを実現。複数のポジショナを組み合わせることも可能。
