汎用性の高いリアルタイム・テラヘルツ・イメージング・システムで、高解像度アプリケーションに好適。25 FPS。2~5 THz範囲で最大6つのQCLチップを搭載可能。高解像度 最小 250 µm。複数の照明オプション。1クリックで簡単光学構成（反射／透過）。

量子相関と蛍光測定に特化したソフトウェアを提供。FLIM、FLIM-FRET、FCS、FCCS、FLCS、同時計測、蛍光タイムトレース分析等に対応しています。QuCoa、SymPhoTime 64 、EasyTau 2のすべてのデモ機ご用意しております。

導電性プローブ：- Pt プラチナ、Cr-Au 金 コーティング, – 高分解能導電性 DPERシリーズ, – 低ノイズ導電性 DPEシリーズ

全てファイバーで構成することで、挿入損失と後方反射を抑えた、偏波スクランブラーです。偏波依存利得(PDG)、偏波感受性の低減やPDL測定等向けに、偏光状態をランダム化することが可能です。

噴霧映像をから広がり角度や拡散パターンを解析

PicoQuant社のピコ秒パルス半導体レーザー/LEDは、コンパクトで信頼性の高いターンキー・ソリューションです。ピコ秒パルス、変調、または高速スイッチ（nsec～µsec）モードで動作します。代表体なレーザーシステムは、共通のドライバユニットと交換可能なヘッドで構成されます。特殊な用途向けのスタンドアローンユニットもラインナップしています。

光コネクタの端面を3Dで測定可能な干渉計です。マイケルソン干渉計使用、幅広いタイプのファイバコネクタに対応した高分解能・広範囲で測定が可能。IEC（国際規格）に準拠した研磨品質の確認・コネクタ端面の形状の検査が可能です。

100Wと200Wモデルがございます。200Wモデルは錆取りや塗装膜除去に最適なレーザーを搭載しております。

ファイバ出力レーザー製造で培われた高い光ファイバ技術。 400～875 nm。APC or PC。ジャケット選択可。

アウトガス極少で超高真空領域までの立ち上げが短時間で可。熱歪みのない窓材で、透過光(レーザー)の偏光・歪み・散乱を抑制した高精度測定を実現。加速器関連など高精度透過を必要とする全ての実験・開発用の真空窓に。

位相イメージングは、異種材料や特性の不均一性を持つサンプルにおいて、ナノスケールの違いをイメージングするために用いられるAFM技術の一つです。位相コントラストは、チップとサンプル間の相互作用に基づきますが、これらの相互作用は、スキャンパラメーターや、イメージングの測定モード（原子間力の引力領域か斥力領域で捜査しているかなど）に依存します。O’DeaとBurratoは、位相イメージングを使用して、Nafion膜のプロトン伝導ドメインをマッピングしました。彼らは、先端とサンプルの間の特定の相互作用力がプロトン伝導ドメインの分解能に大きく影響することを発見しました。斥力レジームでのイメージングにより、ドメインの面積が大きめに表示され、ドメインの数が少なめに表示されました。引力領域でのイメージングにより、水やフルオロカーボンのドメインが最も正確に測定できました。AFMのフィードバックループが最適化されていない場合、またはカンチレバーが共振周波数を超えて駆動していた時、位相イメージングは組成の違いではなく、形状の変化に対応するイメージになりました。

コンパクトで安価な組込み用の半導体レーザー電源

強力な64ビットTTTRデータ取得と分析を行うソフトウェアです。時間分解共焦点顕微鏡MicroTime 200､MicroTime 200､LSMアップグレードキット、またはTCSPC機器でのデータ取得及び、分析のためのソリューションを提供。スクリプト言語「STUPSLANG」により、新しい分析手順を自由に追加、既存の分析手順をカスタマイズ可能。デモ機をご用意しております。

高耐荷重・ロングトラベルタイプから高精度タイプまで幅広い精密垂直ステージをラインナップ

世界で唯一、4本のSED検出器による高コントラスト観察画像とナノレベル立体形状の取得が可能。高分解能SEM観察と試料表面の形状測定、表面形状のパラメータ算出も一台で完結。精密工学会技術賞を受賞しました。

偏光依存損失 (PDL), 挿入損失 (IL), デバイスの光パワーをわずか30ミリ秒で同時測定。低/高の両PDL値を測定可能。

波長244～4500nmで光強度＆位相を変調。高安定性・低電圧・高速

ニューポートの除振台は、国内外を問わず多くのお客様から高い評価をいただいております。
ニューポート社製 Vibration Control製品の詳細は、専用サイトをご参照下さい。

平均出力18W、1342nmの高出力LD励起固体レーザー。24時間365日の連続稼働の産業用途に最適

パルスレーザーによる高速撮像によって多数の粒子を測定するため、個々の粒子を測定しながらも、統計的に信頼性の高い解析が可能です。全ての粒子画像が生データとして保存されるため、形状も定量的に解析できます。乾式・湿式を問わず多様な試料に対応します。（測定範囲 0.55～34000µm）

音響光学デバイスによる短パルスレーザー発振用Qスイッチデバイス。様々な結晶素材で多様なアプリケーションに対応

光ファイバーや光学素子からの戻り光を除去し、レーザー本体を保護。350～1135nm

レーザー干渉を利用した厚さ測定装置。厚膜(1～500μm)測定用。小型・高速・高精度

独自の1342nmの繰返し率固体ダイオード励起Qスイッチレーザー。365日24時間稼働の産業用途に適した製品です。米国CDRH規制への準拠