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製品情報

Sympatec 粒度分布測定装置

Sympatec 粒度分布測定装置

ドイツSympatec社は、1984年にクラウスタール工科大学からスピンオフした粒度分布測定装置の専門メーカーです。乾式測定のパイオニアとして知られ、レーザー回折式の粒度分布測定装置HELOS & RODOSは、その高い性能により世界各国の研究開発、品質管理の現場に採用されています。

また、レーザー回折式以外にも、動的画像式や超音波減衰式などの各種の粒度分布測定装置をラインナップしており、あらゆる粒径や性質の粉体の測定に対して、最適なソリューションを提供します。測定器としての信頼性を最重視しており、どの装置にも測定確度や測定再現性を高めるような工夫が凝らされています。


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レーザー回折式 粒度分布測定装置 HELOS New

Sympatec  

乾式測定における試料分散性能と測定再現性に優れており、凝集しやすい試料でも安定して測定できます。世界各国に多数の納入実績があり、製薬、化学、磁性体、食品などの様々な業界で採用されています。(測定範囲: 0.1~3500 µm)

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動的画像式 粒度・形状分布測定装置 QICPIC New

Sympatec  

パルスレーザーによる高速撮像によって多数の粒子を測定するため、個々の粒子を測定しながらも、統計的に信頼性の高い解析が可能です。全ての粒子画像が生データとして保存されるため、形状も定量的に解析できます。乾式・湿式を問わず多様な試料に対応します。(測定範囲 0.55~34000µm)

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超音波減衰式 粒度分布測定装置 OPUS New

Sympatec  

一般的な光学的手法では測定が困難な高濃度・高粘度の試料を、希釈することなく、インラインまたはオンラインで測定できます。ミリング、結晶化、重合、沈降、乳化などのプロセスを、リアルタイムに管理する用途に最適です。(測定粒子サイズ <0.1~3000 µm)

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動的光散乱法 粒度分布測定装置 NANOPHOX New

Sympatec  

一般的な動的光散乱法とは異なり、光源とセンサを2つずつ用いる「クロスコリレーション法」を採用しています。そのため、高濃度な試料でも多重散乱の影響を排除した正確な測定が可能です。(測定範囲 0.5 nm~10 μm)

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受託粒度分布測定・各種サービス New

Sympatec  

粒度分布測定に関する受託測定やコンサルティングなど、様々なサービスをご提供いたします。

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