製品詳細

メーカー Genia Photonics  

パルス幅可変 高出力 1064 nm MOPA レーザー

主な機能と仕様

100psから2nsまでの広いパルス幅を可変
研究用途に最適な柔軟性の高いシステム

  • パルス幅可変:100~2000 ps
  • 高い平均出力: > 15 W
  • 高いピークパワー:> 15 kW
  • 完全コンピュータ制御
  • レーザー間の電気的遅延可能

Genia Photonics Inc.について

カナダGenia Photonics社は、FG2Tech社とOptav SoluAons Inc.の合併により2009年に設立され、高機能ファイバーレーザーの開発と製造に特化したメーカーです。

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概要と特徴

Genia Photonics 社の高出力 1064 nm MOPA レーザーは、高い平均出力とピークパワーをもち、パルス幅をピコ秒からナノ秒レベルの広い範囲にわたってチューニングできます。エレクトロニクス及びソフトウェアは先進的で、グラフィカル・ユーザー・インタフェース(GUI)により全パラメータを完全にコンピュータ制御できます。

パルス幅のチューナビリティーを必要とするあらゆる研究用途に最適な高出力レーザーです。ピコ秒チタンサファイアレーザーに代わる低価格で柔軟性の高い光源としてお使いいただけます。スタンドアローンシステム、シードレーザーのいずれにも好適です。

主な仕様

  • 中心波長: 1064 nm
  • スペクトル幅(3dB): < 200 pm
  • パルス幅, FWHM: 100~2000 ps, チューナブル
  • 平均出力パワー: > 15 W
  • ピークパワー: > 15 kW
  • パルスエネルギー: パルス幅依存
  • 繰返し周波数: 0.1~120 MHz, 調整可能
  • 直線偏光
  • ビーム品質: M2 < 1.5

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