ピコ秒/サブピコ秒パルスレーザーシステムのパルス幅を大幅に短縮するモジュール。最高のスループット効率、良好なビーム品質、高い安定性。入力パルス幅 < 150 fs to 1 psを数サイクルパルスまで短縮可能。対応波長 1030nm, 515nm

実際の粒子映像を使用して、粒子サイズや速度とその分布を正確に自動測定

高分解能・高速応答。動的変位測定のスタンダードモデル。

境界層や壁面流、噴霧の可視化 / PIVに適した非コヒーレント光特性のレーザーです。鏡面やメタルの反射が低く、金属面などの照明に最適です。最大50 kHzの繰り返しが出来るパルス発振により、ハイスピードカメラの撮影コマ数に関係なく一定の明るさで撮影が可能です。

高速・高分解能・高精度な偏向器
深紫外、紫外、可視から近赤外域まで対応

CWレーザー測定対応。波長精度 最高±0.0001nm。1台で波長測定＆スペクトル分析が可能。可視光(VIS)から中赤外(MIR)領域まで (375nm to 12μm) の波長域をカバー。マイケルソン干渉計ベース。パルスレーザー(>50kHz)の測定が可能。

光ヘテロダイン計測等に便利な小型の周波数シフタ。複数のデバイスのカスケード接続も可能

シリコンナイトライドカンチレバー・チップのガラスホルダーチップの両側に2つ配置。用途としてソフトコンタクトモードで使われます。

高速トランレシーバなどのPDL誤差計測やPDLトラッキング速度の定量化などPDL関連の検査・計測に最適なPDL発生＆エミュレータ

非接触・非破壊で表面の微細な3D形状、および粗さを測定・解析することができる形状計測装置です。装置組込み用顕微鏡ヘッドモデル、テーブルトップモデル、大型ステージ付きモデルまで、用途に応じた幅広いラインナップを提供。

1342 nm 671 nm 447 nmでのQスイッチレーザー。平均出力1.5~4W。レーザー微細加工、シリコン加工、ステルスダイシング、ディスプレイ修理などにご利用いただけるレーザーです。

独自の偏光コントロール・アルゴリズムを搭載した高性能偏光コントローラで多彩なコントロール機能を獲得。種々のSOPスクランブリングやSOP変調が可能。コヒーレント・レシーバ性能評価に最適。

完全インライン向けLIBSシステム。20kHzの超高繰返し測定（カスタムで100kHzまで可）

噴霧映像をから広がり角度や拡散パターンを解析

高速減衰速度、低挿入損失、パワーメータ内蔵の MEMS ベースの可変光減衰器。非常にコンパクトで費用対効果の高い可変光減衰器・バリアブルアッテネータです。 高度なパワー安定化機能により、入力パワーが変動しても出力パワーを設定により安定化させ、維持することが可能です。

高いスキャナー性能を持つハイエンドAFMです。老舗AFMメーカのハイエンド品並みの測定品質ながらリーズナブルな価格に抑え、非常にコストパフォーマンスの高いAFMになっています。通常のAFMとしての機能のほか、電気特性測定（KFM、C-AFM)などに強みがあります。

スキャン不要の時間相関単一光子計数用のカメラ。手軽に個々の光子の到着時間とXY位置を計測。ラマン分光において、さらに蛍光寿命を利用することで、ラマン光と蛍光を分離・識別して測定することが可能。

レーザー加工システム制御用のオールインワン・ソリューション。パラメータを入力してクリックするだけの、特別なスキルがいらない簡易操作ソフトウェア。

最高の耐摩耗性と電気的性能を提供する高導電性ダイヤモンドプローブ（ダイヤモンドAFMカンチレバー）

汎用性の高いリアルタイム・テラヘルツ・イメージング・システムで、高解像度アプリケーションに好適。25 FPS。2~5 THz範囲で最大6つのQCLチップを搭載可能。高解像度 最小 250 µm。複数の照明オプション。1クリックで簡単光学構成（反射／透過）。

50kW/cm²超のパワー密度でも歪みのない正確なビームサンプリングを実現

LED光源を用いたクラスAAAの長寿命ソーラーシミュレータ

時間相関単一光子計数 (TCSPC)、一致相関、マルチチャネルでのスケーリング 、イベント・タイミング（ピコ秒～ミリ秒の時間分解能）用のモジュールです。シングルチャンネルおよびマルチチャンネル。USBまたはPCIeインターフェイスを装備。※HydraHarp 400 デモ機あり

Optotuneでは革新的な光制御コンポーネントを提供しています：フォーカスチューナブルレンズ（焦点可変レンズ）、高速ステアリングミラー、レーザースペックルリデューサー＆ビームホモジナイザ、ビームシフトデバイス。