高濃度対応 インラインSS（浮遊物質測定）・濁度　計測
後方光散乱方式採用
過酷な環境下でもメンテフリーで使用可能な堅牢デザイン

光子計数検出器としてPMT（光電子増倍管）、HPD（ハイブリット光電子増倍管）、SPAD（単一光子アバランシェダイオード）にてフォトンカウンティングが可能です。紫外から近赤外の範囲をカバー。

実際の粒子映像を使用して、粒子サイズや速度とその分布を正確に自動測定

優れた直線性と温度特性。静的な変位測定のスタンダードモデル。

M3-LSリニアステージは、コントローラを内蔵した超小型高精度リニアステージです。小型のOEM機器にすぐに組込みが可能。外部ボードも不要です。駆動機器もコンパクトな筐体に内蔵され一体化されています。超小型ながら高精度・安定性・使い易さを兼ね備えています。開発キットもご用意いたしております。

金属単結晶・酸化物単結晶・合金単結晶試料の高品質品を高精度加工

ニューポートのコーティング技術は、高出力のエキシマからYAGまで、 広範囲に亘って対応しています。
ニューポート社製 Optics製品の詳細は、専用サイトをご参照下さい。

WDMカプラ、スプリッタ、バンドパスフィルタ、PMビームスプリッタ、サーキュレータなど、お好みの受動光コンポーネントを搭載することができます。 PXIeおよびベンチトップモデルでは、SMF、MMF、PMFをサポートしています。

ニューポートの光学マウントは、他社には無い高い安定性を持ち、多種多様のモデルを数多く揃えています。ニューポート社製 Opto-Mechanics製品の詳細は、専用サイトをご参照下さい。

光誘起力を使った次世代のPiFM ・ PiF -IR 機器　半導体、ナノフォトニクス、ポリマー、無機物などに向けた様々な用途で使用いただけるAFM-IR装置です。

ファクトリ・オートメーション用途向け高性能サーマル・イメージング・システム。保護等級IP67 (NEMA 4)の堅牢なハウジング

ピエゾ製品の分解能と精度を極限まで高める、高性能コントローラ及びアンプ。用途に応じて最適な製品を選択可能

3Dから高アスぺクト比形状まで対応

※デモ機あり、サンプル測定可能 高精度 （±0.1 μm）、12μm から 80mmの広い範囲が測定可能な膜厚計（厚み計）です。独自の非接触光学技術を採用。硬質材料と軟質材料の両方を、損傷や変形なく厚さ測定をすることができます。最大31層の厚みを同時に測定することが可能です。

カスタム顕微鏡対物レンズを設計の経験からOEMを含めた最適な対物レンズを提供します。高NA開口部、広視野角、長作動距離、特殊材料制約に対応。多光子顕微鏡、共焦点顕微鏡、超解像顕微鏡、液浸顕微鏡、
STED顕微鏡、生細胞蛍光顕微鏡、深部組織イメージング、超解像顕微鏡、ボーズ=アインシュタイン凝集実験などで活用されています。

全てファイバーで構成することで、挿入損失と後方反射を抑えた、偏波スクランブラーです。偏波依存利得(PDG)、偏波感受性の低減やPDL測定等向けに、偏光状態をランダム化することが可能です。

レーザービームスキャン（ランダム位置、ラインスキャン、連続スポットディフレクション）に最適なRF周波数制御ディフレクタ。高効率。スキャンレート　最高 250 kHz

ピコ秒/サブピコ秒パルスレーザーシステムのパルス幅を大幅に短縮するモジュール。最高のスループット効率、良好なビーム品質、高い安定性。入力パルス幅 < 150 fs to 1 psを数サイクルパルスまで短縮可能。対応波長 1030nm, 515nm

フォトン カウンティング（光子計数 ）実験用のアクセサリを提供しています。PicoHarp 300 TCSPC 用ルーター、SPAD 用専用デュアル チャネル電源、ピコ秒分解能のディレーヤー、トリガー ダイオード 信号コンディショナー、信号ケーブル

従来のFT-IRに代わる、次世代の赤外分析技術、QCL-IRを採用した小型のガス・溶液用赤外分析装置です。QCL-IRは最大10HzでIRスペクトルを取得することができ、従来技術に比べはるかに高速で安定しています。その測定速度を活かし、リアルタイムでの濃度モニタリングが可能です。また、輝度が高く、少量サンプルでも分析可能です。Culpeo® QCL-IR液体分析器　バイオプロセス分析・液体クロマトグラフィー・ワクチン関連の分析に最適です。

多彩な光アイソレータ／ファラデーローテータをラインナップ。波長範囲、開口径（アパーチャ）、出力を選択いただけます。高透過率の優れたアイソレーションを実現した製品です。

フォトディテクタを豊富にラインアップ。高速変調CWレーザー、Q-スイッチレーザー、モードロックレーザーの強度・パルス波形のモニタリングに最適。組込み用途にも幅広い実績。

ナノインプリントにおける樹脂硬化方式/プレス⽅式/加圧方式の組み合わせを選択可能。かつレトロフィットを可能にしたR&D専用装置。ナノインプリント・プロセス応用を伴う研究開発を加速します。

偏光モード分散（PMD）、偏光依存損失（PDL）、SOP（偏光状態）の計測・評価に