その他の製品 一覧

PDL エミュレータ“PDLE-101”

General Photonics

高速トランレシーバなどのPDL誤差計測やPDLトラッキング速度の定量化などPDL関連の検査・計測に最適なPDL発生&エミュレータ

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COMPACT CO2レーザービーム伝送システム

ULO Optics

CO2レーザーを効率的・高品質にビーム伝送。リーズナブルなコンプリート・システム

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ペレット・粉体用 異物検査装置 CALPAS

Scigentec

粉体やペレット・サンプル中の異物を検出 (サイズ, 形状分析による)。粒子のサイズ、色、形状を高速に評価。多彩なサンプル搬送ユニット (乾式, 湿式, ステージ 等)。オフライン、オンラインの両方に対応可能。

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消光比メータ “ERM-202”

General Photonics

PER (偏光消光比) 範囲 50dB。ブロードバンド光源のPERを直接計測可能。1ch. or 2 ch.

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PMD/PDL/SOPエミュレーション装置

General Photonics

偏光モード分散(PMD)、偏光依存損失(PDL)、SOP(偏光状態)の計測・評価に

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LIBSシステム(超高速インライン向け)

SECOPTA

完全インライン向けLIBSシステム。20kHzの超高繰返し測定(カスタムで100kHzまで可)

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デポラライザ “DEP”

General Photonics

レーザー出力を無偏光化するデポラライザです。外部からの電源供給が不要なパッシブデバイスです。標準仕様ではコヒレンス長10mの光源まで使用可能です。数kmのコヒレンス長を持つレーザーのためにカスタムすることも可能です。

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2μm ナノ秒パルス ファイバーレーザー “PowerWave2000-ns”

NPI Lasers

中赤外スーパーコンティニューム光源の励起に最適。中心波長 1900~2000 nm、繰り返し周波数 kHz~MHz、パルスエネルギー10 μJにて最大出力10 W

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装置組込み用非接触面粗さ計 S mart sensor

SENSOFAR Metrology
[新商品]

S mart 2は、白色干渉計とエリア共焦点(コンフォーカル)の技術による3D表面形状測定が可能な装置組込み用顕微鏡ユニットです。3Dレーザー顕微鏡と同等の分解能と精度、再現性による表面形状・粗さ測定を実現可能です。

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AFMプローブ 高分解能 Hi’Res-C

MikroMasch

Hi’Res-Cプローブはシリコンプローブよりも汚染が少なく、より多い枚数の高解像度スキャンの実行が可能です。Hi’Res-Cは微小領域 (< 250 nm) の走査や、平坦なサンプル (Ra < 20 nm) の測定で顕著に能力を発揮します。*本プローブは先端の曲率半径が小さいため、先端とサンプルの相互作用力は小さくなります。

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偏波コントローラ / 偏波スクランブラ / 偏波トラッカ

General Photonics

各種システム・装置の偏波特性を多様化し、性能の最適化をサポートする多彩な偏波関連モジュール

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光アイソレーター“700シリーズ”

Conoptics

光ファイバーや光学素子からの戻り光を除去し、レーザー本体を保護。350~1135nm

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溶液用 QCL-IR 赤外分析装置 Culpeo

DRS Daylight Solutions

従来のFT-IRに代わる、次世代の赤外分析技術、QCL-IRを採用した小型の溶液用赤外分析装置です。QCL-IRは最大10HzでIRスペクトルを取得することができ、従来技術に比べはるかに高速で安定しています。その測定速度を活かし、リアルタイムでの濃度モニタリングが可能です。また、輝度が高く、少量の溶液サンプルでも分析可能です。Culpeo® QCL-IR液体分析器 バイオプロセス分析・液体クロマトグラフィー・ワクチン関連の分析に最適です。

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レーザークリーニング装置

[オススメ]

100Wと200Wモデルがございます。200Wモデルは錆取りや塗装膜除去に最適なレーザーを搭載しております。

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超小型 高分解能 フォーカスモジュール “M3-FS, M3-F ”

New Scale Technologies

超小型で高分解能(0.5μm)のレンズ位置制御と双方向再現性を実現したフォーカスモジュールです。クローズドループ制御で外部コントローラボードが不要。機器への組込みが容易なモジュールです。

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ラインスキャナ型 非接触温度計“MP150シリーズ”

Fluke Process Instruments

512ポイントでの測定が可能な温度計測用高精度ラインスキャナ

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レーザー回折式 粒度分布測定装置 HELOS

Sympatec

乾式測定における試料分散性能と測定再現性に優れており、凝集しやすい試料でも安定して測定できます。世界各国に多数の納入実績があり、製薬、化学、磁性体、食品などの様々な業界で採用されています。(測定範囲: 0.1~3500 µm)

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UV/熱/複合ナノインプリント装置 RubiQ™

SCIVAX

ナノインプリントにおける樹脂硬化方式/プレス⽅式/加圧方式の組み合わせを選択可能。かつレトロフィットを可能にしたR&D専用装置。ナノインプリント・プロセス応用を伴う研究開発を加速します。

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高精細マイクロ・ハンドディスペンサ

エンジニアリング・ラボ

実体顕微鏡下での手作業に最適なマイクロ・ハンドディスペンサ

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ハイパワービーム分析装置一覧

Duma Optronics

50kW/cm2超のパワー密度でも歪みのない正確なビームサンプリングを実現

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AFMコントローラー “Galaxy Dual”

CSInstruments
[オススメ]

24 bit AFMコントローラー。サポートの終了した Agilent Technology 製 AFM に対応します。シンプルに既存のコントローラーとの置き換えが可能。既存のAFMヘッドへプラグインの上、専用ソフトウェア使用して同様のAFM動作が行えます。

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ファイバーケーブル/ファイバーコンポーネント各種

LASOS

ファイバ出力レーザー製造で培われた高い光ファイバ技術。 400~875 nm。APC or PC。ジャケット選択可。

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廉価版テラヘルツ量子カスケードレーザー(THz-QCL)TeraCascade100  

Lytid

テラヘルツ実験スタートに最適。高出力モデルTC2000の廉価版。最先端の量子カスケードレーザー(QCL)ベース。2~5THz。パルス(QCW)。シングル/マルチモード。出力0.1mW以上 at 3.2THz。窒素冷却

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レーザー超音波非破壊検査装置

Intelligent Optical Systems

レーザー超音波による非接触非破壊検査/非接触厚さ測定

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