ナノメートル分解能の圧電素子モータベース・直進ステージ。単軸/多軸、一体型/モジュール式、オープンループ/クローズドループを用途に応じて選択可能

非破壊・非接触検査ができるプラグ＆プレイのテラヘルツ・スペクトロメータ。周波数範囲 0.1～2.5 THz、最大ダイナミックレンジ 54 dB

反射モード（2Dミラー）、透過モード（チューナブルプリズム）で使用可能な、革新的な2次元ビームステアリングミラーです。ビームシフト無。システム組込みに対応。LiDAR、アダプティブヘッドライト、OCT、マシンビジョン、3Dプリンティング、セキュリティなど多彩なアプリケーションで活用いただけます。

高速減衰速度、低挿入損失、パワーメータ内蔵の MEMS ベースの可変光減衰器。非常にコンパクトで費用対効果の高い可変光減衰器・バリアブルアッテネータです。 高度なパワー安定化機能により、入力パワーが変動しても出力パワーを設定により安定化させ、維持することが可能です。

24 bit AFMコントローラー。サポートの終了した Agilent Technology 製 AFM に対応します。シンプルに既存のコントローラーとの置き換えが可能。既存のAFMヘッドへプラグインの上、専用ソフトウェア使用して同様のAFM動作が行えます。

テレスコープ・ビームエキスパンダー・コリメータなどに最適な高い面精度

オフィール社の豊富なセンサに対応するディスプレイまたはコンピュータインターフェース。業界最高の校正精度、高性能、優れた操作性。使い勝手抜群のユーザーフレンドリーなレーザパワー/エネルギ測定用ソフトウェア。サンプルコマンド公開により、COMオブジェクトやLabVIEWなどユーザーが自由かつ容易にプログラミング可能。

多層セラミック技術をもとにしたスタック型ピエゾアクチュエータ。数kNもの高い耐負荷重と、1nm未満の高い分解能を同時に実現。

小型ロータリー位置決めステージ。高分解能 0.022 °を超える精度で位置決めが可能です。クローズドループ制御で帯域幅100Hzまで対応。駆動部や位置センサなど一体型のモジュールで外部コントローラが不要。UART, SPI, I2C ,アナログサーボのインターフェイスで制御が可能です。組込み用途でご使用いただけます。また開発キットもご用意いたしております。

外部・内部量子効率を同時測定できる経済的なソリューションです

強力な64ビットTTTRデータ取得と分析を行うソフトウェアです。時間分解共焦点顕微鏡MicroTime 200､MicroTime 200､LSMアップグレードキット、またはTCSPC機器でのデータ取得及び、分析のためのソリューションを提供。スクリプト言語「STUPSLANG」により、新しい分析手順を自由に追加、既存の分析手順をカスタマイズ可能。デモ機をご用意しております。

レーザー光強度の制御や高速スイッチングに最適。デジタル/アナログ、RF周波数、シングル/ダブルなど、広範なラインナップから選択可。

Hi’Res-Cプローブはシリコンプローブよりも汚染が少なく、より多い枚数の高解像度スキャンの実行が可能です。Hi’Res-Cは微小領域 (< 250 nm) の走査や、平坦なサンプル (Ra < 20 nm) の測定で顕著に能力を発揮します。*本プローブは先端の曲率半径が小さいため、先端とサンプルの相互作用力は小さくなります。

ピコ秒及びフェムト秒の高速パルスの間引き用に開発

優れた直線性と温度特性。静的な変位測定のスタンダードモデル。

ブルーレーザーは金属への高い吸収率から金属加工にとって理想的なレーザーです。波長～444nm。BLシリーズ（125W, 250W）とBL-Fシリーズ（125W, 250W, 500W, 1000W）をご用意しています。汎用的なガルバノスキャナとの一体化が可能。はんだ付け、ワイヤなど、薄い銅またはアルミニウム板の接合・溶接に最適です。赤外線レーザーやグリーンレーザーよりも優れた効率で金属加工を行うこと可能です。

100Wと200Wモデルがございます。200Wモデルは錆取りや塗装膜除去に最適なレーザーを搭載しております。

ニューポートのコーティング技術は、高出力のエキシマからYAGまで、 広範囲に亘って対応しています。
ニューポート社製 Optics製品の詳細は、専用サイトをご参照下さい。

ファイバ出力レーザー製造で培われた高い光ファイバ技術。 400～875 nm。APC or PC。ジャケット選択可。

CWレーザー測定対応。波長精度 最高±0.0001nm。1台で波長測定＆スペクトル分析が可能。可視光(VIS)から中赤外(MIR)領域まで (375nm to 12μm) の波長域をカバー。マイケルソン干渉計ベース。パルスレーザー(>50kHz)の測定が可能。

10¹³もの高いダイナミックレンジを達成3次フェムト秒クロスコリレータ。 特に高磁場物理学で一般に使用される高強度レーザーのパルス特性評価に極めて有用。

ナノ粒子のSEM・TEMまたはAFM観察を容易にするサンプル・プレパレーション装置。
分散溶媒中に溶かしたナノ粒子を、静電噴霧でSi基板やカーボン蒸着膜基板へ分散塗布します。

HQ:NSCプローブモデルには、磁気力顕微鏡（MFM)用のコーティングを施した製品もご用意しております。コーティングはチップサイドに膜厚60 nmのコバルト層があり、さらに酸化防止のクロムフィルム膜厚20 nmがカバーしています。トポグラフィーと磁気特性の安定した測定のためにカンチレバーのパラメーターは最適化されています。

高密度マルチチャンネルのパルスパターン発生器及びビットエラー検出器です。光トランシーバーや光学電子部品での設計、特性評価、製造用のテストで使用いただけます。