製品情報
産業用 サーモグラフィカメラ“ThermoView TV40”
ファクトリ・オートメーション用途向け高性能サーマル・イメージング・システム。保護等級IP67 (NEMA 4)の堅牢なハウジング
回折限界ビーム品質 Ybファイバゲインモジュール aeroGAIN-ROD
回折限界の高いビーム品質。超短パルスレーザー用高出力ファイバ増幅モジュール。
マイクロレンズアレイ・DOE試作用 3D光造形装置 Quantum X
世界初、マスクレス微細加工のための2光子グレースケール・リソグラフィシステム。屈折型、回折型マイクロ光学素子製造のための最先端装置。
70W出力 Qスイッチ半導体励起固体レーザー“CL240シリーズ”
波長1064nmで70W出力、 532 nmで20W出力。パルス毎にパルスエネルギー変調可能。繰返し周波数 1-400kHz。ショートパルスタイプをご用意。
高繰り返しパルス Ti:Sapphireレーザー
広いチューニングレンジ、高いパルスエネルギー、狭線幅のコンパクト・ナノ秒パルス・チタンサファイアレーザー。波長域690~1010 nm、最大出力パワー2.5 W or 6.8 W (モデル依存。ピーク波長)、線幅30~50 ns、繰返し周波数1~3 kHz または 1~10 kHz。
サブテラヘルツ Sub-THz レーダー トランシーバー
FMCW(周波数変調連続波)レーダートランシーバーは、最先端のショットキーダイオード技術に基づくサブTHzデバイスです。最大100 dBのダイナミックレンジ、高い測定レート(7.6 kHz)、優れた透過性と高い解像度を持ち、様々な用途で非接触非破壊検査、密度深度測定、3Dイメージングなど様々なセンシングツールとしてお使いいただけます。
最大150μJ出力 高機能フェムト秒/ピコ秒レーザー Satsuma
革新的なファイバアンプ技術によるコンパクト、ハイパワー、高エネルギー、高繰り返しのフェムト秒/ピコ秒ファイバレーザー。パルス幅は最短 350 fs – 10 ps、繰返し周波数 single shot to 40MHz、最大平均出力 50W、最大パルスエネルギー 150 µJ
偏光度メータ “DOP-201”
光源の偏光度 (DOP) をリアルタイムに計測。特許の最大/最小サーチ技術により、低DOPも高DOPも正確に測定
AOディフレクタ(音響光学ディフレクタ)
レーザービームスキャン(ランダム位置、ラインスキャン、連続スポットディフレクション)に最適なRF周波数制御ディフレクタ。高効率。スキャンレート 最高 250 kHz
NKT Photonics社 産業用途ピコ秒/フェムト秒レーザー
NKT Photonics社では産業用途向け光源として、パルス幅はピコ秒からフェムト秒、また最大出力パワー 40W(ピコ秒) までのさまざまなウルトラファーストレーザーを製造しています。繰返し周波数は、可変と固定、またシングルショットパルスやバーストモードを選択でき、アプリケーションに最適な超高速レーザーを提供いたします。多彩な標準モデルだけでなく、OEMにも対応いたします。 お気軽にお問合せください。
PDL/IL マルチメータ “PDL-201”
偏光依存損失 (PDL), 挿入損失 (IL), デバイスの光パワーをわずか30ミリ秒で同時測定。低/高の両PDL値を測定可能。
ハイパワービーム分析装置一覧
50kW/cm2超のパワー密度でも歪みのない正確なビームサンプリングを実現
高出力テラヘルツ量子カスケードレーザー TeraCascade2000
最先端の量子カスケードレーザー(QCL)技術ベースの次世代ハイパワー・テラヘルツ光源。最大光出力 7mW。マルチ周波数オプション 最高6周波数。極低温冷却不要の永久真空パッケージ。
高ピーク出力 QスイッチDPSSレーザー “CP450シリーズ & CP460シリーズ”
QスイッチDPSSレーザー ナノ秒の短パルス 5ns でパルスエネルギーはmJ。24時間365日運用可能な高信頼性のレーザー。空冷コンパクトで超微細レーザー加工、精密なレーザー加工に最適です。
ビーム位置測定装置一覧
シンプル・高速・低コスト。お手持ちのPCでレーザービームをリアルタイム制御
最先端 フラッシュランプ励起 ナノ秒 YAGレーザー&ガラスレーザー
高度な要求に応える、特別かつ無二のナノ秒パルス・レーザーソリューション。Premiumlite-YAG YAGレーザー:>75 J @1064 nm, >55 J @532 nm、繰返し周波数 10 Hz。Premiumlite-Glass ガラスレーザー:>250 J @1053 nm, >200 J @527 nm, 繰返し周波数 0.1 Hz
ORIGAMI IRO フェムト秒光パラメトリックアンプ(OPA)システム
ORIGAMI IROは、費用対効果の高いフェムト秒レーザーと光パラメトリック増幅器(OPA)で構成され、広い波長可変域をもつチューナブル・フェムト秒レーザーシステムです。空冷式ORIGAMI XPの優れたビームポインティング安定性とコンパクトさ、およびORIGAMI IROの環境安定性の高い完全自動化OPA技術を兼ね備えています。
UV/熱/複合ナノインプリント装置 RubiQ™
ナノインプリントにおける樹脂硬化方式/プレス⽅式/加圧方式の組み合わせを選択可能。かつレトロフィットを可能にしたR&D専用装置。ナノインプリント・プロセス応用を伴う研究開発を加速します。
コンパクトピコ秒ファイバレーザー“SIDシリーズ”
高性能ながら小型で使いやすいターンキーシステム。繰り返し周波数を連続的に可変。
1064 or 1550 nm, SHG可。平均出力 50mW~30W。パルス幅 30ps。繰り返し周波数 5MHz to 1GHz。
高出力・高繰返し Qスイッチ半導体励起固体レーザー“CL210シリーズ”
レーザー加工に適した短パルスレーザー。3波長ラインナップ(1064, 532, 355 nm)。最高20W出力。繰返し周波数 1-100kHz。最小パルス幅 20ns
PicoQuant ピコ秒パルス LD/LED 製品一覧
PicoQuant社のピコ秒パルス半導体レーザー/LEDは、コンパクトで信頼性の高いターンキー・ソリューションです。ピコ秒パルス、変調、または高速スイッチ(nsec~µsec)モードで動作します。代表体なレーザーシステムは、共通のドライバユニットと交換可能なヘッドで構成されます。特殊な用途向けのスタンドアローンユニットもラインナップしています。
高精度・多層膜・非接触 厚み計 157/137シリーズ
※デモ機あり、サンプル測定可能 高精度 (±0.1 μm)、12μm から 80mmの広い範囲が測定可能な膜厚計(厚み計)です。独自の非接触光学技術を採用。硬質材料と軟質材料の両方を、損傷や変形なく厚さ測定をすることができます。最大31層の厚みを同時に測定することが可能です。
高出力・狭線幅 UV & VIS単一周波数レーザー Koheras HARMONIK
高出力(最大10W)で狭線幅(sub-kHz)の単一周波数レーザー。周波数変換により波長ラインナップが増えました。位相と強度の両ノイズを抑制。TEC搭載。ルビジウム、ストロンチウム、バリウム、イッテルビウムの波長に正確に対応でき、最先端の量子アプリケーションに最適です。
LIBS元素分析システム(ラボ向けモデル)
生産ライン近くの分析室や分析ラボ向けのスタンドアローンLIBS元素分析装置
スラグ、コンクリート、金属などの迅速分析や元素マッピング分析に最適