超低損失 中赤外オプティクス “XTAL MIR”

CMS (Crystalline Mirror Solutions)

中赤外 (mid-IR) 領域アプリケーション向けに設計された高性能ミラー

中赤外 (mid-IR) 領域アプリケーション向けに設計された高性能ミラー
  • 中赤外 (mid-IR) 2~4μm
  • 中赤外領域での光学損失を極限まで低減

xtal mir は波長範囲 2~4μm の中赤外 (mid-IR) 領域アプリケーション向けに設計された高性能ミラーです。重要な分子全ての指紋領域に対応するキャビティ・リングダウン分光システムでの使用に好適ですが、新しい長波長レーザーや光パラメトリック増幅器 (OPA) ベースの光源にも使用できます。

  • 微量ガス検出
  • パワービルドアップ共振器
  • 新しいレーザーシステム設計
  • キャビティリングダウン分光(CRDS)
中心波長 2~4 μm
光学損失 < 100 ppm (全損失, 散乱 + 吸収)
透過率 > 200 ppm
バンド幅 200~400 nm FWHM (中心波長により異なる)
直径 0.5~1 inch (12.7~25 mm), 特注サイズ 最大 150 mm 径まで
材料 単結晶 GaAs/AlGaAs, Si 基板 (他の基板も提供可)
基板平坦度 < 0.10 wave, P-V 測定 @ 633 nm
開口径 基板により異なる, 5 mm 以上
曲率半径 > 0.1 m
表面品質 (コーティング付き) ~1 Å RMS 粗さ
S2 表面 ご指定により AR コーティング
ウェッジ 0.5~1 ° (代表値, 他の値でも提供可)
耐久性 フューズドシリカと同等
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