製品情報
RGB 3色 励起用ピコ秒レーザー Prima
3つの個別の発光波長 RGB(450、510、635 nm)をピコ秒パルスおよびCWモードで動作可能なレーザー。最大パルス出力 5mW 。コンパクトでスタンドアロンな手頃な価格のレーザーです。
AFMプローブ Tipless チップレスカンチレバー
チップレスシリーズは、チップの片側に異なるばね定数と共振周波数を持つ3つのチップレスカンチレバーを備えています。 本シリーズは以前の12シリーズに代わるものです。
チップレスカンチレバーは材料特性と相互作用の測定に使用できます。 ガラス球やポリスチレン粒子などをチップレスカンチレバーに取り付け、AFMのような実験に適用することができます。
中空コア フォトニックバンドギャップファイバ
光パワーの保持率98%以上で、ガスまたは粒子の充填が可能。センシング、イメージング、超短パルスアプリケーションに最適。
材料プロセス用 ナノ秒DPSSレーザー
ナノ秒レーザー加工、OEM組込みに最適。金属、プラスチック、セラミック、ガラスなど多彩な素材に適用できる高い平均出力:最大200W。1064 nm or 532 nm。繰り返し 1-100 kHz, CW
LMS レーザー加工用ソフトウェア
レーザー加工システム制御用のオールインワン・ソリューション。パラメータを入力してクリックするだけの、特別なスキルがいらない簡易操作ソフトウェア。
蛍光寿命イメージング・相関解析ソフトウェア SymPhoTime 64
強力な64ビットTTTRデータ取得と分析を行うソフトウェアです。時間分解共焦点顕微鏡MicroTime 200、MicroTime 200、LSMアップグレードキット、またはTCSPC機器でのデータ取得及び、分析のためのソリューションを提供。スクリプト言語「STUPSLANG」により、新しい分析手順を自由に追加、既存の分析手順をカスタマイズ可能。デモ機をご用意しております。
厚膜ポジティブ/ネガティブ・トーン・フォトレジスト
400nm近傍の波長に感度を有する厚膜フォトレジスト。マスクレス・リソグラフィのアプリケーションを拡げます
193nm 単一周波数Qスイッチ LD励起レーザー“IXION-193-SLM”
高品質 TEM00 ビーム, スペクトル幅 <120MHz フーリエ限界の単一周波数全固体レーザー
MicroSense 4800 シリーズ 静電容量変位センサ
優れた直線性と温度特性。静的な変位測定のスタンダードモデル。
ナノ粒子分散塗布サンプル・プレパレーション装置 “PSD-PS01”
ナノ粒子のSEM・TEMまたはAFM観察を容易にするサンプル・プレパレーション装置。
分散溶媒中に溶かしたナノ粒子を、静電噴霧でSi基板やカーボン蒸着膜基板へ分散塗布します。
蛍光顕微鏡 単一分子顕微鏡・時間分解アプリケーション・超分解能イメージング
PicoQuantは、時間分解共焦点顕微鏡法のためのさまざまなソリューションを提供いたします。 利用可能なシステムには、ピコ秒の時間分解能と超分解能イメージング機能を備えた単一分子の高感度顕微鏡、また時間分解アプリケーションを可能にするすべての主要メーカーのレーザー走査顕微鏡用のアップグレードキットが含まれます。
コンパクト モジュール式の蛍光寿命分光計 FluoTime 250
蛍光寿命分光計。コンパクトモジュール方式 TCSPC,MCS(マルチチャンネルスケーリング)の双方データ取得可能。測定可能蛍光寿命約10psから数百ms。スペクトル範囲:255〜1550nm。完全自動化されたハードウェア制御。アプリケーションウィザード・スクリプト言語により多彩な機器に対応可能
プラグ&プレイ イオンジェネレータ“KAIO”
レーザーイオン生成及びプラズマ相互作用のためのレーザーモニタ・評価。TNSAベースのパワフルツール。EProton = 4 – 5 MeV (cut-off)
短波長赤外カメラ SIRIS
高性能短波長赤外カメラ。超低ノイズ&高いダイナミックレンジ。幅広い用途で使用可能なInGaAsセンサベースSWIR。200 fps。液体窒素不要。
レーザースペックルリデューサー&ビームホモジナイザー LSR-4C
レーザースペックル低減とビームの均一化が可能.。可動式のディフューザー(拡散版)によるレーザースペックルリダクター。過酷な環境でも使用可能な堅牢設計。高q-factorで低消費電力。振幅範囲 800μm。
粒度分布測定装置 “VisiSize” PDIA式(新画像解析式)
最新解析アルゴリズムと新特許光学系により、在来型や他方式を超える安定性と精度を実現。測定レンジ。サイズ:1μm ~15,600μm。速度:~1,000m/s@100μm
2軸ガルバノスキャナ
レーザービームを2次元で偏向・集光するXY偏向ユニットです。小~中規模程度の加工エリアで、高速処理が必要なさまざまなアプリケーションに好適です。
超音波減衰式 粒度分布測定装置 OPUS
一般的な光学的手法では測定が困難な高濃度・高粘度の試料を、希釈することなく、インラインまたはオンラインで測定できます。ミリング、結晶化、重合、沈降、乳化などのプロセスを、リアルタイムに管理する用途に最適です。(測定粒子サイズ 1~3000 µm)
クラス最速・最高精度 3Dプリンタ 光造形装置 Quantum X Shape
Quantum X shapeは、2光子重合(2PP)をベースに独自のプリンティングテクノロジーを組み合わせた、多用途での活用が可能な3Dプリンタです。あらゆる2.5D/3D形状での、サブミクロン精度と高い正確性でのラピッドプロトタイピング可能。またウェハースケールのバッチ生産に最適なツールとなっています。
レーザー加工ヘッド カスタマイズ対応可能 “OPTICEL”
レーザー加工の幅広い要求に柔軟に対応、カスタマイズ性、信頼性、品質に優れたレーザー加工ヘッドです。
噴霧解析システム (画像解析式) “Envision Patternate”
噴霧映像をから広がり角度や拡散パターンを解析
ビットエラーテスター パルスパターン発生器
高密度マルチチャンネルのパルスパターン発生器及びビットエラー検出器です。光トランシーバーや光学電子部品での設計、特性評価、製造用のテストで使用いただけます。
光回路スイッチ 光トランシーバーフェイルオーバー
光回路スイッチ。 複数の400G光トランシーバの間でフェイルオーバーシステムの構築が可能。小型の省スペース、1W未満の低電力な省エネタイプでシステムのエネルギーコストを大幅に削減することが可能です。異常検知・自動バックアップ切替機能によりネットワークの信頼性向上を実現させます。幅広いトランシーバー技術をサポートし柔軟な拡張性で多様なネットワークへの導入が容易です。
動的画像式 粒度・形状分布測定装置 QICPIC
パルスレーザーによる高速撮像によって多数の粒子を測定するため、個々の粒子を測定しながらも、統計的に信頼性の高い解析が可能です。全ての粒子画像が生データとして保存されるため、形状も定量的に解析できます。乾式・湿式を問わず多様な試料に対応します。(測定範囲 0.55~34000µm)