300W出力 ピコ秒レーザー Amphos2000シリーズ

AMPHOS

最大出力パワー 300W。ピコ秒パルス 0.9-10ps。レーザー微細加工用光源に好適。

最大出力パワー 300W。ピコ秒パルス 0.9-10ps。レーザー微細加工用光源に好適。

 

  • フレキシブルなパルス幅
  • 柔軟なパルスバースト
  • 幅広いパラメータ範囲
  • 高速パラメーター変換
  • 同期

 
Amphos2000シリーズは、非常にコンパクトな(60x72cm2)レーザープラットフォームで、材料加工など産業用途に好適です。
最大出力パワー 300 W、最大パルスエネルギー 1mJ、1ps未満のピコ秒パルス幅を提供し、幅広い素材のレーザー微細加工に最適です。

  • 微細加工
  • スクライビング、ダイシング
  • カッティング、ドリリング
  • ナノ構造化
  • 修飾
レーザータイプ 2101 2201 2301 2204
出力パワー 100 W 200 W 300 W 200 W
パルスエネルギー 500 μJ 500 μJ 500 μJ 1000 μJ
パルス幅 0.9 – 10 ps 0.9 – 10 ps 0.9 – 10 ps 0.9 – 10 ps
繰り返し周波数 0.2 – 40 MHz 0.4 – 40 MHz 0.6 – 40 MHz 0.2 – 40 MHz
ビーム品質 < 1.3 < 1.3 < 1.3 < 1.3
波長 1030 nm 1030 nm 1030 nm 1030 nm/515 nm
オプション パルスエネルギー増強, SHG, THG THG
ヘッド外形寸法 600mm×194mm×720mm
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